WinSPM EDU掃描探針顯微鏡教學(xué)實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)
電鏡原位原子力 EM-AFM 電鏡原位原子力顯微鏡
電學(xué)原子力 Nano observer 電學(xué)原子力顯微鏡
可旋轉(zhuǎn)顯微鏡 NX-3DM 可旋轉(zhuǎn)全自動(dòng)原子力顯微鏡
全自動(dòng)顯微鏡 NX-HDM 全自動(dòng)缺陷檢測(cè)原子力顯微鏡
WinSPM EDU 系統(tǒng)榮獲“全國(guó)教學(xué)儀器設(shè)備評(píng)比較好獎(jiǎng)”,該獎(jiǎng)項(xiàng)由國(guó)家教育裝備委員會(huì)頒發(fā),表彰其在納米教育實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)方面的創(chuàng)新設(shè)計(jì)、穩(wěn)定性能和在全國(guó)高校廣泛應(yīng)用中的突出表現(xiàn).
WinSPM EDU是專為高校納米科技教學(xué)設(shè)計(jì)的掃描探針顯微鏡系統(tǒng),集成多種成像模式,支持多種探針類型,搭載智能控制軟件平臺(tái),廣泛用于教學(xué)實(shí)驗(yàn)、課程開發(fā)與科研訓(xùn)練。
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)
· 無(wú)需激光調(diào)節(jié),操作簡(jiǎn)便,安全性高
· 兼容壓電自感知探針,實(shí)現(xiàn)力曲線與納米壓痕分析
· 小體積集成設(shè)計(jì),便于教學(xué)實(shí)驗(yàn)部署
· 支持原子級(jí)分辨率,適合高等教育與科研訓(xùn)練
· 功能覆蓋科研與教學(xué)多任務(wù)場(chǎng)景
·模塊化設(shè)計(jì),升級(jí)空間大,維護(hù)成本低
技術(shù)

技術(shù)規(guī)格
· 支持接觸模式、輕敲模式、相位成像、頻率調(diào)制成像等多種掃描模式;
· 較大掃描范圍:20×20×3μm3, 較小分辨率優(yōu)于0.1 nm;
· 平臺(tái)支持樣品較大尺寸:直徑20 mm, 厚 度 ≤ 5 mm;
· 探針支持:自感知壓電探針/激光調(diào)頻探針;
·掃描控制器支持閉環(huán)反饋與圖像拼接功能;
· 兼容光學(xué)模塊與視頻接口,支持在線監(jiān)控;
· 軟件平臺(tái)支持:圖像分析、高度統(tǒng)計(jì)、截面測(cè)量、3D 渲染等;
·硬件接口豐富,預(yù)留升級(jí)通道,兼容STEM 課程集成。
應(yīng)用
教學(xué)實(shí)驗(yàn)方案
· 原子力顯微圖像成像實(shí)驗(yàn)
· 探針力學(xué)行為與納米力曲線測(cè)量
· 表面形貌與微納結(jié)構(gòu)分析
· STM 成像原理驗(yàn)證(可選)
· 納米成像數(shù)據(jù)處理與3D 圖形分析
· 基于圖像識(shí)別的樣品分類實(shí)驗(yàn)
成像效果示例
· 二維材料原子陣列可視化
· 納米顆粒團(tuán)聚結(jié)構(gòu)
· 生物樣品膜結(jié)構(gòu)
· 晶體臺(tái)階高度分析

典型應(yīng)用領(lǐng)域
·半導(dǎo)體工藝教學(xué)與失效分析
· 材料科學(xué)研究
· 光電器件表征
· 表面工程與粗糙度分析
· 微納加工課程支持
· 高等院校與科研機(jī)構(gòu)通識(shí)納米實(shí)驗(yàn)平臺(tái)
報(bào)價(jià):面議
已咨詢487次生物正置顯微鏡
報(bào)價(jià):面議
已咨詢610次臺(tái)式電子順磁共振波譜儀
報(bào)價(jià):面議
已咨詢5491次掃描探針顯微鏡SPM (原子力顯微鏡)
報(bào)價(jià):面議
已咨詢1770次掃描探針顯微鏡SPM(原子力顯微鏡AFM、掃描隧道顯微鏡STM)
報(bào)價(jià):面議
已咨詢5610次掃描探針顯微鏡SPM (原子力顯微鏡)
報(bào)價(jià):面議
已咨詢2323次表面成像
報(bào)價(jià):面議
已咨詢748次原子力顯微鏡
報(bào)價(jià):面議
已咨詢794次原子力顯微鏡
WinSPM EDU 系統(tǒng)榮獲“全國(guó)教學(xué)儀器設(shè)備評(píng)比較好獎(jiǎng)”,該獎(jiǎng)項(xiàng)由國(guó)家教育裝備委員會(huì)頒發(fā),表彰其在納米教育實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)方面的創(chuàng)新設(shè)計(jì)、穩(wěn)定性能和在全國(guó)高校廣泛應(yīng)用中的突出表現(xiàn)。
日本東宇 是業(yè)界知名的氮?dú)獍l(fā)生器廠家,擁有30年豐富的銷售經(jīng)驗(yàn)及專業(yè)的售后支持團(tuán)隊(duì)。 日本京都的研發(fā)生產(chǎn)中心, 與合作實(shí)驗(yàn)室持續(xù)開發(fā)新機(jī)型。 在日本、 中國(guó)等多國(guó)取得多項(xiàng)技術(shù)專利。工廠通過(guò)ISO9001認(rèn)證。
較為低的曲率半徑:每根針經(jīng)過(guò)質(zhì)檢; 較小探針差異:較為特加工工藝實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)控制
AIUniBeam”是一種基于Al的光束均勻性補(bǔ)償技術(shù)采用光束輪廓儀進(jìn)行補(bǔ)償。光束輪廓儀測(cè)量每個(gè)像素的強(qiáng)度,然后通過(guò)像素控制對(duì)局部強(qiáng)度進(jìn)行補(bǔ)償和優(yōu)化,以滿足98%以上的均勻性。
電子束曝光指利用聚焦電子束在光刻膠上制造圖形的工藝 , 是光刻工藝的延伸應(yīng)用 。 電子束曝光系統(tǒng)是實(shí)現(xiàn)電子束曝光 技術(shù)的硬件平臺(tái),系統(tǒng)的性能決定了曝光工藝關(guān)鍵尺寸、拼接和套刻精度等參數(shù)。
我們的SERS基底采用創(chuàng)新技術(shù)制造,使您可以進(jìn)行SERS快速和重復(fù)測(cè)量,從而對(duì)SERS活性的樣品進(jìn)行定性分析和定量分析。