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KLOE 微流控芯片光刻機(jī)/曝光機(jī) UV-KUB系列 資料二
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2024-09-15 17:11 1563閱讀次數(shù)
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法國KLOE公司在光刻方面有著豐富的經(jīng)驗，其研發(fā)的UV- KUB系列光刻機(jī)是一種基于UV LED的曝光機(jī)系統(tǒng)，結(jié)構(gòu)緊湊，可以直接放置在實(shí)驗臺上，能夠處理Zda直徑4英寸的晶圓，兼容硬接觸（接觸式）或者軟接觸（接近式）工藝，可自動調(diào)整掩膜高度以適應(yīng)不同的基板厚度，可使用365 nm或405 nm的光源，不需要預(yù)熱，也不需要單獨(dú)的冷卻單元。另外，UV-KUB系列先進(jìn)的設(shè)計，保證了光源的準(zhǔn)直性和均勻性，其Z小分辨率可達(dá)2μm，Zda發(fā)散角小于2°
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KLOE 微流控芯片光刻機(jī)/曝光機(jī) UV-KUB系列 資料二 法國KLOE公司在光刻方面有著豐富的經(jīng)驗，其研發(fā)的UV- KUB系列光刻機(jī)是一種基于UV LED的曝光機(jī)系統(tǒng)，結(jié)構(gòu)緊湊，可以直接放置在實(shí)驗臺上，能夠處理Zda直徑4英寸的晶圓，兼容硬接觸（接觸式）或者軟接觸（接近式）工藝，可自動調(diào)整掩膜高度以適應(yīng)不同的基板厚度，可使用365 nm或405 nm的光源，不需要預(yù)熱，也不需要單獨(dú)的冷卻單元。另外，UV-KUB系列先進(jìn)的設(shè)計，保證了光源的準(zhǔn)直性和均勻性，其Z小分辨率可達(dá)2μm，Zda發(fā)散角小于2°
本系統(tǒng)適用于市面上常用的光刻膠，如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。
[詳細(xì)]
2024-09-15 17:11
標(biāo)準(zhǔn)
KLOE 微流控芯片光刻機(jī)/曝光機(jī) UV-KUB系列 資料 法國KLOE公司在光刻方面有著豐富的經(jīng)驗，其研發(fā)的UV- KUB系列光刻機(jī)是一種基于UV LED的曝光機(jī)系統(tǒng)，結(jié)構(gòu)緊湊，可以直接放置在實(shí)驗臺上，能夠處理Zda直徑4英寸的晶圓，兼容硬接觸（接觸式）或者軟接觸（接近式）工藝，可自動調(diào)整掩膜高度以適應(yīng)不同的基板厚度，可使用365 nm或405 nm的光源，不需要預(yù)熱，也不需要單獨(dú)的冷卻單元。另外，UV-KUB系列先進(jìn)的設(shè)計，保證了光源的準(zhǔn)直性和均勻性，其Z小分辨率可達(dá)2μm，Zda發(fā)散角小于2°
本系統(tǒng)適用于市面上常用的光刻膠，如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。
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[詳細(xì)]
2024-09-15 17:10
標(biāo)準(zhǔn)
光刻機(jī)uv-kub 2-Brochure 光刻機(jī)uv-kub 2-Brochure[詳細(xì)]
2022-07-05 11:23
標(biāo)準(zhǔn)
