離子刻蝕機(jī) VITA反應(yīng)離子刻蝕機(jī)（垂直腔室）
刻蝕清洗系統(tǒng) COWIN高通量綜合等離子反應(yīng)離子刻蝕清洗系統(tǒng)
聚對(duì)二甲苯涂層設(shè)備 LAVIDA 聚對(duì)二甲苯涂層設(shè)備
離子刻蝕機(jī)清洗機(jī)Co系列桌面式等離子刻蝕機(jī)清洗機(jī)
等離子CLONE雙模式等離子刻蝕機(jī)清洗機(jī)
桌面式等離子清洗、蝕刻系統(tǒng)，PE等離子蝕刻模式
腔室結(jié)構(gòu)：
型號(hào)比較：
應(yīng)用：
· 表面清洗活化
· 表面蝕刻
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已咨詢222次等離子設(shè)備
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已咨詢201次等離子設(shè)備
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已咨詢222次等離子設(shè)備
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已咨詢213次等離子設(shè)備
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已咨詢2927次Nanomaster
報(bào)價(jià)：￥200000
已咨詢718次離子刻蝕機(jī),電子蒸發(fā)鍍膜機(jī)
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已咨詢5309次鍍膜設(shè)備
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已咨詢242次等離子清洗機(jī)
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已咨詢2317次德國(guó) Sentech
將傳統(tǒng)玻片數(shù)字化，進(jìn)行存儲(chǔ)與管理，可建立數(shù)字切片庫(kù)，便于培訓(xùn)、分析、管理等，脫離時(shí)間、空間限制。
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電子束曝光一種高分辨率的微細(xì)加工技術(shù)，廣泛應(yīng)用于納米科技和半導(dǎo)體制造領(lǐng)域。其基本原理是利用聚焦的電子束在光刻膠上進(jìn)行直接寫入，通過(guò)改變光刻膠的化學(xué)性質(zhì)來(lái)形成微納米結(jié)構(gòu)圖案。上海納騰儀器有限公司自主研發(fā)的電子束曝光機(jī)（Pharos系列產(chǎn)品）， 具有高分辨率、 精準(zhǔn)控制和高度自動(dòng)化的優(yōu)勢(shì)， 被廣泛應(yīng)用于制備半導(dǎo)體芯片、 光子學(xué)元件和其他微納米結(jié)構(gòu)等領(lǐng)域， 是進(jìn)行亞微米至納米級(jí)曝光技術(shù)研發(fā)的理想工具。
1. SE series可執(zhí)行Thermal-ALD，PEALD，與ALA等先進(jìn)制程。 2. SE series具有高度的改造彈性，但其性能與穩(wěn)定性并不因此而犧牲。 3. 原子層沉積系統(tǒng)設(shè)計(jì)具有便捷、穩(wěn)定、再現(xiàn)性高的產(chǎn)品定位。
WinSPM EDU 系統(tǒng)榮獲“全國(guó)教學(xué)儀器設(shè)備評(píng)比較好獎(jiǎng)”,該獎(jiǎng)項(xiàng)由國(guó)家教育裝備委員會(huì)頒發(fā)，表彰其在納米教育實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)方面的創(chuàng)新設(shè)計(jì)、穩(wěn)定性能和在全國(guó)高校廣泛應(yīng)用中的突出表現(xiàn)。
日本東宇 是業(yè)界知名的氮?dú)獍l(fā)生器廠家,擁有30年豐富的銷售經(jīng)驗(yàn)及專業(yè)的售后支持團(tuán)隊(duì)。 日本京都的研發(fā)生產(chǎn)中心, 與合作實(shí)驗(yàn)室持續(xù)開發(fā)新機(jī)型。 在日本、 中國(guó)等多國(guó)取得多項(xiàng)技術(shù)專利。工廠通過(guò)ISO9001認(rèn)證。
較為低的曲率半徑：每根針經(jīng)過(guò)質(zhì)檢； 較小探針差異：較為特加工工藝實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)控制
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