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紫外掩膜曝光光刻機
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本文由 武漢邁可諾科技有限公司 整理匯編
2024-09-28 08:12 1132閱讀次數(shù)
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美國恩科優(yōu)N&Q系列光刻機（Mask Aligner)，是領xian的光刻系統(tǒng)，在光刻領域有超過35年的經(jīng)驗，售出1000多套設備，為半導體制造和科研領域提供品質優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng)，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域?？蛻羧缑绹娇蘸教旃?、飛利浦、摩托羅拉、惠普、美國國家半導體公司、牛津大學、劍橋大學、斯坦福大學、倫敦大學、臺塑、墨爾本大學、華盛頓州立大學、方大集團、大聯(lián)大集團、光寶科技、漢磊股份、廈門乾照光電股份有限公司等等。
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紫外掩膜曝光光刻機- 美國恩科優(yōu)N&Q系列光刻機（Mask Aligner)，是領xian的光刻系統(tǒng)，在光刻領域有超過35年的經(jīng)驗，售出1000多套設備，為半導體制造和科研領域提供品質優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng)，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域?？蛻羧缑绹娇蘸教旃?、飛利浦、摩托羅拉、惠普、美國國家半導體公司、牛津大學、劍橋大學、斯坦福大學、倫敦大學、臺塑、墨爾本大學、華盛頓州立大學、方大集團、大聯(lián)大集團、光寶科技、漢磊股份、廈門乾照光電股份有限公司等等。[詳細]
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2024-09-28 08:12
產(chǎn)品樣冊
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- 無掩膜光刻機
- 光刻機又名掩膜對準曝光機，是芯片制造流程中光刻工藝的核心設備。其主要用途是生產(chǎn)集成電路，將設計好的集成電路模板復刻到硅晶圓上，從而生產(chǎn)出微小、精確、高效率的集成電路。
根據(jù)光刻機的曝光方式，主要可以分為接觸式光刻機、接近式光刻機和直寫式光刻機，其中直寫式光刻機又可以依據(jù)其是否需要使用掩膜版細分為有掩膜和無掩膜兩種。無掩膜光刻機是一種不需要使用傳統(tǒng)掩膜版的光刻機，它通過直接對晶圓進行曝光，實現(xiàn)圖案的轉移，能夠更快速地制造特定產(chǎn)品、降低成本，除了能夠滿足傳統(tǒng)的2D光刻需求外，還能實現(xiàn)2.5D光刻（即灰度光刻）。無掩膜光刻機不需要掩膜版、高度靈活的優(yōu)點，使其被廣泛應用于科學研究、定制化生產(chǎn)、快速原型制造、電子器件、生物醫(yī)藥、光學元件、微機械等領域。[詳細]
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2024-09-15 17:53
產(chǎn)品樣冊
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- Nanonex光刻機/紫外光刻機
- Nanonex光刻機/紫外光刻機[詳細]
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2024-09-14 13:44
課件
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- KLOE 微流控芯片光刻機/曝光機 UV-KUB系列 資料
- 法國KLOE公司在光刻方面有著豐富的經(jīng)驗，其研發(fā)的UV- KUB系列光刻機是一種基于UV LED的曝光機系統(tǒng)，結構緊湊，可以直接放置在實驗臺上，能夠處理Zda直徑4英寸的晶圓，兼容硬接觸（接觸式）或者軟接觸（接近式）工藝，可自動調整掩膜高度以適應不同的基板厚度，可使用365 nm或405 nm的光源，不需要預熱，也不需要單獨的冷卻單元。另外，UV-KUB系列先進的設計，保證了光源的準直性和均勻性，其Z小分辨率可達2μm，Zda發(fā)散角小于2°
本系統(tǒng)適用于市面上常用的光刻膠，如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。
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[詳細]
