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儀器網(wǎng)>產(chǎn)品中心>行業(yè)專用儀器>半導(dǎo)體行業(yè)>電子束刻蝕系統(tǒng) 更新時(shí)間:2026-04-14 01:44:09

電子束刻蝕系統(tǒng)

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產(chǎn)品產(chǎn)地:
不限 中國大陸 大洋洲 歐洲 亞洲 美洲
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不限 自營 代理 經(jīng)銷
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    電子束曝光系統(tǒng)-納騰Pharos 310電子束曝光系統(tǒng)

    納騰 Pharos 310 上海 徐匯區(qū)
    上海納騰儀器有限公司
    電子束曝光指利用聚焦電子束在光刻膠上制造圖形的工藝 , 是光刻工藝的延伸應(yīng)用 。 電子束曝光系統(tǒng)是實(shí)現(xiàn)電子束曝光 技術(shù)的硬件平臺(tái),系統(tǒng)的性能決定了曝光工藝關(guān)鍵尺寸、拼接和套刻精度等參數(shù)。
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    電子束蒸發(fā)系統(tǒng)

    美國PVD E-Beam Evaporator System 美洲 美國
    科睿設(shè)備有限公司
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    反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)

    美國Rocky Mountain RIE 美洲 美國
    科睿設(shè)備有限公司
    RE系列反應(yīng)離子蝕刻系統(tǒng)帶有淋浴頭式樣的氣體分配系統(tǒng)及水冷射頻壓盤,柜體為不銹鋼材質(zhì)。
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    英國Oxford 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaPro 800 RIE

    英國牛津 PlasmaPro 800 RIE 歐洲 英國
    深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
    英國Oxford 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaPro 800 RIE,是結(jié)構(gòu)緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng),該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應(yīng)離子蝕刻(RIE)工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的晶圓平臺(tái)能夠處理量產(chǎn)級(jí)別的批量以及300mm晶圓的工藝。
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    美國Trion Technology反應(yīng)式離子刻蝕(RIE/ICP)系統(tǒng)及沉積(PECVD)系統(tǒng)

    美國Trion RIE/ICP 美洲 美國
    深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
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    System 100 等離子刻蝕與沉積設(shè)備

    牛津儀器 System 100 歐洲 英國
    深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
    牛津OXFORD System 100 等離子刻蝕與沉積設(shè)備,具有工藝靈活性,適用于化合物半導(dǎo)體,光電子學(xué),光子學(xué),微機(jī)電系統(tǒng)和微流體技術(shù)。
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    德國Sentech等離子刻蝕機(jī) ICP-RIE SI 500

    德國Sentech ICP-RIE SI 500 歐洲 德國
    深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
    襯底溫度的設(shè)置和蝕刻過程的穩(wěn)定性是高質(zhì)量蝕刻的要求。采用動(dòng)態(tài)溫度控制的ICP基片電極,結(jié)合He背面冷卻和基片背面溫度傳感,在-150℃到+400℃的大范圍溫度范圍內(nèi),提供了優(yōu)良的工藝條件。
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    Etchlab200 德國Sentech 經(jīng)濟(jì)型反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(可升級(jí))

    德國Sentech Etchlab200 歐洲 德國
    深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
    Etchlab200 德國Sentech 經(jīng)濟(jì)型反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(可升級(jí)),經(jīng)濟(jì)型刻蝕機(jī)應(yīng)用范圍:硅、硅化物、III-V族化合物半導(dǎo)體、電介質(zhì)和金屬等材料。直接裝片型、可升級(jí)、在線監(jiān)控、大尺寸觀察窗、遠(yuǎn)程操作。
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    德國Sentech 200 RIE 離子刻蝕與沉積系統(tǒng)

    德國Sentech 200 RIE 歐洲 德國
    深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
    德國Sentech 200 RIE 離子刻蝕與沉積系統(tǒng) ,將平行板等離子體源設(shè)計(jì)與直接負(fù)載相結(jié)合。根據(jù)其模塊化設(shè)計(jì),Etchlab 200可以升級(jí)為更大的抽油機(jī)、真空負(fù)載鎖和額外的氣體管道。
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    Oxford System 100 等離子刻蝕與沉積設(shè)備

    牛津儀器 Oxford System 100 歐洲 英國
    深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
    Oxford System 100 等離子刻蝕與沉積設(shè)備,是一個(gè)靈活和功能強(qiáng)大的等離子體刻蝕和淀積工藝設(shè)備。 采用真空進(jìn)樣室進(jìn)樣可進(jìn)行快速的晶片更換、采用多種工藝氣體并擴(kuò)大了允許的溫度范圍。 具有工藝靈活性,適用于化合物半導(dǎo)體,光電子學(xué),光子學(xué),微機(jī)電系統(tǒng)和微流體技術(shù)。 可處理8 "晶片,也具有小批量(6 × 2")預(yù)制和試生產(chǎn)的能力。
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    Oxford RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaPro 80

