儀器網(wǎng)>產(chǎn)品中心>行業(yè)專用儀器>半導(dǎo)體行業(yè)>離子束刻蝕系統(tǒng) 更新時(shí)間：2026-04-14 01:46:41

離子束刻蝕系統(tǒng)

（共11件相關(guān)產(chǎn)品信息）

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產(chǎn)品分類：: 更多光刻機(jī)/臺(tái)式無(wú)掩模光刻機(jī) 離子減薄儀等離子體表面處理儀離子濺射儀電子束刻蝕系統(tǒng) 離子束刻蝕系統(tǒng) 激光刻蝕機(jī) 磁控濺射儀/磁控濺射鍍膜儀氣相沉積系統(tǒng) 分子束外延系統(tǒng) 激光濺射沉積系統(tǒng) 原子層沉積系統(tǒng) 勻膠機(jī)

產(chǎn)品產(chǎn)地：: 不限中國(guó)大陸大洋洲歐洲亞洲美洲

廠商性質(zhì)：: 不限自營(yíng) 代理經(jīng)銷

銷售地區(qū)：: 不限售全國(guó) 售本省售本市

產(chǎn)品品牌：

不限
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日本ELIONIX

北京華測(cè)

美國(guó)那諾-馬斯特

美國(guó)Nano-Master

牛津儀器

收起參數(shù)(產(chǎn)地、種類、應(yīng)用領(lǐng)域)

綜合

銷售地區(qū)

不限

售全國(guó)

售本省

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美Nano-master IBM離子銑/IBE離子束刻蝕系統(tǒng)NIE-4000

品牌：美國(guó)Nano-Master 型號(hào)：NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000, 產(chǎn)地：美洲美國(guó)

廠商：深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司

簡(jiǎn)介：IBM離子銑/IBE離子束刻蝕系統(tǒng)： NIE-4000 獨(dú)立式 IBE 刻蝕系統(tǒng) NIE-3500 緊湊型獨(dú)立式 IBE 刻蝕系統(tǒng) NIR-4000 獨(dú)立式 IBE / RIE 雙刻蝕系統(tǒng) NIE-3000 臺(tái)式 IBE 刻蝕系統(tǒng)
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NANO-MASTER的IBM離子銑系統(tǒng)或IBE離子束刻蝕系統(tǒng)

品牌：美國(guó)Nano-Master 型號(hào)：NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000 產(chǎn)地：美洲美國(guó)

廠商：深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司

簡(jiǎn)介：IBM離子銑/IBE離子束刻蝕系統(tǒng)： NIE-4000 獨(dú)立式 IBE 刻蝕系統(tǒng) NIE-3500 緊湊型獨(dú)立式 IBE 刻蝕系統(tǒng) NIR-4000 獨(dú)立式 IBE / RIE 雙刻蝕系統(tǒng) NIE-3000 臺(tái)式 IBE 刻蝕系統(tǒng) NANO-MASTER那諾-馬斯特的IBM離子銑系統(tǒng)或IBE離子束刻蝕系統(tǒng)具有很強(qiáng)的適應(yīng)性，可根據(jù)不同的應(yīng)用而按不同的配置進(jìn)行建構(gòu)
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Nano-Master離子束刻蝕系統(tǒng)NIE-4000

品牌：美國(guó)Nano-Master 型號(hào)：NIE-4000 產(chǎn)地：美洲美國(guó)

廠商：深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司

簡(jiǎn)介：NIE-4000 離子束刻蝕系統(tǒng)，NIR-4000 IBE/RIE 雙刻蝕系統(tǒng)，通過加速的 Ar 離子進(jìn)行物理刻蝕或銑削。對(duì)于硅的化合物也可以通過反應(yīng)離子束刻蝕的方式提高刻蝕速率和深寬比。
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離子束刻蝕機(jī)

品牌：美國(guó)Nano-Master 型號(hào)：NIE-4000，NIR-4000 IBE/RIE 產(chǎn)地：美洲美國(guó)

廠商：深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司

簡(jiǎn)介：NIE-4000 離子束刻蝕系統(tǒng)，NIR-4000 IBE/RIE 雙刻蝕系統(tǒng)，通過加速的 Ar 離子進(jìn)行物理刻蝕或銑削。對(duì)于硅的化合物也可以通過反應(yīng)離子束刻蝕的方式提高刻蝕速率和深寬比。
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Ionfab 300 IBE 牛津離子束刻蝕機(jī)

品牌：牛津儀器型號(hào)：Ionfab 300 IBE 產(chǎn)地：歐洲英國(guó)

廠商：深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司

簡(jiǎn)介：離子束刻蝕的靈活性、均勻性俱佳且應(yīng)用范圍廣。我們的設(shè)備具有靈活的硬件選項(xiàng)，包括直開式、單襯底傳送模式和盒式對(duì)盒式模式。系統(tǒng)配置與實(shí)際應(yīng)用緊密協(xié)調(diào)，以確保獲得速率更快且重復(fù)性更好的工藝結(jié)果。
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Nano-master 離子束刻蝕濺射鍍膜一體機(jī) NOC-4000

品牌：美國(guó)Nano-Master 型號(hào)：NOC-4000 產(chǎn)地：美洲美國(guó)

