納米壓痕儀InSEM HT高溫原位納米壓痕儀
納米操作機(jī) LF-2000綜合原位納米操作機(jī)
納米壓痕儀NanoFlip原位納米壓痕儀
KLA晶圓探針式輪廓儀/臺(tái)階儀P-7
陰極熒光Sunny-Rainbow陰極熒光成像光譜探測(cè)系統(tǒng)
InSEM HT(高溫)通過(guò)在真空環(huán)境中單加熱尖 端和樣品來(lái)測(cè)量高溫下的硬度、模量和硬度。INSEM?HT與掃描電子顯微鏡(SEM)和聚焦離子束(FIB)或立真空室兼容。附帶的InView軟件可以協(xié)助開(kāi)發(fā)新的實(shí)驗(yàn)??茖W(xué)出版物表明,InSEM HT結(jié)果與傳統(tǒng)大型高溫試驗(yàn)數(shù)據(jù)吻合。廣泛的溫度范圍使InSEM HT成為開(kāi)發(fā)研究材料的非常有價(jià)值的工具。
連續(xù)剛度測(cè)量(CSM)
CSM技術(shù)包括在壓痕過(guò)程中測(cè)量力學(xué)性能隨深度、力、時(shí)間或頻率變化的函數(shù)。該方案采用恒定應(yīng)變速率試驗(yàn),測(cè)量硬度和模量作為深度或載荷的函數(shù),是學(xué)術(shù)界和工業(yè)界常用的試驗(yàn)方法。CSM還用于其他高級(jí)測(cè)試,包括用于存儲(chǔ)和損耗模量測(cè)量的ProbeDMA?方法和AccuFilm?基底立測(cè)量。CSM集成在控制器和InView軟件中,以保證數(shù)據(jù)質(zhì)量。
NanoBlitz3D
NanoBlitz 3D利用Inforce 50加載器采用玻氏壓頭測(cè)量高E(>3Gpa)材料的三維測(cè)量圖。NanoBlitz壓痕小于1個(gè)點(diǎn)/ s,多10萬(wàn)個(gè)壓痕(300x300陣列),并提供每個(gè)壓痕在載荷下的楊氏模量、硬度和剛度,大量的測(cè)試提高了統(tǒng)計(jì)的準(zhǔn)確性。NanoBlitz 3D還提供可視化軟件和數(shù)據(jù)處理功能。
AccuFilm?薄膜方法包
AccuFilm?薄膜方法包是一種基于Hay-Crawford模型的全新測(cè)試方法,使用連續(xù)剛度測(cè)量(CSM)測(cè)量基底材料的立特性。AccuFilm?修正了基底對(duì)軟基板上硬薄膜以及硬基底上軟薄膜測(cè)量的影響。
ProbeDMA?聚合物方法包
聚合物包可以測(cè)量聚合物的模量對(duì)頻率的函數(shù)。該測(cè)試包括平?jīng)_頭、粘彈性參考材料和評(píng)價(jià)粘彈性性能的試驗(yàn)方法。這種測(cè)量技術(shù)是表征納米聚合物和聚合物薄膜的關(guān)鍵技術(shù),而傳統(tǒng)的DMA測(cè)試儀器無(wú)法很好地測(cè)試這些薄膜。
劃痕磨損試驗(yàn)功能
劃痕試驗(yàn)在以規(guī)定速度穿過(guò)樣品表面時(shí),向壓頭施加恒定或傾斜載荷。劃痕試驗(yàn)可以表征許多材料系統(tǒng),如薄膜、易碎陶瓷和聚合物。
DataBurst
DataBurst集成InView軟件和InQuest控制器系統(tǒng),采用大于1kHz的速率記錄位移數(shù)據(jù),以測(cè)量高應(yīng)變跳躍載荷的突變實(shí)驗(yàn)。適用于瞬間斷裂、壓爆瞬間采集大量數(shù)據(jù)的測(cè)試實(shí)驗(yàn)。
Gemini 2D多軸傳感器
Gemini 2D 多軸技術(shù)將相同的標(biāo)準(zhǔn)壓痕功能帶到第二個(gè)橫軸上,同時(shí)沿兩個(gè)方向軸運(yùn)行。該技術(shù)有助于深入了解材料特性和失效機(jī)制,可以測(cè)量泊松比、摩擦系數(shù)、劃痕、磨損、剪切等參數(shù)。
技術(shù)
KLA InSEM HT產(chǎn)品:先進(jìn)的激發(fā)器的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),完全實(shí)現(xiàn)載荷和位移的分別控制和探測(cè),壓頭跟針尖分別加熱,完 美實(shí)現(xiàn)高溫納米壓痕檢測(cè),包括動(dòng)態(tài)力學(xué)測(cè)試、軟材料測(cè)試、及薄膜測(cè)試等等。
符合ISO14577的國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的壓痕測(cè)試
InSEM HT動(dòng)態(tài)測(cè)試附件是由連續(xù)剛度專用技術(shù)的發(fā)明人研發(fā)的:動(dòng)態(tài)力學(xué)測(cè)試原理為在準(zhǔn)靜態(tài)加載過(guò)程中,施加在壓頭上一個(gè)正玄波,從而表征出隨著壓痕深度、載 荷、時(shí)間或者頻率的變化材料力學(xué)性能的變化。
NanoBlitz3D技術(shù),提供每個(gè)壓痕在載荷下的楊氏模量、硬度和剛度,大量的測(cè)試提高了統(tǒng)計(jì)的準(zhǔn)確性,自動(dòng)生成楊氏模量、硬度和剛度Mapping圖,是研究非均相材料的研究方法。
硬度和模量測(cè)量(Oliver-Pharr)
InSEM HT納米壓痕測(cè)量各種材料的硬度和模量,從超軟凝膠到硬涂層。

