離子束刻蝕系統(tǒng)是一種用于物理學(xué)、工程與技術(shù)科學(xué)基礎(chǔ)學(xué)科、電子與通信技術(shù)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器，于2005年10月1日啟用。

什么是離子?什么是離子束?

帶電荷的原子或分子，即為離子。帶正電荷的離子被叫做正離子，而帶負(fù)電荷的離子被叫做負(fù)離子。

離子束:通過幾乎相同的速度沿著近似一致的方向運(yùn)動(dòng)的一群離子。

離子束刻蝕(IBE)介紹

通過具有一定能量的離子對(duì)材料表面進(jìn)行轟擊，使得材料原子發(fā)生濺射，從而使得刻蝕的目的達(dá)到。往離子源放電室充入Ar、Kr或Xe之類惰性氣體使其電離使得等離子體形成，之后通過柵極呈束狀引出離子并加速，具備一定能量的離子束往工作室中進(jìn)入，往固體表面射，對(duì)固體表面原子進(jìn)行撞擊，使材料原子發(fā)生濺射,使得刻蝕目的達(dá)到，屬于純物理過程。

凹面閃耀全息光柵在各種分析儀器、光通信、生物、yi療器械等領(lǐng)域得到十分廣泛地運(yùn)用。

離子束刻蝕法被采用來進(jìn)行閃耀加工,，所以能夠使得具有各種閃耀角(閃耀波長(zhǎng))的閃耀全息光容易地制造出來。

離子束刻蝕（IBE）適合的材料體系？

能夠用來對(duì)各種金屬（Ni、Cu、Au、Al、Pb、Pt、Ti等）及其合金，以及非金屬、氧化物、氮化物、碳化物、半導(dǎo)體、聚合物、陶瓷、紅外和超導(dǎo)等材料進(jìn)行刻蝕加工。

到目前為止，在非硅材料方面，離子束刻蝕有著相當(dāng)明顯的優(yōu)勢(shì)，在聲表面波、薄膜壓力傳感器、紅外傳感器等方面的用途也非常的廣泛。