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電子束光刻機(jī)(多功能超高精度電子束光刻機(jī)P21)

本文由 深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司 整理匯編

2022-09-05 22:02 8055閱讀次數(shù)

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電子束光刻機(jī)(多功能超高精度電子束光刻機(jī)P21)


依托壟斷性專利技術(shù),百及納米推出國(guó)際領(lǐng)先的超高精度大面積寫場(chǎng)電子束光刻機(jī) P21 系列。 百及納米S次開發(fā)了新一代電子束光刻機(jī)的電子束閉環(huán)控制新原理。百及超高精度電子束光刻機(jī) P21 是第一款新一代電子束光刻機(jī)的代表,在著名電子束光刻機(jī)制造商德國(guó) Raith 公司的成熟機(jī)型上 升級(jí)而成。該系列主要包括 P21-2,P21-4 和 P21-6 三個(gè)型號(hào),區(qū)別主要在于樣品尺寸(2,4,6 英寸晶圓)及擴(kuò)展使用功能。P21 不僅完整地保留了原電子束光刻機(jī)的整體功能,且集多項(xiàng)國(guó)際領(lǐng)先的關(guān) 鍵指標(biāo)于一身,包括:

 ? 國(guó)際上S次開發(fā)的新穎電子束閉環(huán)控制系統(tǒng),能夠?qū)崿F(xiàn)電子束的原位檢測(cè)與校正; 

 ? 國(guó)際領(lǐng)先的寫場(chǎng)拼接精度≤2 nm; 

 ? 電子束光刻的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。精確校正電子束的空間漂移,將其位置穩(wěn)定性提高到≤10 nm/h; 有利于通過提高電子束光刻時(shí)間實(shí)現(xiàn)大尺寸圖形的曝光需求。 

百及納米的 P21 系列以常規(guī)電子束光刻機(jī)為載體,通過獨(dú)家專利技術(shù)對(duì)其進(jìn)行功能及性能指標(biāo)的大幅提升。P21 光刻機(jī)組件均為德國(guó)原裝制造。

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