上海沛沅CCP等離子刻蝕機
等離子CLONE雙模式等離子刻蝕機清洗機
德國Sentech等離子刻蝕機 ICP-RIE SI 500
等離子刻蝕機PlasmaStar 100
離子刻蝕機清洗機Co系列桌面式等離子刻蝕機清洗機
德國 Sentech 等離子刻蝕機 SI 591
CCP等離子刻蝕機WINETCH是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設(shè)計的高性價比CCP等離子體系統(tǒng)。作為一個多功能系統(tǒng)，它通過優(yōu)化的系統(tǒng)設(shè)計與靈活的配置方案，獲得高性能CCP刻蝕工藝。該設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊占地面積小，業(yè)的機械設(shè)計與優(yōu)化的自動化操作軟件使該設(shè)備操作簡便、安全，且工藝穩(wěn)定重復性佳。
CCP刻蝕是一種常用的微納加工技術(shù)，廣泛應用于半導體器件制造、光學器件制造，生物芯片制造等域。其原理是利用高頻交變電場產(chǎn)生等離子體，在等離子體的作用下將材料表面進行化學反應和物理碰撞，從而實現(xiàn)對材料的刻蝕。
WINETCH刻蝕系統(tǒng)通過電容耦合（CCP）方式產(chǎn)生高密度等離子體，按掩膜（例如光刻膠掩膜）圖形、實現(xiàn)對介質(zhì)材料（例如氧化硅SiO2、氮化硅SiNx等）的選擇性刻蝕。
CCP系統(tǒng)主要由以下幾部分組成：反應腔室、下電 、噴淋頭（上電）、射頻電源、真空系統(tǒng)、預真空室、氣路系統(tǒng)、控制系統(tǒng)與軟件、配套附件等。
WINETCH等離子刻蝕機產(chǎn)品特點：
-刻蝕形貌好、工藝性能優(yōu)越
-高選擇比、高刻蝕速率
-低擁有成本和消耗成本
WINETCH等離子刻蝕機技術(shù)參數(shù)：
晶圓尺寸：6/8寸兼容
適用工藝：等離子體刻蝕
適用材料：SiO2，Si3N4，etc.
適用域:化合物半導體、MEMS、功率器件、科研等領(lǐng)域
報價：面議
已咨詢215次等離子刻蝕機
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已咨詢5309次鍍膜設(shè)備
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報價：￥5000000
已咨詢180次德國 Sentech
等離子刻蝕機清洗機用于表面清洗,活化,刻蝕電源屬于150W 13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設(shè)備，主要應用于半導體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學實驗等。，與動輒十幾萬美元的大型產(chǎn)品相比小型等離子清洗機具有成本低廉、操作靈活的特點。
VP-RS15等離子刻蝕機補充國內(nèi)技術(shù)空白（真空不銹鋼腔體等離子清洗裝置），真空腔體不銹鋼材質(zhì)，功率500W，頻率13.56MHz，能對材料起到清潔、刻蝕、活化、改性的作用，滿功率運行3分鐘，腔體溫度不高于45℃，不損傷樣品，適用于晶圓去膠、煤灰化、碳毯（CF）、微流控芯片PDMS鍵合、ITO導電玻璃、石墨烯、纖維、單晶硅片、PET、二氧化硅等幾乎所有材料的PLASMA處理。
上海沛沅CCP等離子刻蝕機WINETCH是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設(shè)計的高性價比CCP等離子體系統(tǒng)。作為一個多功能系統(tǒng)，它通過優(yōu)化的系統(tǒng)設(shè)計與靈活的配置方案，獲得高性能CCP刻蝕工藝。該設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊占地面積小，專業(yè)的機械設(shè)計與優(yōu)化的自動化操作軟件使該設(shè)備操作簡便、安全，且工藝穩(wěn)定重復性很好。
上海沛沅ICP等離子刻蝕機WINETCH是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設(shè)計的高性價比ICP等離子體系統(tǒng)。作為一個多功能系統(tǒng)，它通過優(yōu)化的系統(tǒng)設(shè)計與靈活的配置方案，獲得高性能ICP刻蝕工藝。該設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊占地面積小，專業(yè)的機械設(shè)計與優(yōu)化的自動化操作軟件使該設(shè)備操作簡便、安全，且工藝穩(wěn)定重復性很好。
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