KRI 離子源應(yīng)用于電子束蒸鍍設(shè)備 E-beam Evaporation System
特殊的系統(tǒng)設(shè)計(jì)電子束沉積是一種實(shí)用且高度可靠的系統(tǒng), 上海伯東某客戶電子束蒸鍍系統(tǒng)可針對量產(chǎn)使用單一大坩堝也可以有多個(gè)坩堝來達(dá)到產(chǎn)品多層膜結(jié)構(gòu), 在基板乘載上對應(yīng)半導(dǎo)體研究和大型設(shè)備設(shè)計(jì)單片和多片公自轉(zhuǎn)的設(shè)計(jì). 為了獲得大的制程靈活性, 可以結(jié)合考夫曼離子源進(jìn)行離子輔助沉積或者預(yù)清潔等功能.


----------- 電子束蒸鍍設(shè)備 E-beam Evaporation System ----------

上海伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 參數(shù):

上海伯東美國 KRI 提供霍爾離子源, 考夫曼離子源和射頻離子源, 歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)利. 廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式:

上海伯東: 羅先生                               臺(tái)灣伯東: 王女士
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

伯東版權(quán)所有, 翻拷必究!