廠商：深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司

簡(jiǎn)介：Nano-master 離子束刻蝕濺射鍍膜一體機(jī) NOC-4000,提供zuixian極n的原子級(jí)清洗、拋光以及光學(xué)鍍膜技術(shù)。
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日本離子束刻蝕系統(tǒng)Elionix

品牌：日本ELIONIX 型號(hào)： EIS-200 產(chǎn)地：亞洲日本

廠商：深圳市科時(shí)達(dá)電子科技有限公司
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那諾-馬斯特 NIE-3500（A）全自動(dòng)IBE離子束刻蝕

品牌：美國(guó)那諾-馬斯特型號(hào)：NIE-3500（A）產(chǎn)地：美洲美國(guó)

廠商：那諾—馬斯特中國(guó)有限公司

簡(jiǎn)介：是一款自動(dòng)放片/取片，并且工藝過程為全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。
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那諾-馬斯特 NIE-4000（M）IBE離子束刻蝕

品牌：美國(guó)那諾-馬斯特型號(hào)：NIE-4000（M）產(chǎn)地：美洲美國(guó)

廠商：那諾—馬斯特中國(guó)有限公司

簡(jiǎn)介：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕無(wú)法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。通常情況下，樣品表面采用厚膠作為掩模層，刻蝕期間富有能量的離子流會(huì)使得基片和光刻膠過熱。除非可以找到有效的方式消除熱量，否則光刻膠將變得非常難以去除。
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離子束刻蝕系統(tǒng)

品牌：北京華測(cè) 型號(hào)：ADVANCED 產(chǎn)地：美洲美國(guó)

廠商：北京華測(cè)試驗(yàn)儀器有限公司
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離子束刻蝕 NIE-4000IBE離子束刻蝕系統(tǒng) 那諾-馬斯特

品牌：美國(guó)那諾-馬斯特型號(hào)：NIE-4000 產(chǎn)地：美洲美國(guó)

廠商：那諾—馬斯特中國(guó)有限公司

簡(jiǎn)介：NIE-4000IBE離子束刻蝕系統(tǒng)：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕無(wú)法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。通常情況下，樣品表面采用厚膠作為掩模層，刻蝕期間富有能量的離子流會(huì)使得基片和光刻膠過熱。除非可以找到有效的方式消除熱量，否則光刻膠將變得非常難以去除。NANO-MASTER技術(shù)已經(jīng)證明了可以把基片溫度控制在50° C以內(nèi)。

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新品推薦: 離子束刻蝕 NIE-4000IBE離子束刻蝕系統(tǒng) 那諾-馬斯特
NIE-4000IBE離子束刻蝕系統(tǒng)：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕無(wú)法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。通常情況下，樣品表面采用厚膠作為掩模層，刻蝕期間富有能量的離子流會(huì)使得基片和光刻膠過熱。除非可以找到有效的方式消除熱量，否則光刻膠將變得非常難以去除。NANO-MASTER技術(shù)已經(jīng)證明了可以把基片溫度控制在50° C以內(nèi)。; 那諾-馬斯特 NIE-3500（A）全自動(dòng)IBE離子束刻蝕
是一款自動(dòng)放片/取片，并且工藝過程為全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。; 那諾-馬斯特 NIE-4000（M）IBE離子束刻蝕
如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕無(wú)法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。通常情況下，樣品表面采用厚膠作為掩模層，刻蝕期間富有能量的離子流會(huì)使得基片和光刻膠過熱。除非可以找到有效的方式消除熱量，否則光刻膠將變得非常難以去除。; 日本離子束刻蝕系統(tǒng)Elionix; 離子束刻蝕系統(tǒng); 美Nano-master IBM離子銑/IBE離子束刻蝕系統(tǒng)NIE-4000
IBM離子銑/IBE離子束刻蝕系統(tǒng)： NIE-4000 獨(dú)立式 IBE 刻蝕系統(tǒng) NIE-3500 緊湊型獨(dú)立式 IBE 刻蝕系統(tǒng) NIR-4000 獨(dú)立式 IBE / RIE 雙刻蝕系統(tǒng) NIE-3000 臺(tái)式 IBE 刻蝕系統(tǒng); NANO-MASTER的IBM離子銑系統(tǒng)或IBE離子束刻蝕系統(tǒng)
IBM離子銑/IBE離子束刻蝕系統(tǒng)： NIE-4000 獨(dú)立式 IBE 刻蝕系統(tǒng) NIE-3500 緊湊型獨(dú)立式 IBE 刻蝕系統(tǒng) NIR-4000 獨(dú)立式 IBE / RIE 雙刻蝕系統(tǒng) NIE-3000 臺(tái)式 IBE 刻蝕系統(tǒng) NANO-MASTER那諾-馬斯特的IBM離子銑系統(tǒng)或IBE離子束刻蝕系統(tǒng)具有很強(qiáng)的適應(yīng)性，可根據(jù)不同的應(yīng)用而按不同的配置進(jìn)行建構(gòu); Nano-Master離子束刻蝕系統(tǒng)NIE-4000
NIE-4000 離子束刻蝕系統(tǒng)，NIR-4000 IBE/RIE 雙刻蝕系統(tǒng)，通過加速的 Ar 離子進(jìn)行物理刻蝕或銑削。對(duì)于硅的化合物也可以通過反應(yīng)離子束刻蝕的方式提高刻蝕速率和深寬比。