    牛津儀器 PlasmaPro 80 歐洲 英國
    似空科學(xué)儀器(上海)有限公司
    PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統(tǒng),可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置,便于使用,且能確保工藝性能。直開式設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)快速晶圓裝卸,是研究和小批量生產(chǎn)的理想選擇。 它通過優(yōu)化的電極冷卻和出色的襯底溫度控制來實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的工藝。
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    CIONE系列Mini 等離子反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

    韓國Femto Science CIONEMini 亞洲 韓國
    深圳市科時(shí)達(dá)電子科技有限公司
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    美國 那諾-馬斯特 NRE-3500 (A) 全自動(dòng)RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

    美國Nano-Master -NRE-3500(A)RIE 美洲 美國
    深圳市科時(shí)達(dá)電子科技有限公司
    RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)NRE-3500(A)全自動(dòng)RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)概述:獨(dú)立式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13"的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口:一個(gè)帶有2"的視窗,另一個(gè)空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持ZD到12"的晶圓片。
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    感應(yīng)耦合等離子刻蝕機(jī) STS Multiplex ICP

    STS Multiplex ICP 歐洲 英國
    上海邁鑄半導(dǎo)體科技有限公司
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    刻蝕機(jī) NRE-4000(A)全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕 那諾-馬斯特

    美國那諾-馬斯特 NRE-4000(A) 美洲 美國
    那諾—馬斯特中國有限公司
    獨(dú)立式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品,不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口:一個(gè)帶有2“的視窗,另一個(gè)空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持Z大到12"的晶圓片。腔體為超凈設(shè)計(jì),并且根據(jù)配套的真空泵可以達(dá)到10-6 Torr 或更小的極限真空。該系統(tǒng)系統(tǒng)可以在20mTorr到8Torr之間的真空下工作。
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    反應(yīng)離子刻蝕 RIE刻蝕機(jī) 那諾-馬斯特

    美國那諾-馬斯特 RIE刻蝕機(jī) 美洲 美國
    那諾—馬斯特中國有限公司
    RIE刻蝕機(jī)概述:RIE系統(tǒng),配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13"的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口:一個(gè)帶有2"的視窗,另一個(gè)空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持大到12”的晶圓片。腔體為超凈設(shè)計(jì),并且根據(jù)配套的真空泵可以達(dá)到10-6 Torr 或更小的極限真空。該系統(tǒng)系統(tǒng)可以在20mTorr到8Torr之間的真空下工作。真空泵組包含一個(gè)節(jié)流閥,一個(gè)250l/s的渦輪分子泵,濾網(wǎng)過濾器,以及一個(gè)10cfm的機(jī)械泵(帶Formblin泵油).RF射頻功率通過600W,13.56MHz的電源和自動(dòng)調(diào)諧器提供。系統(tǒng)將持續(xù)監(jiān)控直流自偏壓,該自偏壓可以高達(dá)-500V.這對(duì)于各向異性的刻蝕至關(guān)重要。
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    刻蝕設(shè)備 NDR-4000(A)全自動(dòng)DRIE深反應(yīng)離子刻蝕 那諾-馬斯特

    美國那諾-馬斯特 NDR-4000(A) 美洲 美國
    那諾—馬斯特中國有限公司
    全自動(dòng)上下載片,帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺(tái)的深硅刻蝕系統(tǒng),帶8“ ICP源。系統(tǒng)配套500L/S抽速的渦輪分子泵,可以使得工藝壓力達(dá)到幾mTorr的水平。在低溫刻蝕的技術(shù)下,系統(tǒng)可以達(dá)到硅片的高深寬比刻蝕。
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    絕緣電阻劣化(離子遷移)評(píng)估系統(tǒng)

    北京華測 北京 順義區(qū)
    北京華測試驗(yàn)儀器有限公司
    離子遷移是指電路板上的金屬如銅、銀、錫等在一定條件下發(fā)生離子化并在電場作用下通過絕緣層 向另一極遷移而導(dǎo)致絕緣性能下降。
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    等離子刻蝕ICP

    美國Trion Minilock-Phantom III ICP 美洲 美國
    德國韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司
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    善準(zhǔn)科技等離子刻蝕機(jī)VP-RS15

