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激光刻蝕機(jī)
原子層沉積系統(tǒng)
原子層沉積系統(tǒng)
原子層沉積系統(tǒng)
離子濺射儀
磁控濺射儀/磁控濺射鍍膜儀
光刻機(jī)/臺(tái)式無(wú)掩模光刻機(jī)
光刻機(jī)/臺(tái)式無(wú)掩模光刻機(jī)
離子減薄儀
光刻機(jī)/臺(tái)式無(wú)掩模光刻機(jī)
離子濺射儀
激光濺射沉積系統(tǒng)
磁控濺射儀/磁控濺射鍍膜儀
磁控濺射儀/磁控濺射鍍膜儀
磁控濺射儀/磁控濺射鍍膜儀
離子濺射儀
離子濺射儀
勻膠機(jī)
勻膠機(jī)
勻膠機(jī)
勻膠機(jī)
離子濺射儀
氣相沉積系統(tǒng)
離子濺射儀
磁控濺射儀/磁控濺射鍍膜儀
托托科技無(wú)掩模光刻機(jī)TTT-07-UV Litho-ACA Pro
步進(jìn)式光刻 更高的精度 激光主動(dòng)對(duì)焦 6 英寸加工幅面 特征尺寸0.4 μm
成都真空設(shè)備廠家 surpass大口徑等離子刻蝕機(jī) 半導(dǎo)體刻蝕 離子束刻蝕 反應(yīng)離子刻蝕 可定制
成都真空設(shè)備廠家 research熱蒸發(fā)/磁控濺射 多靶復(fù)合磁控濺射鍍膜機(jī) 離子刻蝕機(jī)功能 可定制
鄭科探等離子刻蝕機(jī)清洗機(jī)去膠機(jī)
等離子刻蝕機(jī)清洗機(jī)用于表面清洗,活化,刻蝕電源屬于150W 13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設(shè)備,主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗,塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學(xué)實(shí)驗(yàn)等。,與動(dòng)輒十幾萬(wàn)美元的大型產(chǎn)品相比小型等離子清洗機(jī)具有成本低廉、操作靈活的特點(diǎn)。
中芯熱成精密光刻機(jī)
本設(shè)備是我公司專門針對(duì)各大、專院校及科研單位研發(fā)使用的一種精密光刻機(jī),主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。
濕法工藝晶圓溫度測(cè)量系統(tǒng) 光刻機(jī)晶圓溫度測(cè)量系統(tǒng)
荷蘭SCIL全自動(dòng)納米壓印光刻機(jī)
荷蘭SCIL科研級(jí)納米壓印光刻機(jī)
已咨詢1832次
電子束刻蝕系統(tǒng)
已咨詢416次
離子濺射儀
已咨詢2280次
離子減薄儀
已咨詢5297次
離子濺射儀
已咨詢1254次
電子束刻蝕系統(tǒng)
移動(dòng)端:半導(dǎo)體行業(yè)
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