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光刻機(jī)uv-kub 3-Brochure
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本文由 微納立方科技(北京)有限公司 整理匯編
2024-09-19 23:59 409閱讀次數(shù)
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光刻機(jī)uv-kub 3-Brochure
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光刻機(jī)uv-kub 3-Brochure- 光刻機(jī)uv-kub 3-Brochure[詳細(xì)]
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2024-09-19 23:59
標(biāo)準(zhǔn)
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- 光刻機(jī)uv-kub 2-Brochure
- 光刻機(jī)uv-kub 2-Brochure[詳細(xì)]
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2022-07-05 11:23
標(biāo)準(zhǔn)
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- KLOE 微流控芯片光刻機(jī)/曝光機(jī) UV-KUB系列 資料
- 法國KLOE公司在光刻方面有著豐富的經(jīng)驗，其研發(fā)的UV- KUB系列光刻機(jī)是一種基于UV LED的曝光機(jī)系統(tǒng)，結(jié)構(gòu)緊湊，可以直接放置在實驗臺上，能夠處理Zda直徑4英寸的晶圓，兼容硬接觸（接觸式）或者軟接觸（接近式）工藝，可自動調(diào)整掩膜高度以適應(yīng)不同的基板厚度，可使用365 nm或405 nm的光源，不需要預(yù)熱，也不需要單獨(dú)的冷卻單元。另外，UV-KUB系列先進(jìn)的設(shè)計，保證了光源的準(zhǔn)直性和均勻性，其Z小分辨率可達(dá)2μm，Zda發(fā)散角小于2°
本系統(tǒng)適用于市面上常用的光刻膠，如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。
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[詳細(xì)]
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2024-09-15 17:10
標(biāo)準(zhǔn)
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- KLOE 微流控芯片光刻機(jī)/曝光機(jī) UV-KUB系列 資料二
- 法國KLOE公司在光刻方面有著豐富的經(jīng)驗，其研發(fā)的UV- KUB系列光刻機(jī)是一種基于UV LED的曝光機(jī)系統(tǒng)，結(jié)構(gòu)緊湊，可以直接放置在實驗臺上，能夠處理Zda直徑4英寸的晶圓，兼容硬接觸（接觸式）或者軟接觸（接近式）工藝，可自動調(diào)整掩膜高度以適應(yīng)不同的基板厚度，可使用365 nm或405 nm的光源，不需要預(yù)熱，也不需要單獨(dú)的冷卻單元。另外，UV-KUB系列先進(jìn)的設(shè)計，保證了光源的準(zhǔn)直性和均勻性，其Z小分辨率可達(dá)2μm，Zda發(fā)散角小于2°
本系統(tǒng)適用于市面上常用的光刻膠，如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。
[詳細(xì)]
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2024-09-15 17:11
標(biāo)準(zhǔn)
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- Nanonex光刻機(jī)/紫外光刻機(jī)
- Nanonex光刻機(jī)/紫外光刻機(jī)[詳細(xì)]
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2024-09-14 13:44
課件
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電子束光刻機(jī)（多功能超高精度電子束光刻機(jī)P21）- 電子束光刻機(jī)（多功能超高精度電子束光刻機(jī)P21）
依托壟斷性專利技術(shù)，百及納米推出國際領(lǐng)先的超高精度大面積寫場電子束光刻機(jī) P21 系列。 百及納米S次開發(fā)了新一代電子束光刻機(jī)的電子束閉環(huán)控制新原理。百及超高精度電子束光刻機(jī) P21 是第一款新一代電子束光刻機(jī)的代表，在著名電子束光刻機(jī)制造商德國 Raith 公司的成熟機(jī)型上 升級而成。該系列主要包括 P21-2，P21-4 和 P21-6 三個型號，區(qū)別主要在于樣品尺寸（2，4，6 英寸晶圓）及擴(kuò)展使用功能。P21 不僅完整地保留了原電子束光刻機(jī)的整體功能，且集多項國際領(lǐng)先的關(guān) 鍵指標(biāo)于一身，包括：
