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儀器網>產品中心>行業(yè)專用儀器>半導體行業(yè)>光刻機/臺式無掩模光刻機 更新時間:2026-04-15 01:47:13

光刻機/臺式無掩模光刻機

(共40件相關產品信息)
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產品分類:
更多 光刻機/臺式無掩模光刻機 離子減薄儀 等離子體表面處理儀 離子濺射儀 電子束刻蝕系統(tǒng) 離子束刻蝕系統(tǒng) 激光刻蝕機 磁控濺射儀/磁控濺射鍍膜儀 氣相沉積系統(tǒng) 分子束外延系統(tǒng) 激光濺射沉積系統(tǒng) 原子層沉積系統(tǒng) 勻膠機
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不限 中國大陸 大洋洲 歐洲 亞洲 美洲
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不限 售全國 售本省 售本市
產品品牌:
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綜合
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    托托科技無掩模光刻機TTT-07-UV Litho-ACA Pro

    TuoTuo TTT-07-UV Litho-ACA Pro 江蘇 蘇州
    托托科技(蘇州)有限公司
    步進式光刻 更高的精度 激光主動對焦 6 英寸加工幅面 特征尺寸0.4 μm
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    昊量/auniontech DMD無掩膜光刻機超高分辨率 時間相關單光子計數(shù)模塊(TCSPC)

    昊量/auniontech (TCSPC) 上海 徐匯區(qū)
    上海昊量光電設備有限公司
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    昊量/auniontech DMD無掩膜光刻機

    昊量/auniontech DMD 上海 徐匯區(qū)
    上海昊量光電設備有限公司
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    全自動光刻機

    韓國MIDAS MDA-12SA 亞洲 韓國
    科睿設備有限公司
    MDA-12SA型曝光機是一款MIDAS公司新開發(fā)的產品,代表了下一代全區(qū)域光刻系統(tǒng)。這一新型半自動化對準曝光平臺具有更高的重復光刻精度以及更可靠的操作,非常適合陶瓷及其他探針卡應用,同時MDA-12SA型半動化光罩對準曝光機具有更高的生產能力和容易操控。
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    半自動光刻機

    韓國MIDAS MDA-400M, MDA-60MS 亞洲 韓國
    科睿設備有限公司
    光源強度可控
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    無掩膜光刻機 激光直寫系統(tǒng)

    韓國MIDAS MLW-100 亞洲 韓國
    科睿設備有限公司
    緊湊型光學模塊:使用備用光學模塊減少革命性的機器停機時間
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    德國Heidelberg MLA 150 激光光刻機

    德國海德堡 MLA 150 歐洲 德國
    深圳市藍星宇電子科技有限公司
    德國高精密激光直寫繪圖機 非接觸式曝光 可支持GX數(shù)位光刻與灰度光刻
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    德國Heidelberg MLA 100 激光光刻機

    德國海德堡 MLA 100 歐洲 德國
    深圳市藍星宇電子科技有限公司
    基本灰度曝光模式 對準攝像系統(tǒng) 實時自動對焦 User-optimized接觸向導
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    德國海德堡VPG 1600 型大尺寸掩膜版光刻機

    德國海德堡 VPG 1600 歐洲 德國
    深圳市藍星宇電子科技有限公司
    VPG 設計有可以搭載多樣化不同尺寸的承載平臺,例如:1600mm*1400mm,1100mm*1100mm,800mm*800mm. 但這些系統(tǒng)都安裝有氣浮裝置,可配置半自動或者全自動的上下版裝置,并且可以選擇zui高輸出功率20W的UV激光發(fā)射頭。
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    德國海德堡掩膜版光刻機VPG+ 800/1100/1400

    德國海德堡 VPG+ 800/1100/1400 歐洲 德國
    深圳市藍星宇電子科技有限公司
    大尺寸掩膜版生產工具 平行化曝光制程技術
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    海德堡掩膜版光刻機 VPG+ 200/400

    德國海德堡 VPG+ 200/400 歐洲 德國
    深圳市藍星宇電子科技有限公司
    多種數(shù)據(jù)輸入格式(DXF, CIF, GDSII, Gerber, STL) 網絡數(shù)據(jù)傳輸 計量校準系統(tǒng) 人工氣候室 階段地圖校正 邊緣檢測器單元 色差校正
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    Nanoscribe無掩膜光刻機Quantum X shape

    nanoscribe Quantum X shape 歐洲 德國
    納糯三維科技(上海)有限公司
    Quantum X shape雙光子無掩膜光刻系統(tǒng)是一款真正意義上的全能機型。基于雙光子聚合技術,該系統(tǒng)不僅是快速成型制作的Z佳機型,同時適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)模化生產。全新Quantum X shape可以為您打印任何 2.5D 和 3D 微納結構,提供真正意義上的設計自由度。該系統(tǒng)可實現(xiàn)您各類高縱橫比結構。
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    SPS 光刻機 POLOS μ