光刻機(jī)uv-kub 3-Brochure 光刻機(jī)uv-kub 3-Brochure[詳細(xì)]
2024-09-19 23:59
標(biāo)準(zhǔn)
紫外掩膜曝光光刻機(jī) 美國恩科優(yōu)N&Q系列光刻機(jī)（Mask Aligner)，是領(lǐng)xian的光刻系統(tǒng)，在光刻領(lǐng)域有超過35年的經(jīng)驗，售出1000多套設(shè)備，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域?？蛻羧缑绹娇蘸教旃?、飛利浦、摩托羅拉、惠普、美國國家半導(dǎo)體公司、牛津大學(xué)、劍橋大學(xué)、斯坦福大學(xué)、倫敦大學(xué)、臺塑、墨爾本大學(xué)、華盛頓州立大學(xué)、方大集團(tuán)、大聯(lián)大集團(tuán)、光寶科技、漢磊股份、廈門乾照光電股份有限公司等等。[詳細(xì)]
2024-09-28 08:12
產(chǎn)品樣冊
Micronit 微流控芯片標(biāo)準(zhǔn)夾具 FC系列 資料二 荷蘭Micronit研發(fā)的FC系列微流控芯片標(biāo)準(zhǔn)夾具，適用于Micronit的標(biāo)準(zhǔn)微流控芯片，也適配Micronit設(shè)計的標(biāo)準(zhǔn)頂端進(jìn)樣芯片（45mm x 15mm）或標(biāo)準(zhǔn)側(cè)邊進(jìn)樣芯片（15 mm x 15 mm或者15 mm x 30 mm的）。夾具以其特有的密封設(shè)計，保證與芯片的緊密連接，同時也不會對微流控芯片造成損傷。
芯片夾具的主體材質(zhì)采用不銹鋼、鋁合金或者PEEK，堅固耐用，配套特氟龍連接套裝，包含特氟龍連接管和密封圈，可以滿足絕大多數(shù)試劑的使用。
[詳細(xì)]
2024-09-15 17:09
標(biāo)準(zhǔn)
玻璃碎片曝光機(jī) JZ-SGE-A 玻璃碎片曝光機(jī)/型玻璃碎片曝光儀型號：JZ-SGE-A1.用途:JZ-SGE-A型玻璃碎片曝光機(jī)是用于汽車、建筑、機(jī)車鋼化玻璃碎片狀態(tài)試驗的必備設(shè)備。本機(jī)精心選擇對曬圖紙曝光敏感的紫外光做光源，提高了曝光效率，具有玻璃碎片成像清晰的特點(diǎn)；本機(jī)應(yīng)用單片機(jī)實(shí)現(xiàn)曝光時間和對開式擋光板自動控制；具有曝光時間可調(diào)、定時準(zhǔn)確的特點(diǎn)；其技術(shù)指標(biāo)符合國家標(biāo)準(zhǔn)《汽車用安全玻璃》(GB9656)、建筑用《鋼化玻璃》國家標(biāo)準(zhǔn)(GB9963)，《鐵路車輛用安全玻璃》(GB18045)的要求，尤其是能對實(shí)物樣品玻璃上的商標(biāo)和3C強(qiáng)制認(rèn)證標(biāo)識進(jìn)行曝光曬圖。2.主要技術(shù)指標(biāo):擋光板開/關(guān)時間：≤5s；擋光板Zda開啟角度：≤120°；曝光光強(qiáng)穩(wěn)定時間：≤180s（自動聲響提示）；Zdi安裝高度：1.6m（對應(yīng)曝光面積2×1m）；光源起輝時間：≥2s；光源再起輝Z小間隔時間：5min；曝光時間設(shè)定范圍：1-999s（四位數(shù)碼顯示）；無線遙控距離：≥10m；功率消耗：220VAC≤680W；[詳細(xì)]
2018-09-24 10:00
產(chǎn)品樣冊
UVK3高分辨率紫外曝光機(jī) 詳細(xì)介紹了UVK3紫外曝光機(jī)的功能及應(yīng)用領(lǐng)域和規(guī)格參數(shù)[詳細(xì)]
2020-03-29 12:03
產(chǎn)品樣冊
Nanonex光刻機(jī)/紫外光刻機(jī) Nanonex光刻機(jī)/紫外光刻機(jī)[詳細(xì)]