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2024-09-15 17:10
標準
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- KLOE 微流控芯片光刻機/曝光機 UV-KUB系列 資料二
- 法國KLOE公司在光刻方面有著豐富的經(jīng)驗，其研發(fā)的UV- KUB系列光刻機是一種基于UV LED的曝光機系統(tǒng)，結構緊湊，可以直接放置在實驗臺上，能夠處理Zda直徑4英寸的晶圓，兼容硬接觸（接觸式）或者軟接觸（接近式）工藝，可自動調整掩膜高度以適應不同的基板厚度，可使用365 nm或405 nm的光源，不需要預熱，也不需要單獨的冷卻單元。另外，UV-KUB系列先進的設計，保證了光源的準直性和均勻性，其Z小分辨率可達2μm，Zda發(fā)散角小于2°
本系統(tǒng)適用于市面上常用的光刻膠，如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。
[詳細]
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2024-09-15 17:11
標準
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- UVK3高分辨率紫外曝光機
- 詳細介紹了UVK3紫外曝光機的功能及應用領域和規(guī)格參數(shù)[詳細]
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2020-03-29 12:03
產(chǎn)品樣冊
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紫外老化試驗箱：UV光與濕度曝光法- 紫外老化試驗箱采用能**模擬陽光中UV段光譜的熒光紫外燈，并結合控溫、供濕等裝置來模擬對材料造成變色、亮度、強度下降；開裂、剝落、粉化、氧化等損害的陽光（UV段）高溫、高濕、凝露、黑暗周期等因素，同時通過紫外光與濕氣之間的協(xié)同作用使得材料單一耐光能力或單一耐濕能力減弱或失效，從而廣泛用于對材料耐氣候性能的評價，設備具有提供**的陽光UV模擬，使用維護成本低廉，易于使用，設備采用程控器自動運行試驗周期，自動化程度高，燈光穩(wěn)定性好，試驗結果重現(xiàn)率高等特點。北京恒泰豐科試驗設備有限公司地址：北京市東四環(huán)南路53號郵編：100023電話:010-57926051（總機）010-57926052傳真：010-57926062E-mail:bjhtfk@163.com本資料可以從以下網(wǎng)站免費下載：http://www.bjhtfk.comhttp://www.htfk17.comhttp://www.bjhtfk17.comhttp://www.htfksyx.comhttp://www.010sy17.com[詳細]
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2018-10-05 10:01
產(chǎn)品樣冊
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- Newport用于晶圓和掩膜檢測的運動控制
- MKS 提供了多種高性能的、適用于晶圓檢測工具和其他運動控制應用的空氣軸承位移臺 , 經(jīng)驗豐富的 MKS/Newport 應用工程師與 OEM 客戶合作，為正在開發(fā)的半導體制造過程提供專門的自動化運動控制解決方案，下文描述這些系統(tǒng)中用于提高精度和動態(tài)性能的技術。[詳細]
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2020-11-06 10:34
應用文章
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- 電子束光刻機（多功能超高精度電子束光刻機P21）
- 電子束光刻機（多功能超高精度電子束光刻機P21）
依托壟斷性專利技術，百及納米推出國際領先的超高精度大面積寫場電子束光刻機 P21 系列。 百及納米S次開發(fā)了新一代電子束光刻機的電子束閉環(huán)控制新原理。百及超高精度電子束光刻機 P21 是第一款新一代電子束光刻機的代表，在著名電子束光刻機制造商德國 Raith 公司的成熟機型上 升級而成。該系列主要包括 P21-2，P21-4 和 P21-6 三個型號，區(qū)別主要在于樣品尺寸（2，4，6 英寸晶圓）及擴展使用功能。P21 不僅完整地保留了原電子束光刻機的整體功能，且集多項國際領先的關 鍵指標于一身，包括：
? 國際上S次開發(fā)的新穎電子束閉環(huán)控制系統(tǒng)，能夠實現(xiàn)電子束的原位檢測與校正;
? 國際領先的寫場拼接精度≤2 nm;