連續(xù)剛度測(cè)試(CSM)
連續(xù)剛度測(cè)量用于量化動(dòng)態(tài)材料特性,如應(yīng)變率和頻率誘導(dǎo)效應(yīng)。NanoFlip納米壓頭提供從0.1Hz到1kHz的動(dòng)態(tài)頻率,根據(jù)深度或頻率連續(xù)測(cè)量接觸剛度。

高速材料性能Mapping(3D/4D)
對(duì)于復(fù)合材料,不同區(qū)域的力學(xué)性能差異很大。NanoFlip在X軸和Y軸上提供21mm的樣品臺(tái)移動(dòng),在Z軸上提供25mm的樣品臺(tái)移動(dòng),允許在樣品區(qū)域上測(cè)試大范圍高度變化的樣品。地形和斷層掃描軟件可以快速生成多種測(cè)量機(jī)械性能的彩色譜圖。

納米動(dòng)態(tài)力學(xué)分析
聚合物是非常復(fù)雜的材料。為了獲得聚合物的有用信息,應(yīng)在相關(guān)背景下對(duì)相關(guān)樣品進(jìn)行機(jī)械性能測(cè)量。納米壓痕測(cè)試使這種測(cè)量變得更容易,因?yàn)闃悠房梢院苄?,并且制備所需要的量少。納米壓痕系統(tǒng)可以通過(guò)振蕩壓頭與材料接觸的方式來(lái)測(cè)量聚合物的復(fù)合模量和粘彈性性能。

定量劃痕磨損測(cè)試
InSEM HT可以對(duì)各種材料進(jìn)行劃痕和磨損測(cè)試。涂層和薄膜要經(jīng)過(guò)許多加工過(guò)程,例如化學(xué)和機(jī)械拋光(CMP)和金屬絲粘合,以測(cè)試這些薄膜的強(qiáng)度和它們?cè)诨咨系恼掣搅Α?duì)于這些材料來(lái)說(shuō),在這些過(guò)程中抵抗塑性變形并保持完整而不起泡是非常重要的。

高溫試驗(yàn)
許多工業(yè)領(lǐng)域的材料研究不僅關(guān)注常溫下機(jī)械應(yīng)力的性能,而且還關(guān)注熱應(yīng)力下的性能。InSEM HT專為先進(jìn)技術(shù)應(yīng)用(如航空航天、汽車和軍事/國(guó)防)中的下一代材料測(cè)試而設(shè)計(jì)。

蠕變測(cè)量
由于施加的載荷和高溫,材料會(huì)發(fā)生變形。蠕變是機(jī)械應(yīng)力和熱應(yīng)力共同作用下的應(yīng)變超時(shí)測(cè)量,蠕變行為對(duì)汽車和航空航天系統(tǒng)的有效設(shè)計(jì)至關(guān)重要。嵌入式熱處理可使溫度升高至800°C,同時(shí)監(jiān)測(cè)材料應(yīng)變。

