目標(biāo):反射基板上厚膜厚度的精確測(cè)量。
手段和方法:WLRS用于測(cè)量厚透明薄膜(>100μm)的薄膜厚度。所有測(cè)量均使用調(diào)諧至540、1000nm光譜范圍的FR-Basic進(jìn)行。反射探頭的有效斑點(diǎn)直徑為1mm。樣品是顯微鏡玻璃和硅晶片,通過(guò)旋涂和通孔擴(kuò)散涂有PMMA和SU-8薄膜。對(duì)于參考測(cè)量,使用高反射鋁涂層鏡(NT01-913-533,Edmund Optics)。
結(jié)果:在圖1中,顯示了在標(biāo)準(zhǔn)顯微鏡玻璃上旋涂的PMMA薄膜的反射光譜。由于基板是透明的,因此采用了一種特殊的保持器,防止來(lái)自基板背面的透射光被反射探針?lè)瓷浜褪占?。由于PMMA和基板之間的折射率對(duì)比度較小,反射條紋的振幅較小,但即使在這種情況下,膜厚度也能精確計(jì)算。在圖2-4中,顯示了施加在Si基板上的SU-8薄膜的薄膜厚度測(cè)量??梢跃_測(cè)量甚至高于400μm的薄膜厚度。通過(guò)進(jìn)一步將光譜區(qū)域調(diào)諧到較小的光譜范圍,例如850、1000nm,可以測(cè)量到更高的膜厚度。
圖1:實(shí)驗(yàn)和擬合反射光譜從顯微鏡玻璃上的a~10μm PMMA開(kāi)始(原始數(shù)據(jù))
圖2:實(shí)驗(yàn)和擬合反射光譜硅片上旋涂a ~90μm SU-8薄膜(絕對(duì)反射率數(shù)據(jù)).
圖3:通過(guò)擴(kuò)散器在硅片上涂覆a~170μm SU-8薄膜的實(shí)驗(yàn)和擬合反射光譜(絕對(duì)反射率數(shù)據(jù)).
圖4:通過(guò)擴(kuò)散器在硅片上涂覆a ~430μm SU-8薄膜的實(shí)驗(yàn)和擬合反射光譜(未經(jīng)加工的未歸一化的反射率數(shù)據(jù)).
結(jié)論:證明了厚膜厚度(甚至>0.4mm)的精確測(cè)量。
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