將傳統(tǒng)玻片數(shù)字化，進(jìn)行存儲(chǔ)與管理，可建立數(shù)字切片庫(kù)，便于培訓(xùn)、分析、管理等，脫離時(shí)間、空間限制。

將傳統(tǒng)玻片數(shù)字化，進(jìn)行存儲(chǔ)與管理，可建立數(shù)字切片庫(kù)，便于培訓(xùn)、分析、管理等，脫離時(shí)間、空間限制。

將傳統(tǒng)玻片數(shù)字化，進(jìn)行存儲(chǔ)與管理，可建立數(shù)字切片庫(kù)，便于培訓(xùn)、分析、管理等，脫離時(shí)間、空間限制。

電子束曝光一種高分辨率的微細(xì)加工技術(shù)，廣泛應(yīng)用于納米科技和半導(dǎo)體制造領(lǐng)域。其基本原理是利用聚焦的電子束在光刻膠上進(jìn)行直接寫入，通過(guò)改變光刻膠的化學(xué)性質(zhì)來(lái)形成微納米結(jié)構(gòu)圖案。上海納騰儀器有限公司自主研發(fā)...

1. SE series可執(zhí)行Thermal-ALD，PEALD，與ALA等先進(jìn)制程。 2. SE series具有高度的改造彈性，但其性能與穩(wěn)定性并不因此而犧牲。 3. 原子層沉積系統(tǒng)設(shè)計(jì)具...

WinSPM EDU 系統(tǒng)榮獲“全國(guó)教學(xué)儀器設(shè)備評(píng)比較好獎(jiǎng)”,該獎(jiǎng)項(xiàng)由國(guó)家教育裝備委員會(huì)頒發(fā)，表彰其在納米教育實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)方面的創(chuàng)新設(shè)計(jì)、穩(wěn)定性能和在全國(guó)高校廣泛應(yīng)用中的突出表現(xiàn)。

日本東宇 是業(yè)界知名的氮?dú)獍l(fā)生器廠家,擁有30年豐富的銷售經(jīng)驗(yàn)及專業(yè)的售后支持團(tuán)隊(duì)。 日本京都的研發(fā)生產(chǎn)中心, 與合作實(shí)驗(yàn)室持續(xù)開(kāi)發(fā)新機(jī)型。 在日本、 中國(guó)等多國(guó)取得多項(xiàng)技術(shù)專利。工廠通過(guò)ISO9...

較為低的曲率半徑：每根針經(jīng)過(guò)質(zhì)檢； 較小探針差異：較為特加工工藝實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)控制

AIUniBeam”是一種基于Al的光束均勻性補(bǔ)償技術(shù)采用光束輪廓儀進(jìn)行補(bǔ)償。光束輪廓儀測(cè)量每個(gè)像素的強(qiáng)度，然后通過(guò)像素控制對(duì)局部強(qiáng)度進(jìn)行補(bǔ)償和優(yōu)化，以滿足98%以上的均勻性。

電子束曝光指利用聚焦電子束在光刻膠上制造圖形的工藝 ， 是光刻工藝的延伸應(yīng)用 。 電子束曝光系統(tǒng)是實(shí)現(xiàn)電子束曝光 技術(shù)的硬件平臺(tái)，系統(tǒng)的性能決定了曝光工藝關(guān)鍵尺寸、拼接和套刻精度等參數(shù)。

等離子清洗、蝕刻系統(tǒng)，PE&RIE等離子蝕刻模式,單、雙、多 模式選擇

聚對(duì)二甲苯涂層設(shè)備

桌面式等離子清洗、蝕刻系統(tǒng)，PE等離子蝕刻模式

桌面式等離子清洗、蝕刻系統(tǒng)，等離子刻蝕&反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)

VIL系列納米圖形系統(tǒng)（激光干涉光刻機(jī)）具有快速可重構(gòu)光束傳輸、主動(dòng)圖形穩(wěn)定和精確樣品定位等強(qiáng)大功能。該系統(tǒng)可以通過(guò)使用標(biāo)準(zhǔn)2cm×2cm正方形或用戶定義形狀的圖案場(chǎng)進(jìn)行重復(fù)曝光，在8英寸大面積上產(chǎn)生

通過(guò)將產(chǎn)品固定在拋光頭的較下面，拋光時(shí)，旋轉(zhuǎn)的拋光頭以一定的壓力壓在旋轉(zhuǎn)的拋光墊上，拋光液在拋光墊的傳輸和離心力的作用下，均勻分布其上，在硅片和拋光墊之間形成一層拋光液液體薄膜。