    善準(zhǔn)科技 VP-RS15 廣東 廣州
    廣州善準(zhǔn)科技有限公司
    VP-RS15等離子刻蝕機(jī)補(bǔ)充國內(nèi)技術(shù)空白(真空不銹鋼腔體等離子清洗裝置),真空腔體不銹鋼材質(zhì),功率500W,頻率13.56MHz,能對(duì)材料起到清潔、刻蝕、活化、改性的作用,滿功率運(yùn)行3分鐘,腔體溫度不高于45℃,不損傷樣品,適用于晶圓去膠、煤灰化、碳毯(CF)、微流控芯片PDMS鍵合、ITO導(dǎo)電玻璃、石墨烯、纖維、單晶硅片、PET、二氧化硅等幾乎所有材料的PLASMA處理。
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    ¥554

    NMC ICP反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

    北京華測 NMC ICP 美洲 美國
    北京華測試驗(yàn)儀器有限公司
    反應(yīng)離子刻蝕機(jī)主要用于介質(zhì)薄膜干法刻蝕,包括SiO2、Si3N4、SiON、SiC等
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    ¥1

    反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 200

    美國AXIC PlasmaStar 200/200RIE 美洲 美國
    武漢邁可諾科技有限公司
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    等離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 100

    美國AXIC PlasmaStar 100/100RIE 美洲 美國
    武漢邁可諾科技有限公司
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    上海沛沅CCP等離子刻蝕機(jī)

    上海PLUTOVAC WINETCH 上海 浦東新區(qū)
    上海沛沅儀器設(shè)備有限公司
    上海沛沅CCP等離子刻蝕機(jī)WINETCH是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設(shè)計(jì)的高性價(jià)比CCP等離子體系統(tǒng)。作為一個(gè)多功能系統(tǒng),它通過優(yōu)化的系統(tǒng)設(shè)計(jì)與靈活的配置方案,獲得高性能CCP刻蝕工藝。該設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊占地面積小,專業(yè)的機(jī)械設(shè)計(jì)與優(yōu)化的自動(dòng)化操作軟件使該設(shè)備操作簡便、安全,且工藝穩(wěn)定重復(fù)性很好。
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    上海沛沅ICP等離子刻蝕機(jī)

    上海PLUTOVAC WINETCH 上海 浦東新區(qū)
    上海沛沅儀器設(shè)備有限公司
    上海沛沅ICP等離子刻蝕機(jī)WINETCH是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設(shè)計(jì)的高性價(jià)比ICP等離子體系統(tǒng)。作為一個(gè)多功能系統(tǒng),它通過優(yōu)化的系統(tǒng)設(shè)計(jì)與靈活的配置方案,獲得高性能ICP刻蝕工藝。該設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊占地面積小,專業(yè)的機(jī)械設(shè)計(jì)與優(yōu)化的自動(dòng)化操作軟件使該設(shè)備操作簡便、安全,且工藝穩(wěn)定重復(fù)性很好。
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    德國SENTECH ICP等離子/ RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

    德國Sentech ICP/ RIE 歐洲 德國
    香港壘為信息科技實(shí)業(yè)有限公司
    儀器廣泛應(yīng)用于微電子、光電、納米技術(shù)、LED、平板顯示、材料、有機(jī)電子、光伏、玻璃鍍膜、生物學(xué)、生命科學(xué)、等研發(fā)領(lǐng)域。
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    英國 SPTS深硅刻蝕機(jī)/等離子刻蝕機(jī)

    英國SPTS SPTS-01 歐洲 英國
    香港壘為信息科技實(shí)業(yè)有限公司
    SPTS能為客戶提供一系列的先進(jìn)的工藝,比如功率MOSFET和200mm和300mm晶圓上的高端封裝(3D封裝和芯片級(jí)封裝)。

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等離子刻蝕機(jī)清洗機(jī)用于表面清洗,活化,刻蝕電源屬于150W 13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設(shè)備,主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗,塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學(xué)實(shí)驗(yàn)等。,與動(dòng)輒十幾萬美元的大型產(chǎn)品相比小型等離子清洗機(jī)具有成本低廉、操作靈活的特點(diǎn)。

善準(zhǔn)科技等離子刻蝕機(jī)VP-RS15

VP-RS15等離子刻蝕機(jī)補(bǔ)充國內(nèi)技術(shù)空白(真空不銹鋼腔體等離子清洗裝置),真空腔體不銹鋼材質(zhì),功率500W,頻率13.56MHz,能對(duì)材料起到清潔、刻蝕、活化、改性的作用,滿功率運(yùn)行3分鐘,腔體溫度不高于45℃,不損傷樣品,適用于晶圓去膠、煤灰化、碳毯(CF)、微流控芯片PDMS鍵合、ITO導(dǎo)電玻璃、石墨烯、纖維、單晶硅片、PET、二氧化硅等幾乎所有材料的PLASMA處理。

上海沛沅CCP等離子刻蝕機(jī)

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