應(yīng)變率靈敏度
應(yīng)變率靈敏度使應(yīng)變量化成為各種加載條件的函數(shù)。例如,如果樣品受到的應(yīng)力更慢,在短時(shí)間內(nèi)對(duì)材料施加機(jī)械/熱應(yīng)力可能會(huì)產(chǎn)生不同的應(yīng)變結(jié)果。InSEM HT允許用戶測(cè)量高達(dá)800°C的加載條件下的應(yīng)變靈敏度。

報(bào)價(jià):面議
已咨詢163次AFM-In-SEM
報(bào)價(jià):面議
已咨詢529次AFM-In-SEM
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已咨詢189次In-SEM納米壓痕
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已咨詢220次In-SEM微納米力學(xué)
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已咨詢230次In-SEM微納米力學(xué)
報(bào)價(jià):面議
已咨詢277次微納米壓痕儀
報(bào)價(jià):面議
已咨詢211次In-SEM微納米力學(xué)
報(bào)價(jià):面議
已咨詢934次材料用光學(xué)顯微鏡
報(bào)價(jià):面議
已咨詢285次原子力顯微鏡
報(bào)價(jià):面議
已咨詢203次In-SEM納米壓痕
將傳統(tǒng)玻片數(shù)字化,進(jìn)行存儲(chǔ)與管理,可建立數(shù)字切片庫(kù),便于培訓(xùn)、分析、管理等,脫離時(shí)間、空間限制。
將傳統(tǒng)玻片數(shù)字化,進(jìn)行存儲(chǔ)與管理,可建立數(shù)字切片庫(kù),便于培訓(xùn)、分析、管理等,脫離時(shí)間、空間限制。
將傳統(tǒng)玻片數(shù)字化,進(jìn)行存儲(chǔ)與管理,可建立數(shù)字切片庫(kù),便于培訓(xùn)、分析、管理等,脫離時(shí)間、空間限制。
電子束曝光一種高分辨率的微細(xì)加工技術(shù),廣泛應(yīng)用于納米科技和半導(dǎo)體制造領(lǐng)域。其基本原理是利用聚焦的電子束在光刻膠上進(jìn)行直接寫(xiě)入,通過(guò)改變光刻膠的化學(xué)性質(zhì)來(lái)形成微納米結(jié)構(gòu)圖案。上海納騰儀器有限公司自主研發(fā)的電子束曝光機(jī)(Pharos系列產(chǎn)品), 具有高分辨率、 精準(zhǔn)控制和高度自動(dòng)化的優(yōu)勢(shì), 被廣泛應(yīng)用于制備半導(dǎo)體芯片、 光子學(xué)元件和其他微納米結(jié)構(gòu)等領(lǐng)域, 是進(jìn)行亞微米至納米級(jí)曝光技術(shù)研發(fā)的理想工具。
1. SE series可執(zhí)行Thermal-ALD,PEALD,與ALA等先進(jìn)制程。 2. SE series具有高度的改造彈性,但其性能與穩(wěn)定性并不因此而犧牲。 3. 原子層沉積系統(tǒng)設(shè)計(jì)具有便捷、穩(wěn)定、再現(xiàn)性高的產(chǎn)品定位。
WinSPM EDU 系統(tǒng)榮獲“全國(guó)教學(xué)儀器設(shè)備評(píng)比較好獎(jiǎng)”,該獎(jiǎng)項(xiàng)由國(guó)家教育裝備委員會(huì)頒發(fā),表彰其在納米教育實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)方面的創(chuàng)新設(shè)計(jì)、穩(wěn)定性能和在全國(guó)高校廣泛應(yīng)用中的突出表現(xiàn)。
日本東宇 是業(yè)界知名的氮?dú)獍l(fā)生器廠家,擁有30年豐富的銷售經(jīng)驗(yàn)及專業(yè)的售后支持團(tuán)隊(duì)。 日本京都的研發(fā)生產(chǎn)中心, 與合作實(shí)驗(yàn)室持續(xù)開(kāi)發(fā)新機(jī)型。 在日本、 中國(guó)等多國(guó)取得多項(xiàng)技術(shù)專利。工廠通過(guò)ISO9001認(rèn)證。
較為低的曲率半徑:每根針經(jīng)過(guò)質(zhì)檢; 較小探針差異:較為特加工工藝實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)控制