? 電子束光刻的長期穩(wěn)定性。精確校正電子束的空間漂移，將其位置穩(wěn)定性提高到≤10 nm/h； 有利于通過提高電子束光刻時間實現(xiàn)大尺寸圖形的曝光需求。
百及納米的 P21 系列以常規(guī)電子束光刻機為載體，通過獨家專利技術對其進行功能及性能指標的大幅提升。P21 光刻機組件均為德國原裝制造。[詳細]
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2022-09-05 22:02
選購指南
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- 光刻機uv-kub 2-Brochure
- 光刻機uv-kub 2-Brochure[詳細]
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2022-07-05 11:23
標準
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- 光刻機uv-kub 3-Brochure
- 光刻機uv-kub 3-Brochure[詳細]
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2024-09-19 23:59
標準
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- 玻璃碎片曝光機 JZ-SGE-A
- 玻璃碎片曝光機/型玻璃碎片曝光儀型號：JZ-SGE-A1.用途:JZ-SGE-A型玻璃碎片曝光機是用于汽車、建筑、機車鋼化玻璃碎片狀態(tài)試驗的必備設備。本機精心選擇對曬圖紙曝光敏感的紫外光做光源，提高了曝光效率，具有玻璃碎片成像清晰的特點；本機應用單片機實現(xiàn)曝光時間和對開式擋光板自動控制；具有曝光時間可調、定時準確的特點；其技術指標符合國家標準《汽車用安全玻璃》(GB9656)、建筑用《鋼化玻璃》國家標準(GB9963)，《鐵路車輛用安全玻璃》(GB18045)的要求，尤其是能對實物樣品玻璃上的商標和3C強制認證標識進行曝光曬圖。2.主要技術指標:擋光板開/關時間：≤5s；擋光板Zda開啟角度：≤120°；曝光光強穩(wěn)定時間：≤180s（自動聲響提示）；Zdi安裝高度：1.6m（對應曝光面積2×1m）；光源起輝時間：≥2s；光源再起輝Z小間隔時間：5min；曝光時間設定范圍：1-999s（四位數(shù)碼顯示）；無線遙控距離：≥10m；功率消耗：220VAC≤680W；[詳細]
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2018-09-24 10:00
產(chǎn)品樣冊
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- 193nm紫外波前傳感器（512x512高相位分辨率）助力半導體/光刻機行業(yè)發(fā)展
- 新一代193nm高分辨率（512x512）波前分析儀!該波前傳感器采用Phasics公司技術-四波橫向剪切干涉技術，可以工作在190-400nm波段，消色差，具有2nm RMS的相位檢測靈敏度[詳細]
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2024-12-10 16:54
其它
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- 紫外/可見/近紅外分光光度計測量增強型鏡面反射膜
- 在LAMBDA950/1050中安裝馬達驅動動變角的通用反射附件和馬達驅動的偏振器附件，可輕松實現(xiàn)增強型鏡面反射膜性能的自動驗證。由于增強型鏡面反射膜的厚度極薄且柔軟，因此，要想在常規(guī)分光光度計系統(tǒng)和附件中專為硬質濾光片和玻璃設計的垂直樣品架上妥當?shù)毓潭ǔ≡鰪娦顽R面反射膜的難度極大。通用反射附件的獨特設計（即，無樣品架設計，樣品只需平放在頂板的測樣口上）能夠確保極ng確地測量增強型鏡面反射膜的鏡面反射率。[詳細]
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2018-08-17 10:00
產(chǎn)品樣冊
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非金屬材料紫外線老化試驗箱曝光使用標準- 非金屬材料紫外線老化試驗箱曝光使用標準[詳細]
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2013-05-15 00:00
期刊論文
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- 探針電子束光刻機（掃描探針電子束光刻系統(tǒng)P-SPL21）
- 公司推出的探針電子束光刻機P-SPL21,利用探針在近光刻膠表面發(fā)射低能電子的原理實現(xiàn)光刻效果。該系統(tǒng)的主要特點在于：