2024-09-14 13:44
課件
Eden-microfluidics 微流控芯片快速制備材料 Flexdym ? 資料 Flexdym ?是一種新型微流控芯片制作材料，其物理性質(zhì)與PDMS相似，但拋棄了PDMS加工工藝復(fù)雜，加工時間長等缺點(diǎn)，是制作微流控芯片的新選擇。Flexdym ?在Sublym100 ?芯片快速成型機(jī)中真空熱壓1分鐘即可定型，鍵合時無需對芯片表面進(jìn)行等離子表面處理，只需使用熱板加熱即可完成與基板的鍵合。此外，F(xiàn)lexdym ?具有極低的粘度，可用于快速熱成型，填充率是傳統(tǒng)硬質(zhì)熱塑性塑料(COC、PS、PMMA等)的100-1000倍。[詳細(xì)]
2024-09-15 17:09
標(biāo)準(zhǔn)
電子束光刻機(jī)（多功能超高精度電子束光刻機(jī)P21） 電子束光刻機(jī)（多功能超高精度電子束光刻機(jī)P21）
依托壟斷性專利技術(shù)，百及納米推出國際領(lǐng)先的超高精度大面積寫場電子束光刻機(jī) P21 系列。 百及納米S次開發(fā)了新一代電子束光刻機(jī)的電子束閉環(huán)控制新原理。百及超高精度電子束光刻機(jī) P21 是第一款新一代電子束光刻機(jī)的代表，在著名電子束光刻機(jī)制造商德國 Raith 公司的成熟機(jī)型上 升級而成。該系列主要包括 P21-2，P21-4 和 P21-6 三個型號，區(qū)別主要在于樣品尺寸（2，4，6 英寸晶圓）及擴(kuò)展使用功能。P21 不僅完整地保留了原電子束光刻機(jī)的整體功能，且集多項國際領(lǐng)先的關(guān) 鍵指標(biāo)于一身，包括：
? 國際上S次開發(fā)的新穎電子束閉環(huán)控制系統(tǒng)，能夠?qū)崿F(xiàn)電子束的原位檢測與校正;
? 國際領(lǐng)先的寫場拼接精度≤2 nm;
? 電子束光刻的長期穩(wěn)定性。精確校正電子束的空間漂移，將其位置穩(wěn)定性提高到≤10 nm/h； 有利于通過提高電子束光刻時間實(shí)現(xiàn)大尺寸圖形的曝光需求。
百及納米的 P21 系列以常規(guī)電子束光刻機(jī)為載體，通過獨(dú)家專利技術(shù)對其進(jìn)行功能及性能指標(biāo)的大幅提升。P21 光刻機(jī)組件均為德國原裝制造。[詳細(xì)]
2022-09-05 22:02
選購指南
微流控芯片實(shí)驗室 微流控芯片實(shí)驗室[詳細(xì)]
2024-09-14 01:07
操作手冊
Eden-microfluidics微流控芯片真空熱壓成型機(jī)Sublym100 ? 資料 Sublym100 ?微流控芯片真空熱壓成型機(jī)來自法國Eden-microfluidics公司，用于微流控芯片快速成型，配合Flexdym?材料，可以非常快速的完成微流控芯片成型，也可以用于微流控芯片的熱壓鍵合。此真空熱壓成型機(jī)使用時，僅需3步，便可完成微流控芯片的成型、熱壓鍵合等操作，無需額外處理（等離子、溶劑或真空），使用簡單，操作方便，是微流控芯片實(shí)驗室的有力工具。[詳細(xì)]
2024-09-15 17:09
標(biāo)準(zhǔn)
Micronit 微流控芯片標(biāo)準(zhǔn)夾具 FC系列 操作手冊 荷蘭Micronit研發(fā)的FC系列微流控芯片標(biāo)準(zhǔn)夾具，適用于Micronit的標(biāo)準(zhǔn)微流控芯片，也適配Micronit設(shè)計的標(biāo)準(zhǔn)頂端進(jìn)樣芯片（45mm x 15mm）或標(biāo)準(zhǔn)側(cè)邊進(jìn)樣芯片（15 mm x 15 mm或者15 mm x 30 mm的）。夾具以其特有的密封設(shè)計，保證與芯片的緊密連接，同時也不會對微流控芯片造成損傷。
