光刻膠配方中主要由基礎(chǔ)聚合物、光致酸產(chǎn)生劑和猝滅劑等組成，其中材料的選擇、配方的比例和雜質(zhì)均會影響光刻工藝，對預(yù)期蝕刻的線路穩(wěn)定性帶來風(fēng)險。針對其雜質(zhì)的鑒定和溯源對于配方優(yōu)化和研究尤為重要。Waters Xevo G3 QTof結(jié)合waters_connect UNIFI軟件，可“工程精簡”地實現(xiàn)結(jié)構(gòu)確證、雜質(zhì)溯源。

圖2.PAG材料設(shè)計。

使用甲醇溶解后制成不同濃度用于主成分和雜質(zhì)分析?；赪aters MS^E非數(shù)據(jù)依賴性數(shù)據(jù)采集、Waters UPLC技術(shù)的高效分離能力和軟件的拆分能力，可同時獲得母離子和碎片離子的信息。借助精確質(zhì)量數(shù)和同位素獲得可能的化學(xué)式，進(jìn)一步基于軟件匹配到的碎片信息，驗證結(jié)構(gòu)的可行性。在該案例中，PAG陰陽離子部分測得的碎片均有發(fā)生分子重排，在陽離子的碎片中獲得C19H23的特征碎片信息。

雜質(zhì)分析解決方案基于一個軟件平臺waters_connect UNIFI中，實現(xiàn)從二元比對、多元統(tǒng)計數(shù)據(jù)挖掘，到基于雜質(zhì)與主成分的關(guān)系查找雜質(zhì)，以及利用已知的合成信息/降解途徑，進(jìn)一步查找和溯源雜質(zhì)。在純度把控要求異常嚴(yán)苛的半導(dǎo)體光刻材料、OLED以及超純化學(xué)品雜質(zhì)分析中均具有廣泛的應(yīng)用（掃描文末二維碼，獲取雜質(zhì)分析流程應(yīng)用講解視頻）。

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