日本東宇 是業(yè)界知名的氮?dú)獍l(fā)生器廠家,擁有30年豐富的銷(xiāo)售經(jīng)驗(yàn)及專(zhuān)業(yè)的售后支持團(tuán)隊(duì)。 日本京都的研發(fā)生產(chǎn)中心, 與合作實(shí)驗(yàn)室持續(xù)開(kāi)發(fā)新機(jī)型。 在日本、 中國(guó)等多國(guó)取得多項(xiàng)技術(shù)專(zhuān)利。工廠通過(guò)ISO9...

電子束曝光指利用聚焦電子束在光刻膠上制造圖形的工藝 ， 是光刻工藝的延伸應(yīng)用 。 電子束曝光系統(tǒng)是實(shí)現(xiàn)電子束曝光 技術(shù)的硬件平臺(tái)，系統(tǒng)的性能決定了曝光工藝關(guān)鍵尺寸、拼接和套刻精度等參數(shù)。

采用肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍 （FEG） 技術(shù)。先進(jìn)的全柱加速技術(shù)集成到電子光學(xué)柱中 ，確保在低加速電壓下具有出色的成像性能，實(shí)現(xiàn)各種材料的高分辨率成像。

新型電感耦合技術(shù)(ICP)產(chǎn)生等離子體,粒子密度遠(yuǎn)高于傳統(tǒng)的電容耦合技術(shù)(CCP) 產(chǎn)生的高濃度氧自由基可高效去除樣品表面碳?xì)湮廴疚? “DOWNSTREAM”清洗方式對(duì)樣品無(wú)損傷,表面原始形貌被完...

用戶(hù)界面簡(jiǎn)潔，參數(shù)設(shè)置便利 工作時(shí)顯示設(shè)備關(guān)鍵參數(shù)，全過(guò)程可控 模塊化設(shè)計(jì)，不同功能間切換快捷

集Downstream等離子體、紫外輻照、加熱真空脫附三種清洗模式于一體，隨時(shí)切換。 適用于各種掃描電鏡、聚焦離子束顯微鏡、透射電鏡樣品清洗。

樣品室可抽高真空用于樣品真空保存。 卷帶親水化處理，顯著改善親水性。