托托科技無掩模光刻機TTT-07-UV Litho-ACA Pro
步進式光刻 更高的精度 激光主動對焦 6 英寸加工幅面 特征尺寸0.4 μm
中芯熱成精密光刻機
本設備是我公司專門針對各大、專院校及科研單位研發(fā)使用的一種精密光刻機,主要用于中小規(guī)模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產。
荷蘭SCIL科研級納米壓印光刻機
DaLI無掩膜納米光刻機
采用AOD激光操控技術,光斑定位精度優(yōu)于1nm,高精度套刻對準,結構邊緣超平滑,可輕松構建1微米以下線寬結構。 先進的AOD激光操控技術,使得DaLI具有超高的激光定位精度(優(yōu)于1nm),超長的有效壽命,以及極高的穩(wěn)定性。DaLI主要適用于廣泛應用于MEMS、材料科學、微流控、微光學器件及其它微納加工領域。
URE-2000/35型紫外曝光光刻機
創(chuàng)新采用三柔性支點實現(xiàn)高精度自動調平;真空接觸自動曝光;樣片升降、調平、接觸、曝光、復位實現(xiàn)自動化控制;采用積木錯位蠅眼透鏡實現(xiàn)高均勻照明;可連續(xù)設定分離間隙;采用雙目雙視場顯微鏡實現(xiàn)高對準精度。整機具有性能可靠、操作方便、自動化程度高等特點。
恩科優(yōu)光刻機NXQ4006
Nanonex光刻機
Ushio 手動光刻機
已咨詢3068次
光刻機/臺式無掩模光刻機
已咨詢4274次
光刻機/臺式無掩模光刻機
已咨詢743次
光刻機/臺式無掩模光刻機
已咨詢826次
光刻機/臺式無掩模光刻機
已咨詢1631次
光刻機/臺式無掩模光刻機
移動端:光刻機/臺式無掩模光刻機
讓千萬商家找到你!