成都真空設(shè)備廠家 surpass大口徑等離子刻蝕機(jī) 半導(dǎo)體刻蝕 離子束刻蝕 反應(yīng)離子刻蝕 可定制

成都真空設(shè)備廠家 research熱蒸發(fā)/磁控濺射 多靶復(fù)合磁控濺射鍍膜機(jī) 離子刻蝕機(jī)功能 可定制

鄭科探等離子刻蝕機(jī)清洗機(jī)去膠機(jī)

等離子刻蝕機(jī)清洗機(jī)用于表面清洗,活化,刻蝕電源屬于150W 13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設(shè)備，主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學(xué)實(shí)驗(yàn)等。，與動(dòng)輒十幾萬(wàn)美元的大型產(chǎn)品相比小型等離子清洗機(jī)具有成本低廉、操作靈活的特點(diǎn)。

善準(zhǔn)科技等離子刻蝕機(jī)VP-RS15

VP-RS15等離子刻蝕機(jī)補(bǔ)充國(guó)內(nèi)技術(shù)空白（真空不銹鋼腔體等離子清洗裝置），真空腔體不銹鋼材質(zhì)，功率500W，頻率13.56MHz，能對(duì)材料起到清潔、刻蝕、活化、改性的作用，滿功率運(yùn)行3分鐘，腔體溫度不高于45℃，不損傷樣品，適用于晶圓去膠、煤灰化、碳毯（CF）、微流控芯片PDMS鍵合、ITO導(dǎo)電玻璃、石墨烯、纖維、單晶硅片、PET、二氧化硅等幾乎所有材料的PLASMA處理。

上海沛沅CCP等離子刻蝕機(jī)

上海沛沅CCP等離子刻蝕機(jī)WINETCH是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設(shè)計(jì)的高性價(jià)比CCP等離子體系統(tǒng)。作為一個(gè)多功能系統(tǒng)，它通過(guò)優(yōu)化的系統(tǒng)設(shè)計(jì)與靈活的配置方案，獲得高性能CCP刻蝕工藝。該設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊占地面積小，專業(yè)的機(jī)械設(shè)計(jì)與優(yōu)化的自動(dòng)化操作軟件使該設(shè)備操作簡(jiǎn)便、安全，且工藝穩(wěn)定重復(fù)性很好。

上海沛沅ICP等離子刻蝕機(jī)

上海沛沅ICP等離子刻蝕機(jī)WINETCH是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設(shè)計(jì)的高性價(jià)比ICP等離子體系統(tǒng)。作為一個(gè)多功能系統(tǒng)，它通過(guò)優(yōu)化的系統(tǒng)設(shè)計(jì)與靈活的配置方案，獲得高性能ICP刻蝕工藝。該設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊占地面積小，專業(yè)的機(jī)械設(shè)計(jì)與優(yōu)化的自動(dòng)化操作軟件使該設(shè)備操作簡(jiǎn)便、安全，且工藝穩(wěn)定重復(fù)性很好。

反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 200

等離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 100