芯片夾具的主體材質(zhì)采用不銹鋼、鋁合金或者PEEK，堅固耐用，配套特氟龍連接套裝，包含特氟龍連接管和密封圈，可以滿足絕大多數(shù)試劑的使用。
[詳細(xì)]
2024-09-15 17:09
標(biāo)準(zhǔn)
CorSolutions PDMS微流控芯片打孔器 PDMS Port Creator 資料 CorSolutions PDMS微流控芯片打孔器，可以在PDMS芯片上實(shí)現(xiàn)快速、方便又極ng確的打孔。此款打孔器配備了對準(zhǔn)攝像頭和顯示器，只需通過攝像頭對準(zhǔn)需要打孔的位置，然后壓下打孔針，打孔針便可以保持在垂直方向上，完成在PDMS微流控芯片上的打孔，并且在之后的抬起過程中，從PDMS微流控芯片上取出的PDMS圓柱芯也會自動從打孔針中脫落，從而避免了PDMS殘屑可能帶來的堵塞問題。如果需要在PDMS芯片上打其他直徑的孔，只需從安裝柱上拆下打孔器的頭部，并將其替換為所需所需直徑的打孔器頭部即可。[詳細(xì)]
2024-09-11 17:46
標(biāo)準(zhǔn)
無掩膜光刻機(jī) 光刻機(jī)又名掩膜對準(zhǔn)曝光機(jī)，是芯片制造流程中光刻工藝的核心設(shè)備。其主要用途是生產(chǎn)集成電路，將設(shè)計好的集成電路模板復(fù)刻到硅晶圓上，從而生產(chǎn)出微小、精確、高效率的集成電路。
根據(jù)光刻機(jī)的曝光方式，主要可以分為接觸式光刻機(jī)、接近式光刻機(jī)和直寫式光刻機(jī)，其中直寫式光刻機(jī)又可以依據(jù)其是否需要使用掩膜版細(xì)分為有掩膜和無掩膜兩種。無掩膜光刻機(jī)是一種不需要使用傳統(tǒng)掩膜版的光刻機(jī)，它通過直接對晶圓進(jìn)行曝光，實(shí)現(xiàn)圖案的轉(zhuǎn)移，能夠更快速地制造特定產(chǎn)品、降低成本，除了能夠滿足傳統(tǒng)的2D光刻需求外，還能實(shí)現(xiàn)2.5D光刻（即灰度光刻）。無掩膜光刻機(jī)不需要掩膜版、高度靈活的優(yōu)點(diǎn)，使其被廣泛應(yīng)用于科學(xué)研究、定制化生產(chǎn)、快速原型制造、電子器件、生物醫(yī)藥、光學(xué)元件、微機(jī)械等領(lǐng)域。[詳細(xì)]
2024-09-15 17:53
產(chǎn)品樣冊
Eden-microfluidics微流控芯片環(huán)氧樹脂模具制作工具套裝Epoxym ? 資料 Epoxym ?微流控芯片環(huán)氧樹脂模具制作工具套裝來自Eden-microfluidics，是專門用于微流控芯片模板（SU-8，硅或玻璃等易損材質(zhì)）的復(fù)制工具，復(fù)制后的環(huán)氧樹脂芯片模板堅固耐用，使用壽命長。
其使用步驟分為兩步：步驟一，使用硅樹脂（例如PDMS）澆筑在需要復(fù)制的模具上，制作一個反模；步驟二，利用制作出來的硅樹脂反模，使用環(huán)氧樹脂在反模中完成模具的復(fù)制。
[詳細(xì)]
2024-09-15 17:11
標(biāo)準(zhǔn)
