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探針電子束光刻機(jī)(掃描探針電子束光刻系統(tǒng)P-SPL21)

本文由 深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司 整理匯編

2024-09-14 06:17 8094閱讀次數(shù)

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公司推出的探針電子束光刻機(jī)P-SPL21,利用探針在近光刻膠表面發(fā)射低能電子的原理實(shí)現(xiàn)光刻效果。該系統(tǒng)的主要特點(diǎn)在于:
(1)幾乎無鄰近效應(yīng),能實(shí)現(xiàn)3-5nm線寬的超精細(xì)光刻結(jié)構(gòu);
(2)用于發(fā)射電子的探針同時(shí)具有原子力顯微鏡功能,能夠?qū)崿F(xiàn)亞納米級精準(zhǔn)定位并原位測量曝光圖型;
(3)超高寫場拼接精度(≤2nm),且能夠抑制電子束長時(shí)間產(chǎn)生的空間漂移(≤5nm)。
百及納米科技的探針電子束光刻系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)光刻與原子力顯微鏡表征的雙重功能,是一款理想的用于微納制造和表征尺寸小于5nm線寬結(jié)構(gòu)的一體化系統(tǒng)。

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