氮?dú)獍l(fā)生器-TOUDENKI
電子束曝光系統(tǒng)-納騰Pharos 310電子束曝光系統(tǒng)
掃描電子顯微鏡 shnti 電子顯微鏡
等離子清洗機(jī) SHNTI YP-20等離子清洗機(jī)
離子濺射鍍膜儀 SHNTI 鍍膜儀
日本東宇 是業(yè)界知名的氮?dú)獍l(fā)生器廠家,擁有30年豐富的銷售經(jīng)驗(yàn)及專業(yè)的售后支持團(tuán)隊(duì)。
日本京都的研發(fā)生產(chǎn)中心, 與合作實(shí)驗(yàn)室持續(xù)開發(fā)新機(jī)型。 在日本、 中國(guó)等多國(guó)取得多項(xiàng)技術(shù)專利。工廠通過ISO9001認(rèn)證,
所有產(chǎn)品皆在ISO標(biāo)準(zhǔn)下嚴(yán)格執(zhí)行完成,擁有良好的品質(zhì)及機(jī)臺(tái)穩(wěn)定性。連續(xù)多年榮獲京都優(yōu)良企業(yè)表彰、 日本KBS新聞臺(tái)專訪報(bào)導(dǎo)。 東宇以誠(chéng)信、 專業(yè)為宗旨,致力于為用戶提供較優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品 ,以及較專業(yè)的服務(wù)!
東宇五大特色
1. 100%原裝進(jìn)口
2.實(shí)時(shí)純度監(jiān)測(cè)
3.分子篩保固10年
4.免排水 , 維護(hù)簡(jiǎn)易
5.采用PSA技術(shù) , 可產(chǎn)生99 . 999%穩(wěn)定高純度氮

分子篩碳MSC
氮?dú)庀到y(tǒng)流程圖


Micro Mini / TNH 迷你系列


氮空系列一體機(jī)

TKH -HP 大流量系列 (分體機(jī))

NHP 超大流量系列 (分體機(jī))

LC/MS. LC/MS/MS 專用氮?dú)獍l(fā)生器

TJ輕巧系列

LIGHT系列

CONCISE系列

應(yīng)用
半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器
原子沉積(ALD)、氣相沉積(CVD、PVD)、濺射鍍膜儀、掃描電鏡 SEM、透射電鏡TEM、FT-IR、探針臺(tái)、光刻機(jī)、單晶爐、退火爐、等離子蝕刻設(shè)備、清洗機(jī)、焊線機(jī)、鍵合機(jī)、貼片機(jī)、電子束曝光 機(jī)、烘箱…等,需要超高純度99.999%以上的潔凈氮?dú)庾鳛榉諊鷼? 保護(hù)或干燥吹掃使用。
物性測(cè)試儀器
熱分析儀器:差示掃描量熱儀DSC、TOC、熱重分析儀TGA、動(dòng)態(tài)熱機(jī) 械分析儀(DMA/TMA/DMTA)、流變儀、試驗(yàn)箱等,需要99.999% 以上的潔凈氮?dú)庾鳛楸Wo(hù)氛圍氣或載氣使用。
分析檢測(cè)儀器
質(zhì)譜儀、色譜儀、光譜儀、X射線儀(SC-XRD、XRF-MS)、ELSD、 CAD、需要高純度氮?dú)?作為霧化及載氣使用,高純潔凈的氮?dú)? 可減少雜志進(jìn)入質(zhì)樸,維持良好的靈敏度。
其他儀器
氮吹儀、無氧烘箱、潔凈烘箱、電氣爐、馬弗爐、培養(yǎng)箱、手套箱等
超小型氮?dú)獍l(fā)生器 — MICRO MINI

分子篩 PSA一體機(jī)

專利節(jié)能機(jī)面板


報(bào)價(jià):面議
已咨詢14次掃描電子顯微鏡及相關(guān)設(shè)備
報(bào)價(jià):¥160000
已咨詢3777次液質(zhì)專用氮?dú)獍l(fā)生器
報(bào)價(jià):面議
已咨詢1024次氮?dú)獍l(fā)生器
報(bào)價(jià):面議
已咨詢353次氮?dú)獍l(fā)生器
報(bào)價(jià):面議
已咨詢137次高純氣體發(fā)生器-氫氣*空氣
報(bào)價(jià):面議
已咨詢99次空氣發(fā)生器/真空泵
報(bào)價(jià):面議
已咨詢134次空氣發(fā)生器/真空泵
報(bào)價(jià):面議
已咨詢145次空氣發(fā)生器/真空泵
日本東宇 是業(yè)界知名的氮?dú)獍l(fā)生器廠家,擁有30年豐富的銷售經(jīng)驗(yàn)及專業(yè)的售后支持團(tuán)隊(duì)。 日本京都的研發(fā)生產(chǎn)中心, 與合作實(shí)驗(yàn)室持續(xù)開發(fā)新機(jī)型。 在日本、 中國(guó)等多國(guó)取得多項(xiàng)技術(shù)專利。工廠通過ISO9001認(rèn)證。
較為低的曲率半徑:每根針經(jīng)過質(zhì)檢; 較小探針差異:較為特加工工藝實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)控制
AIUniBeam”是一種基于Al的光束均勻性補(bǔ)償技術(shù)采用光束輪廓儀進(jìn)行補(bǔ)償。光束輪廓儀測(cè)量每個(gè)像素的強(qiáng)度,然后通過像素控制對(duì)局部強(qiáng)度進(jìn)行補(bǔ)償和優(yōu)化,以滿足98%以上的均勻性。
電子束曝光指利用聚焦電子束在光刻膠上制造圖形的工藝 , 是光刻工藝的延伸應(yīng)用 。 電子束曝光系統(tǒng)是實(shí)現(xiàn)電子束曝光 技術(shù)的硬件平臺(tái),系統(tǒng)的性能決定了曝光工藝關(guān)鍵尺寸、拼接和套刻精度等參數(shù)。
我們的SERS基底采用創(chuàng)新技術(shù)制造,使您可以進(jìn)行SERS快速和重復(fù)測(cè)量,從而對(duì)SERS活性的樣品進(jìn)行定性分析和定量分析。