    德國SPS-保羅 POLOS μ 歐洲 德國
    上海跡亞國際商貿有限公司
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    POLOS? BEAM XL桌面無掩模光刻機

    德國SPS-保羅 BEAM XL 歐洲 德國
    上海跡亞國際商貿有限公司
    光掩模光刻可以隨意進行納米圖案化,而不需要 緩慢且昂貴的光掩模。 這種便利對于研究和快速 原型制作特別有用。 POLOS? Beam 在不影響 性能的情況下將其帶到桌面上,從而補充了現(xiàn)有 的優(yōu)勢。
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    EVG620 NT掩模對準光刻機系統(tǒng)

    EVG EVG620 歐洲 奧地利
    岱美儀器技術服務(上海)有限公司
    EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱,在蕞小的占位面積上結合了先進的對準功能和蕞優(yōu)化的總體擁有成本,提供了優(yōu)于其他品牌的掩模對準技術。它是光學雙面光刻的理想工具,可提供半自動或自動配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案,以滿足大批量生產要求和制造標準。
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    OAI - 光刻機

    美國OAI OAI - Mask Aligners & Exposure 美洲 美國
    香港電子器材有限公司
    全面的曝光系統(tǒng) 0.5μ 精確正面對準 1μ 正反面對準 高產量:170 WPH in 1st Mask Mode 均勻性優(yōu)于 ±3% 適用于各種規(guī)格的芯片 自動平衡補償 適用于超強工藝的重復性要求 亞微米分辨率
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    SMEE 600系列光刻機 —— IC前道制造

    上海品測 SMEE 600 上海 嘉定區(qū)
    上海品測精密儀器有限公司
    SSX600系列步進掃描投影光刻機采用四倍縮小倍率的投影物鏡、工藝自適應調焦調平技術,以及自減振六自由度工件臺掩模臺技術,可滿足IC前道制造90nm、110nm、280nm關鍵層和非關鍵層的光刻工藝需求。該設備可用于8寸線或12寸線的大規(guī)模工業(yè)生產。
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    SMEE 500系列光刻機 —— IC后道先進封裝

    上海品測 SMEE 500 上海 嘉定區(qū)
    上海品測精密儀器有限公司
    SSB500系列步進投影光刻機主要應用于200mm/300mm集成電路封裝領域,包括Flip Chip、Fan-In WLP、Fan-Out WLP和2.5D/3D等封裝形式,可滿足Bumping、RDL和TSV等制程的晶圓級光刻工藝需求。
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    SMEE 300系列光刻機 —— LED、MEMS、Power Devices

    上海品測 SMEE 300 上海 嘉定區(qū)
    上海品測精密儀器有限公司
    SSB300系列步進投影光刻機面向6英寸以下中小基底光刻應用領域,滿足HB-LED、MEMS和Power Devices等領域單面或雙面光刻工藝需求。
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    SMEE 200系列光刻機—TFT曝光

    上海品測 SMEE 200 上海 嘉定區(qū)
    上海品測精密儀器有限公司
    SSB200系列投影光刻機采用投影光刻機平臺技術,用于AM-OLED和LCD顯示屏TFT電路制造,可應用于2.5代~6代的TFT顯示屏量產線。該系列設備具備高分辨率、高套刻精度等特性,支持6英寸掩模,顯著降低用戶使用成本。
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    紫外曝光機/光刻機

    德國suss MJB4 歐洲 德國
    香港壘為信息科技實業(yè)有限公司
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    無掩膜直寫光刻機

    深圳科時達 Micro Writer ML3 美洲 美國
    深圳市科時達電子科技有限公司
    小型臺式無掩膜光刻機- MA1200 小型臺式無掩膜光刻機- MicroWriter ML3是英國公司專為實驗室設計開發(fā),為微流控、SAW、半導體、自旋電子學等研究領域提供方便高效的微加工方案。 傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應商提供,但是在研發(fā)環(huán)境中,掩膜板的設計通常需要經常改變。無掩膜光刻技術通過以軟件設計電子掩膜板的方法,克服了這一問題。與通過物理掩膜板進行光照的傳統(tǒng)工藝不同,激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關,在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。 MA1200 是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng),具有結構小巧緊湊(70cm x 70cm x 70cm),無掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性,還擁有高直寫速度,高分辨率的特點。采用集成化設計,全自動控制,可靠性高,操作簡便。適用于各種實驗室桌面。 產品特點 Focus Lock自動對焦功能 Focus Lock技術是利用自動對焦功能對樣品表面高度進行探測,并通過Z向調整和補償,以保證曝光分辨率。 光學輪廓儀 MicroWriter ML3 配備光學輪廓探測工具,用于勻膠后沉積層,蝕刻層,MEMS等前道結構的形貌探測與套刻。Z向高精度100 nm,方便快捷。 標記物自動識別 點擊“Bulls-Eye”按鈕,系統(tǒng)自動在顯微鏡圖像中識別光刻標記。標記物被識別后,將自動將其移動到顯微鏡中心位置。 直寫前預檢查 軟件可以實時顯微觀測基體表面,并顯示預直寫圖形位置。通過實時調整位置、角度,直到設計圖形按要求與已有結構重合,保證直寫準確。 簡單的直寫軟件 MicroWriter 由一個簡單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會引導使用者進行簡單的布局設計、基片對準和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運行。 Clewin 掩膜圖形設計軟件 ● 可以讀取多種圖形設計文件(DXF, CIF, GDSII, 等) ● 可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式 ● 書寫范圍只由基片尺寸決定
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    光刻機 / 紫外曝光機 (Mask Aligner) M-100

