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價(jià)格：面議

品牌：牛津儀器
型號(hào)：PlasmaPro 100 ALE
產(chǎn)地：歐洲英國(guó)

我們的設(shè)備和工藝已通過充分驗(yàn)證，正常運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)間可達(dá)90%以上，一旦設(shè)備安裝完畢，可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市場(chǎng)應(yīng)用廣，包括但不限于： MEMS和傳感器、光電子、分立元器件和納米技術(shù)。...

PlasmaPro 100 Estrelas牛津深硅刻蝕系統(tǒng)

價(jià)格：面議

品牌：牛津儀器
型號(hào)：PlasmaPro 100 Estrelas
產(chǎn)地：歐洲英國(guó)

PlasmaPro 100 Estrelas 平臺(tái)旨在提供深硅蝕刻（DSiE）領(lǐng)域的全方位的靈活性以滿足微電子機(jī)械系統(tǒng)（MEMS）、先進(jìn)封裝以及納米技術(shù)市場(chǎng)的各種工藝要求?？紤]到研究和生產(chǎn)的市場(chǎng)發(fā)展...

Ionfab 300 IBE 牛津離子束刻蝕機(jī)

價(jià)格：面議

品牌：牛津儀器
型號(hào)：Ionfab 300 IBE
產(chǎn)地：歐洲英國(guó)

離子束刻蝕的靈活性、均勻性俱佳且應(yīng)用范圍廣。我們的設(shè)備具有靈活的硬件選項(xiàng)，包括直開式、單襯底傳送模式和盒式對(duì)盒式模式。系統(tǒng)配置與實(shí)際應(yīng)用緊密協(xié)調(diào)，以確保獲得速率更快且重復(fù)性更好的工藝結(jié)果。

PlasmaPro 80 PECVD牛津等離子沉積機(jī)

價(jià)格：面議

品牌：牛津儀器
型號(hào)：PlasmaPro 80 PECVD
產(chǎn)地：歐洲英國(guó)

· 小尺寸系統(tǒng)——易于安置 · 優(yōu)化了的電極冷卻——襯底溫度控制 · 高導(dǎo)通的徑向（軸對(duì)稱）抽氣結(jié)構(gòu)—— 確保提升了工藝均勻性和速率 · 增加了<500毫秒的數(shù)據(jù)記錄功能——可追溯腔室和工...

牛津OpAL 開放式樣品載入ALD設(shè)備

價(jià)格：面議

品牌：牛津儀器
型號(hào)：OpAL
產(chǎn)地：歐洲英國(guó)

緊湊型開放式樣品載入原子層沉積（ALD）系統(tǒng) OpAL提供了專業(yè)的熱ALD設(shè)備，可以簡(jiǎn)單明了的升級(jí)使用等離子體，使得在同一緊湊設(shè)備中集成了等離子體和熱ALD。

PlasmaPro 80 ICP 英國(guó)牛津OXFORD 等離子體刻蝕機(jī)

價(jià)格：面議

品牌：牛津儀器
型號(hào)：PlasmaPro 80 ICP
產(chǎn)地：歐洲英國(guó)

PlasmaPro 80 ICP是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小型且使用方便的直開式系統(tǒng)，可提供多種刻蝕解決方案。它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝質(zhì)量。直開式設(shè)計(jì)允許快速的進(jìn)行晶圓裝卸，是科學(xué)研究、原型設(shè)計(jì)和...

System 100 等離子刻蝕與沉積設(shè)備

價(jià)格：面議

品牌：牛津儀器
型號(hào)：PlasmalabSystem 100
產(chǎn)地：歐洲英國(guó)

該設(shè)備是一個(gè)靈活和功能強(qiáng)大的等離子體刻蝕和淀積工藝設(shè)備。采用真空進(jìn)樣室進(jìn)樣可進(jìn)行快速的晶片更換、采用多種工藝氣體并擴(kuò)大了允許的溫度范圍。具有工藝靈活性，適用于化合物半導(dǎo)體，光電子學(xué)，光子學(xué)...

PlasmaPro 80 RIE 牛津等離子體刻蝕機(jī)

價(jià)格：面議

品牌：牛津儀器
型號(hào)：PlasmaPro 80 RIE
產(chǎn)地：歐洲英國(guó)

PlasmaPro 80 RIE是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)快速晶圓裝卸，是研究和小批量生...

PlasmaPro 80 ICPCVD 英國(guó)Oxford 牛津等離子沉積機(jī)

價(jià)格：面議

品牌：牛津儀器
型號(hào)：PlasmaPro 80 ICPCVD
產(chǎn)地：歐洲英國(guó)

PlasmaPro 80 ICPCVD是一種結(jié)構(gòu)緊湊且使用方便的小型直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝性能。直開式設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)快速晶圓裝卸，是科學(xué)研究、...

Plasma Stripper (Asher) 等離子去膠機(jī)(灰化)

價(jià)格：面議

品牌：牛津儀器
型號(hào)：Plasma Stripper (Asher)
產(chǎn)地：歐洲英國(guó)

。開放式設(shè)計(jì)，可快速加載和卸載晶圓。。基片放置在石英上，以避免濺射/再沉積電極材料。通過頂部電極上的“蓮蓬頭”進(jìn)氣口將氣體注入工藝室。電感耦合等離子體(ICP)和電極的獨(dú)立射頻發(fā)生器提供對(duì)...

英國(guó)Oxford 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaPro 800 RIE

價(jià)格：面議

品牌：英國(guó)牛津
型號(hào)：PlasmaPro 800 RIE
產(chǎn)地：歐洲英國(guó)

英國(guó)Oxford 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaPro 800 RIE，是結(jié)構(gòu)緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng)，該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應(yīng)離子蝕刻（RIE）工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的晶...

牛津深硅刻蝕系統(tǒng) PlasmaPro 100 Estrelas

價(jià)格：面議

品牌：牛津儀器
型號(hào)：PlasmaPro 100 Estrelas
產(chǎn)地：歐洲英國(guó)

硬件設(shè)計(jì)使同一腔室中可進(jìn)行Bosch?和超低溫刻蝕工藝，使得納米和微米結(jié)構(gòu)刻蝕均可實(shí)現(xiàn)；兼容50mm至200mm的襯底 - 確保您只需一臺(tái)系統(tǒng)，便具備從研發(fā)器件到量產(chǎn)的能力；自動(dòng)匹配-擁有工藝...