離子刻蝕機 VITA反應(yīng)離子刻蝕機（垂直腔室）
刻蝕清洗系統(tǒng) COWIN高通量綜合等離子反應(yīng)離子刻蝕清洗系統(tǒng)
聚對二甲苯涂層設(shè)備 LAVIDA 聚對二甲苯涂層設(shè)備
離子刻蝕機清洗機Co系列桌面式等離子刻蝕機清洗機
等離子CLONE雙模式等離子刻蝕機清洗機
簡介
等離子清洗、蝕刻系統(tǒng)，PE&RIE等離子蝕刻模式,單、雙、多 模式選擇
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已咨詢224次等離子設(shè)備
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已咨詢200次等離子設(shè)備
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已咨詢222次等離子設(shè)備
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已咨詢191次激光干涉光刻機
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已咨詢211次CMP拋光機
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已咨詢213次長晶設(shè)備
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已咨詢274次長晶設(shè)備
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已咨詢373次原子層沉積系統(tǒng)ALD產(chǎn)品
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已咨詢179次等離子設(shè)備
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已咨詢3589次等離子清洗機
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已咨詢225次沉積設(shè)備
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已咨詢208次刻蝕設(shè)備
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已咨詢200次等離子設(shè)備
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已咨詢1531次等離子表面處理儀
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已咨詢1880次電鏡制樣產(chǎn)品
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將傳統(tǒng)玻片數(shù)字化，進行存儲與管理，可建立數(shù)字切片庫，便于培訓、分析、管理等，脫離時間、空間限制。
將傳統(tǒng)玻片數(shù)字化，進行存儲與管理，可建立數(shù)字切片庫，便于培訓、分析、管理等，脫離時間、空間限制。
將傳統(tǒng)玻片數(shù)字化，進行存儲與管理，可建立數(shù)字切片庫，便于培訓、分析、管理等，脫離時間、空間限制。
電子束曝光一種高分辨率的微細加工技術(shù)，廣泛應(yīng)用于納米科技和半導(dǎo)體制造領(lǐng)域。其基本原理是利用聚焦的電子束在光刻膠上進行直接寫入，通過改變光刻膠的化學性質(zhì)來形成微納米結(jié)構(gòu)圖案。上海納騰儀器有限公司自主研發(fā)的電子束曝光機（Pharos系列產(chǎn)品）， 具有高分辨率、 精準控制和高度自動化的優(yōu)勢， 被廣泛應(yīng)用于制備半導(dǎo)體芯片、 光子學元件和其他微納米結(jié)構(gòu)等領(lǐng)域， 是進行亞微米至納米級曝光技術(shù)研發(fā)的理想工具。
1. SE series可執(zhí)行Thermal-ALD，PEALD，與ALA等先進制程。 2. SE series具有高度的改造彈性，但其性能與穩(wěn)定性并不因此而犧牲。 3. 原子層沉積系統(tǒng)設(shè)計具有便捷、穩(wěn)定、再現(xiàn)性高的產(chǎn)品定位。
WinSPM EDU 系統(tǒng)榮獲“全國教學儀器設(shè)備評比較好獎”,該獎項由國家教育裝備委員會頒發(fā)，表彰其在納米教育實驗系統(tǒng)方面的創(chuàng)新設(shè)計、穩(wěn)定性能和在全國高校廣泛應(yīng)用中的突出表現(xiàn)。
日本東宇 是業(yè)界知名的氮氣發(fā)生器廠家,擁有30年豐富的銷售經(jīng)驗及專業(yè)的售后支持團隊。 日本京都的研發(fā)生產(chǎn)中心, 與合作實驗室持續(xù)開發(fā)新機型。 在日本、 中國等多國取得多項技術(shù)專利。工廠通過ISO9001認證。
較為低的曲率半徑：每根針經(jīng)過質(zhì)檢； 較小探針差異：較為特加工工藝實現(xiàn)精準控制
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