? 國際上S次開發(fā)的新穎電子束閉環(huán)控制系統(tǒng)，能夠?qū)崿F(xiàn)電子束的原位檢測與校正;
? 國際領(lǐng)先的寫場拼接精度≤2 nm;
? 電子束光刻的長期穩(wěn)定性。精確校正電子束的空間漂移，將其位置穩(wěn)定性提高到≤10 nm/h； 有利于通過提高電子束光刻時間實現(xiàn)大尺寸圖形的曝光需求。
百及納米的 P21 系列以常規(guī)電子束光刻機(jī)為載體，通過獨(dú)家專利技術(shù)對其進(jìn)行功能及性能指標(biāo)的大幅提升。P21 光刻機(jī)組件均為德國原裝制造。[詳細(xì)]
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2022-09-05 22:02
選購指南
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- 無掩膜光刻機(jī)
- 光刻機(jī)又名掩膜對準(zhǔn)曝光機(jī)，是芯片制造流程中光刻工藝的核心設(shè)備。其主要用途是生產(chǎn)集成電路，將設(shè)計好的集成電路模板復(fù)刻到硅晶圓上，從而生產(chǎn)出微小、精確、高效率的集成電路。
根據(jù)光刻機(jī)的曝光方式，主要可以分為接觸式光刻機(jī)、接近式光刻機(jī)和直寫式光刻機(jī)，其中直寫式光刻機(jī)又可以依據(jù)其是否需要使用掩膜版細(xì)分為有掩膜和無掩膜兩種。無掩膜光刻機(jī)是一種不需要使用傳統(tǒng)掩膜版的光刻機(jī)，它通過直接對晶圓進(jìn)行曝光，實現(xiàn)圖案的轉(zhuǎn)移，能夠更快速地制造特定產(chǎn)品、降低成本，除了能夠滿足傳統(tǒng)的2D光刻需求外，還能實現(xiàn)2.5D光刻（即灰度光刻）。無掩膜光刻機(jī)不需要掩膜版、高度靈活的優(yōu)點(diǎn)，使其被廣泛應(yīng)用于科學(xué)研究、定制化生產(chǎn)、快速原型制造、電子器件、生物醫(yī)藥、光學(xué)元件、微機(jī)械等領(lǐng)域。[詳細(xì)]
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2024-09-15 17:53
產(chǎn)品樣冊
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- 紫外掩膜曝光光刻機(jī)
- 美國恩科優(yōu)N&Q系列光刻機(jī)（Mask Aligner)，是領(lǐng)xian的光刻系統(tǒng)，在光刻領(lǐng)域有超過35年的經(jīng)驗，售出1000多套設(shè)備，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域?？蛻羧缑绹娇蘸教旃尽w利浦、摩托羅拉、惠普、美國國家半導(dǎo)體公司、牛津大學(xué)、劍橋大學(xué)、斯坦福大學(xué)、倫敦大學(xué)、臺塑、墨爾本大學(xué)、華盛頓州立大學(xué)、方大集團(tuán)、大聯(lián)大集團(tuán)、光寶科技、漢磊股份、廈門乾照光電股份有限公司等等。[詳細(xì)]
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2024-09-28 08:12
產(chǎn)品樣冊
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- 探針電子束光刻機(jī)（掃描探針電子束光刻系統(tǒng)P-SPL21）
- 公司推出的探針電子束光刻機(jī)P-SPL21,利用探針在近光刻膠表面發(fā)射低能電子的原理實現(xiàn)光刻效果。該系統(tǒng)的主要特點(diǎn)在于：
（1）幾乎無鄰近效應(yīng)，能實現(xiàn)3-5nm線寬的超精細(xì)光刻結(jié)構(gòu)；
（2）用于發(fā)射電子的探針同時具有原子力顯微鏡功能，能夠?qū)崿F(xiàn)亞納米級精準(zhǔn)定位并原位測量曝光圖型；
（3）超高寫場拼接精度（≤2nm），且能夠抑制電子束長時間產(chǎn)生的空間漂移（≤5nm）。
百及納米科技的探針電子束光刻系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)光刻與原子力顯微鏡表征的雙重功能，是一款理想的用于微納制造和表征尺寸小于5nm線寬結(jié)構(gòu)的一體化系統(tǒng)。[詳細(xì)]
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2024-09-14 06:17
產(chǎn)品樣冊
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- 193nm紫外波前傳感器（512x512高相位分辨率）助力半導(dǎo)體/光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展
- 新一代193nm高分辨率（512x512）波前分析儀!該波前傳感器采用Phasics公司技術(shù)-四波橫向剪切干涉技術(shù)，可以工作在190-400nm波段，消色差，具有2nm RMS的相位檢測靈敏度[詳細(xì)]
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2024-12-10 16:54
其它
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