    深圳科時達 M-100 亞洲 韓國
    深圳市科時達電子科技有限公司
    原產國: 韓國,唯一能做到圖形化藍寶石襯底(PSS)光刻機,高性價比 型號:KCMA-100; 又名:掩模對準曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng),光刻機,紫外曝光機等; ECOPIA為全球領先的半導體設備供應商,多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發(fā)與生產,并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域;該公司是目前世界上Z早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技術研發(fā)力量和設備生產能力;并且其設備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用;以優(yōu)秀的技術、精湛的工藝和良好的服務,贏得了用戶的青睞。 感謝南開大學,中科院半導體所,中科院長春應化所,中科院物理所,浙江師范大學使用此設備做課題研究!! 此型號光刻機是所有進口設備中性能價格比Z高的型號,達到歐美品牌的對準精度,CCD顯示屏對準更為方便,液晶觸摸屏操作,采用歐司朗紫外燈,壽命長。整機效果皮實耐用,正常使用3年內不會出問題??! 目前,上海藍光已采用該公司全自動型光刻機做LED量化生產,證明其品質達到LED產業(yè)標準要求??!而且已經成功提供圖形化藍寶石襯底(PSS)光刻工藝設備.
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    美國恩科優(yōu)N&Q系列光刻機4008

    美國恩科優(yōu) N&Q4008 美洲 美國
    深圳市科時達電子科技有限公司
    品牌:恩科優(yōu)(N&Q)型號:NXQ400-8產地:美國恩科優(yōu)光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中,N&Q4000系列光刻機是以半自動系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)優(yōu)越的操作性,超高的分辨率,均勻的光學系統(tǒng),現(xiàn)代先進的接近式和接觸式光刻及超高的性價比,使恩科優(yōu)光刻系統(tǒng)已經被全國各地眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校采用,并成為他們光刻系統(tǒng)的。
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    美國恩科優(yōu)N&Q系列光刻機8006

    美國恩科優(yōu) N&Q8006 美洲 美國
    深圳市科時達電子科技有限公司
    品牌:恩科優(yōu)(N&Q)型號:NXQ800-6產地:美國恩科優(yōu)光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中,N&Q8000系列光刻機是以自動系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)優(yōu)越的操作性,超高的分辨率,均勻的光學系統(tǒng),現(xiàn)代先進的接近式和接觸式光刻及超高的性價比,使恩科優(yōu)光刻系統(tǒng)已經被全國各地眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校采用,并成為他們光刻系統(tǒng)的。

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恩科優(yōu)光刻機NXQ4006

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Ushio 手動光刻機

應用方案

無掩模光刻機 POLOS? BEAM XL桌面無掩模光刻機應用領域 POLOS? BEAM XL桌面無掩模光刻機特點 POLOS? BEAM XL桌面無掩模光刻機參數(shù) 無掩模紫外光刻機:驅動微納光子學創(chuàng)新的核心利器 為生命科學定制“芯”利器 | 托托科技BIO機型無掩模光刻機 德國POLOS? BEAM XL桌面無掩模光刻機應用領域 德國POLOS? BEAM XL桌面無掩模光刻機特點 德國POLOS? BEAM XL桌面無掩模光刻機參數(shù) 解鎖更高良率,托托科技無掩模光刻機攻克套刻誤差難題

行業(yè)資料

無掩膜光刻機 Nanonex光刻機/紫外光刻機 電子束光刻機(多功能超高精度電子束光刻機P21) 光刻機uv-kub 2-Brochure 光刻機uv-kub 3-Brochure 紫外掩膜曝光光刻機 KLOE 微流控芯片光刻機/曝光機 UV-KUB系列 資料 探針電子束光刻機(掃描探針電子束光刻系統(tǒng)P-SPL21) KLOE 微流控芯片光刻機/曝光機 UV-KUB系列 資料二 193nm紫外波前傳感器(512x512高相位分辨率)助力半導體/光刻機行業(yè)發(fā)展

推薦品牌

德國Raith 德國SPS-保羅 上海孚光精儀 美國OAI 中芯熱成 上海品測 浙江揚清 奧地利EVG

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