上期內(nèi)容回顧:實(shí)測(cè)案例——晶圓上氮氧化鋰(LiPON)薄膜的表征(一)
結(jié)果:
樣品 1 - 鉑鈦層上的鋰磷氧氮薄膜
由于鉑層厚度相對(duì)較高且具有強(qiáng)光學(xué)吸收特性,可將其視為光學(xué)上的半無限介質(zhì),因此在光學(xué)模型中作為有效襯底使用。鋰磷氧氮薄膜的整面掃描圖結(jié)果如下圖所示。下圖中展示了具有代表性的實(shí)驗(yàn)實(shí)測(cè)反射光譜(紅色曲線)。光譜擬合在 400–900 nm 波長(zhǎng)范圍內(nèi)進(jìn)行。
圖 4: 樣品 1 - 鉑鈦層上鋰磷氧氮薄膜區(qū)域的整面掃描圖。
圖 5:鉑鈦層上代表性測(cè)量點(diǎn)的反射光譜及鋰磷氧氮薄膜厚度結(jié)果。
圖 6:鉑鈦層上代表性測(cè)量點(diǎn)的快速傅里葉變換頻譜圖。
樣品 1 - 硅基底上二氧化硅層之上的鋰磷氧氮薄膜
鋰磷氧氮薄膜及二氧化硅薄膜的厚度整面掃描圖結(jié)果如下圖所示。下圖9展示了具有代表性的實(shí)驗(yàn)實(shí)測(cè)反射光譜(紅色曲線)。光譜擬合在400–900 nm波長(zhǎng)范圍內(nèi)進(jìn)行,在擬合過程中同步確定了兩個(gè)膜層的厚度。
圖 7: 樣品 1 - 鋰磷氧氮薄膜區(qū)域的整面掃描圖。
圖 8: 樣品 1 - 二氧化硅薄膜區(qū)域的整面掃描圖。
圖 9: 二氧化硅層上鋰磷氧氮薄膜代表性測(cè)量點(diǎn)的反射光譜及厚度結(jié)果。
樣品 2 - 二氧化硅薄膜
二氧化硅薄膜的厚度整面掃描圖結(jié)果如下圖所示。下圖中展示了具有代表性的實(shí)驗(yàn)實(shí)測(cè)反射光譜(紅色曲線)。光譜擬合在 400–900 nm 波長(zhǎng)范圍內(nèi)進(jìn)行。
圖 10:樣品 2 - 二氧化硅薄膜區(qū)域的整面掃描圖。
圖 11:二氧化硅薄膜代表性測(cè)量點(diǎn)的反射光譜及厚度結(jié)果。
結(jié)論:上述晶圓已成功完成表征,結(jié)果總結(jié)如下。具體而言,對(duì)應(yīng)于各樣品整面掃描圖測(cè)量的統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)表如下:
所提供的晶圓可通過 FR-Scanner-AllInOne-Mic-XY200 設(shè)備及 5 倍物鏡實(shí)現(xiàn)精確表征。
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