美國MAC機(jī)控閥1800系列選型資料 美國MAC機(jī)控閥1800系列選型資料功能接囗尺寸流量（Zda）安裝方式5/2----5/31/4”3/8”1.4Cv管接/串接技術(shù)參數(shù)：介質(zhì)壓縮空氣，真空或惰性氣體壓力范圍真空到150PSI流量范圍1/4”1/8”:1.4Cv潤滑不需要，如果需要請選用中性油過濾要求40泄漏量50cm/min訂貨方式：閥體選擇：18①②③④---⑤-⑥-⑦①②③④閥體類型⑤閥體類型⑥閥體類型⑦接口尺寸0001有彈簧底板1二位單壓，1#進(jìn)氣，4\5#排氣或真空1管接，外先導(dǎo)1/4”21/4”NPT0002有彈簧底板\適用0034，0035，00392二位雙壓，4\5#進(jìn)氣，1#排氣或真空2串接，3個共用口33/8”NPT0003有彈簧底板，帶安裝螺孔5三位中封，1#進(jìn)氣，4\5#排氣3串接，1個共用口（進(jìn)氣）51/4”BSPP6三位中泄，1#進(jìn)氣，4\5#排氣9串接，3個共用口（內(nèi)置流量控制）63/8”BSPP7三位中壓，雙壓，4\5#進(jìn)氣，1#排氣8三位中壓，單壓，4\5#進(jìn)氣，1#排氣備注：2、3#為氣缸口操作類型：⑧⑨⑩⑧⑨⑩⑧⑨⑩⑧⑨⑩0111垂直下壓凸輪開關(guān)平行于2和3口0023帶鎖定上拉式手柄開關(guān)垂直于閥體0033圓形按鈕，有保護(hù)圈0112垂直下壓凸輪開關(guān)垂直于2和3口0024無鎖定上拉式手柄開關(guān)垂直于閥體0034鎖定式圓形按鈕0013平行移動凸輪開關(guān)垂直于2和3口0025帶鎖定下按式手柄開關(guān)平行于閥體0035鎖定圓形按鈕，有面板固定螺絲0014平行移動凸輪開關(guān)平行于2和3口0026無鎖定下按式手柄開關(guān)平行于閥體0036蘑菇形按鈕0021帶鎖定下按式手柄開關(guān)垂直于閥體0027帶鎖定上拉式手柄開關(guān)平行于閥體0037蘑菇形按鈕，有面板固定螺絲0022無鎖定下按式手柄開關(guān)垂直于閥體0028無鎖定上拉式手柄開關(guān)平行于閥體0038蘑菇形按鈕，有保護(hù)圈0031圓形按鈕0032圓形按鈕，有面板固定螺絲0039鎖定式蘑菇形按鈕[詳細(xì)]
2018-09-29 10:00
產(chǎn)品樣冊
美國MAC機(jī)控閥1100系列選型資料 美國MAC機(jī)控閥1100系列選型資料功能接囗尺寸流量（Zda）安裝方式3/2----2/21/4”1/8”0.18Cv管接/串接/板接技術(shù)參數(shù)：介質(zhì)壓縮空氣，真空或惰性氣體壓力范圍真空到150PSI流量范圍1/4”1/8”:0.18Cv潤滑不需要，如果需要請選用中性油過濾要求40泄漏量50cm/min訂貨方式：閥體選擇：11①②A-①②管接①②串接①②板接111/8”NPT,通用管接811/8”NPT，三通20二通常閉，無底座131/4”NPT，通用管接831/4”NPT，三通30通用三通，無底座611/8”NPT，三通常閉841/8”NPT，三通常閉32通用三通，有底座1/8”NPT631/4”NPT，三通常閉851/4”NPT，三通常閉40二通常開，無底座42二通常開，有底座1/8”NPT70三通常閉，無底座72三通常閉，有底座1/8”NPT操作類型：③④⑤③④⑤③④⑤③④⑤011垂直下壓凸輪開關(guān)平行于1和2口023帶鎖定上拉式手柄開關(guān)垂直于1和2口031圓形按鈕012垂直下壓凸輪開關(guān)垂直于1和2口024無鎖定上拉式手柄開關(guān)垂直于1和2口032圓形按鈕，有面板固定螺絲013平行移動凸輪開關(guān)垂直于1和2口025帶鎖定下按式手柄開關(guān)平行于1和2口033圓形按鈕，有保護(hù)圈014平行移動凸輪開關(guān)平行于1和2口026無鎖定下按式手柄開關(guān)平行于1和2口036蘑菇形按鈕021帶鎖定下按式手柄開關(guān)垂直于1和2口027帶鎖定上拉式手柄開關(guān)平行于1和2口037蘑菇形按鈕，有面板固定螺絲022無鎖定下按式手柄開關(guān)垂直于1和2口028無鎖定上拉式手柄開關(guān)平行于1和2口038蘑菇形按鈕，有保護(hù)圈[詳細(xì)]
2018-09-29 10:00
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