本文由 上海睿測(cè)電子科技有限公司 整理匯編

2025-08-13 16:00 195閱讀次數(shù)

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  "如今，離子束蝕刻技術(shù)是應(yīng)用Z廣泛的電子顯微鏡樣品制備方法。在蝕刻過程中，高能氬離子束轟擊樣品，并根據(jù)其應(yīng)用領(lǐng)域調(diào)整離子束能量和切割角度。 在制備掃描電子顯微鏡樣品時(shí)，離子束蝕刻可改善或修改樣品表面質(zhì)量。 首先，離子束刻蝕能夠清潔、拋光或增加表面的襯度。經(jīng)離子束處理的樣品表面足以適用于各種靈敏的表面性能測(cè)試方法（如EBSD）。 另外，離子束刻蝕也可以通過斜面切割制備樣品的橫截面。 徠卡EM TIC 3X是一款離子束研磨儀，用于制備掃描電子顯微鏡樣品?？梢灾苽錁悠返臋M截面以及大面積表面。 樣品的橫截面還可以使用低能離子束再次處理。該處理過程既可以清洗橫截面，也能增強(qiáng)其襯度。 另外，EM TIC 3X可以通過離子束拋光工藝改進(jìn)樣品的機(jī)械拋光表面。樣品表面的Z大離子束制備直徑為 25mm，Z大樣品直徑為38mm。 離子束拋光可以清洗、拋光樣品表面，并增強(qiáng)其襯度，可以在一臺(tái)儀器中完成所有類型的掃描電子顯微鏡樣品制備流程。 該儀器配備了一個(gè)模塊化的系統(tǒng)，可配置5種適用于不同應(yīng)用的樣品臺(tái)：標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái)，冷凍樣品臺(tái)，多樣品臺(tái)，旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)和預(yù)抽真空系統(tǒng)，用以轉(zhuǎn)移冷凍樣品或易氧化的樣品。EM TIC 3X[詳細(xì)]

  2024-09-28 01:25

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  顯微鏡自動(dòng)聚焦包括高光譜成像系統(tǒng)和自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)；高光譜成像系統(tǒng)包括物鏡和沿光路依次設(shè)置在物鏡后方的狹縫、光譜儀系統(tǒng)、探測(cè)器；顯微鏡自動(dòng)聚焦焦系統(tǒng)包括反射平板、對(duì)焦成像透鏡組、自動(dòng)對(duì)焦探測(cè)器、液晶顯示系統(tǒng)、數(shù)據(jù)處理驅(qū)動(dòng)模塊和驅(qū)動(dòng)裝置；所述反射平板位置可調(diào)，反射平板設(shè)置在物鏡與狹縫之間的光路下方，對(duì)焦成像透鏡組設(shè)置在成像光線經(jīng)反射平板反射后的光路上，對(duì)焦成像透鏡組的像面上安裝自動(dòng)對(duì)焦探測(cè)器，自動(dòng)對(duì)焦探測(cè)器分別與液晶顯示系統(tǒng)、數(shù)據(jù)處理驅(qū)動(dòng)模塊連接，數(shù)據(jù)處理驅(qū)動(dòng)模塊控制驅(qū)動(dòng)裝置，驅(qū)動(dòng)裝置帶動(dòng)物鏡前后調(diào)焦移動(dòng)。顯微鏡自動(dòng)聚焦系統(tǒng)還包括調(diào)整裝置，所述調(diào)整裝置包括調(diào)整電機(jī)和蝸輪蝸桿，調(diào)整電機(jī)由數(shù)據(jù)處理驅(qū)動(dòng)模塊控制，調(diào)整電機(jī)與蝸桿連接，蝸輪與反射平板的一端連接，調(diào)整電機(jī)通過蝸輪蝸桿帶動(dòng)反射平板旋轉(zhuǎn)。顯微鏡自動(dòng)聚焦的光譜儀系統(tǒng)為平面光柵光譜儀系統(tǒng)、凸面光柵光譜儀系統(tǒng)、凹面光柵光譜儀系統(tǒng)、棱鏡色散光譜儀系統(tǒng)或棱柵色散光譜儀系統(tǒng)中的一種。 　　顯微鏡自動(dòng)聚焦使用人員可通過液晶顯示系統(tǒng)觀察對(duì)焦情況和調(diào)焦效果。完成望遠(yuǎn)物鏡對(duì)焦后，反射平板轉(zhuǎn)回初始位置，光譜儀可以開始正常工作，望遠(yuǎn)物鏡收集的成像光線經(jīng)狹縫調(diào)制后，[詳細(xì)]

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  2018-09-19 10:01

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