（1）幾乎無鄰近效應，能實現(xiàn)3-5nm線寬的超精細光刻結構；
（2）用于發(fā)射電子的探針同時具有原子力顯微鏡功能，能夠實現(xiàn)亞納米級精準定位并原位測量曝光圖型；
（3）超高寫場拼接精度（≤2nm），且能夠抑制電子束長時間產(chǎn)生的空間漂移（≤5nm）。
百及納米科技的探針電子束光刻系統(tǒng)能夠實現(xiàn)光刻與原子力顯微鏡表征的雙重功能，是一款理想的用于微納制造和表征尺寸小于5nm線寬結構的一體化系統(tǒng)。[詳細]
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2024-09-14 06:17
產(chǎn)品樣冊
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- Whatman雜交膜、轉印濾紙、PVDF膜 NC膜 尼龍膜選購指南
- Whatman雜交膜、轉印濾紙、雜交轉印系統(tǒng)1.雜交膜、轉印濾紙貨號品名膜孔徑/濾紙厚度規(guī)格包裝報價10401196Whatman硝酸纖維素膜BA850.45um30cmx3m1卷323210401396Whatman硝酸纖維素膜BA830.2um30cmx3m1卷387410485289WhatmanPVDF膜0.45um30cmx3m1卷369110416196Whatman尼龍膜NytranN0.45um30cmx3m1卷365210416296Whatman尼龍膜NytranSPC0.45um30cmx3m1卷38423030-8613MM轉印濾紙0.34mm20x20cm100張/盒67510484124GB004轉印濾紙1.0mm7x10cm100張/盒20710427918GB004轉印濾紙1.0mm20x20cm100張/盒6592.TurboBlotter快速核酸轉移系統(tǒng)貨號品名規(guī)格包裝目錄價10416328NytranSuperChargeTurboBlotter系統(tǒng)7x10cm轉移設備，5套雜交膜，40張3MM濾紙，100張GB004和5疊3MM濾紙124010416330NytranSuperChargeTurboBlotterRefills7x10cm5套雜交膜，40張3MM濾紙，100張GB004和5疊3MM濾紙9593.Minifold雜交系統(tǒng)貨號品名大小包裝目錄價10447850Minifold-1SpotBlotSystem96孔，2.0mm2/Spot1個MinifoldI裝置，5張硝酸膜1299410447852Minifold-1SpotBlotPlate96孔，2.0mm2/Spot1個MinifoldI裝置，5張硝酸膜603810447900Minifold-1DotBlotSystem96孔，12.5mm2/Dot1個MinifoldI裝置，5張硝酸膜1299410447941Minifold-1SlotBlotSystem48孔，6.24mm2/Slot1個MinifoldI裝置，5張硝酸膜1300910447906Minifold-1SlotBlotPlate48孔，6.24mm2/Slot1個MinifoldI裝置，5張硝酸膜6038特價?。?！訂購信息：貨號10401196ProtranBA-850.45um孔徑30cmx3m￥1950/卷貨號10401396ProtranBA-830.2um孔徑20cmx3m￥5150/卷PALLNC膜NT膜硝酸纖維素膜貨號：66485尺寸：30cmx3m價格：1150.00MilliporePVDF印跡膜Immobilon-PTransferMembrane貨號：IPVH00010孔徑：0.45um尺寸：26.5cmx3.75m/卷1650.00尺寸：13.75cmx15cm/張85.00貨號：ISEQ00010空進0.2um尺寸：26.5cmx3.75m/卷2150.00尺寸：13.25cmx15cm/張100.003030-8613MM轉印濾紙0.34mm20x20cm100張/盒600.00[詳細]
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2018-09-02 10:00
產(chǎn)品樣冊
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- 膜包
- 實驗室切向流超濾產(chǎn)品Vivaflow50/200/50R[詳細]
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2018-12-14 10:00
產(chǎn)品樣冊
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- 膜、頭
- 膜、頭[詳細]
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2024-09-10 23:05
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