電子束曝光一種高分辨率的微細(xì)加工技術(shù)，廣泛應(yīng)用于納米科技和半導(dǎo)體制造領(lǐng)域。其基本原理是利用聚焦的電子束在光刻膠上進(jìn)行直接寫(xiě)入，通過(guò)改變光刻膠的化學(xué)性質(zhì)來(lái)形成微納米結(jié)構(gòu)圖案。上海納騰儀器有限公司自主研發(fā)...

1. SE series可執(zhí)行Thermal-ALD，PEALD，與ALA等先進(jìn)制程。 2. SE series具有高度的改造彈性，但其性能與穩(wěn)定性并不因此而犧牲。 3. 原子層沉積系統(tǒng)設(shè)計(jì)具...

AIUniBeam”是一種基于Al的光束均勻性補(bǔ)償技術(shù)采用光束輪廓儀進(jìn)行補(bǔ)償。光束輪廓儀測(cè)量每個(gè)像素的強(qiáng)度，然后通過(guò)像素控制對(duì)局部強(qiáng)度進(jìn)行補(bǔ)償和優(yōu)化，以滿足98%以上的均勻性。

等離子清洗、蝕刻系統(tǒng)，PE&RIE等離子蝕刻模式,單、雙、多 模式選擇

聚對(duì)二甲苯涂層設(shè)備

桌面式等離子清洗、蝕刻系統(tǒng)，PE等離子蝕刻模式

桌面式等離子清洗、蝕刻系統(tǒng)，等離子刻蝕&反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)

VIL系列納米圖形系統(tǒng)（激光干涉光刻機(jī)）具有快速可重構(gòu)光束傳輸、主動(dòng)圖形穩(wěn)定和精確樣品定位等強(qiáng)大功能。該系統(tǒng)可以通過(guò)使用標(biāo)準(zhǔn)2cm×2cm正方形或用戶定義形狀的圖案場(chǎng)進(jìn)行重復(fù)曝光，在8英寸大面積上產(chǎn)生

通過(guò)將產(chǎn)品固定在拋光頭的較下面，拋光時(shí)，旋轉(zhuǎn)的拋光頭以一定的壓力壓在旋轉(zhuǎn)的拋光墊上，拋光液在拋光墊的傳輸和離心力的作用下，均勻分布其上，在硅片和拋光墊之間形成一層拋光液液體薄膜。

PVT碳化硅晶體生長(zhǎng)工藝主要通過(guò)設(shè)置合適的長(zhǎng)晶溫度以及長(zhǎng)晶氣壓，在此溫度以及氣壓下SiC發(fā)生明顯的分解與升華，產(chǎn)生Si和SiC蒸氣壓，在高溫爐內(nèi)形成的溫度梯度作用下向低溫方向輸送并凝聚在頂部和底部較低

微波等離子體化學(xué)氣相沉積（MPCVD）系統(tǒng)，微波發(fā)生器產(chǎn)生的微波用波導(dǎo)管傳輸至反應(yīng)器，并向反應(yīng)器中通入不同氣體構(gòu)成的混合氣體，高強(qiáng)度微波能激發(fā)分解基片上方的含碳?xì)怏w形成活性含碳基團(tuán)和原子態(tài)氫，并形成等

原子層沉積（atomic layer deposition, ALD）是通過(guò)氣相前驅(qū)體及反應(yīng)物脈沖交替的通入反應(yīng)腔并在基底上發(fā)生表面化學(xué)反應(yīng)形成薄膜的一種方法

NIL壓印機(jī)的基本思想是通過(guò)模版，將圖形轉(zhuǎn)移到相應(yīng)的襯底上，轉(zhuǎn)移的媒介通常是一層很薄的聚合物膜，通過(guò)熱壓或者輻照等方法使其結(jié)構(gòu)硬化從而保留下轉(zhuǎn)移的圖形。整個(gè)過(guò)程包括壓印和圖形轉(zhuǎn)移兩個(gè)過(guò)程。

NIL壓印機(jī)的基本思想是通過(guò)模版，將圖形轉(zhuǎn)移到相應(yīng)的襯底上，轉(zhuǎn)移的媒介通常是一層很薄的聚合物膜，通過(guò)熱壓或者輻照等方法使其結(jié)構(gòu)硬化從而保留下轉(zhuǎn)移的圖形。

納米壓印技術(shù)解決了傳統(tǒng)光刻在特征尺寸減小過(guò)程中的難題，具有分辨率高、低成本、高產(chǎn)率的特點(diǎn)。自1995年提出以來(lái)，納米壓印已經(jīng)經(jīng)過(guò)了14年的發(fā)展，演變出了多種壓印技術(shù)。