2. 試 驗(yàn) 金剛石自支撐膜是由本實(shí)驗(yàn)室的100KW 級(jí)高功率直流電弧等離子體濺射化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)制備而成，沉積金剛石自支撐膜的工藝參數(shù)如表1 所示 Table 1 Depositing parameters of the diamond thin film 功率 KW 15 沉積室壓強(qiáng) KPa 4.2 基體溫度 ～950 H2 流量 SLM 8 CH4 流量 SCCM 120 Ar 流量 SLM 2 沉積時(shí)間 hour 80 基體 Mo 金剛石自支撐膜的直徑為60mm，厚度為1mm，生長(zhǎng)面的Z初粗糙度Ra 大于12m，并且表面生長(zhǎng)不均勻，呈現(xiàn)起伏不平的形貌特征 拋光設(shè)備選用沈陽(yáng)科晶設(shè)備制造有限公司的UNIPOL-1502A 型自動(dòng)研磨拋光機(jī)，該設(shè)備可無(wú)級(jí)調(diào)速，試樣加載為載物盤自身重力加載，鑄鐵盤選平面盤或帶槽平盤，還可同時(shí)加工3 個(gè)試樣達(dá)到小批量生產(chǎn)的能力該設(shè)備研磨盤旋轉(zhuǎn)平穩(wěn)，380mm 的研磨拋光盤的跳動(dòng)范圍在5～10m，對(duì)試樣損害小 金剛石粉選用高溫高壓爆炸法制備的篩選粉，粒度級(jí)別分別是100/120140/170200/230，采用加水研磨，金剛石粉可部分回收 本實(shí)驗(yàn)旨在探索新的設(shè)備的工藝參數(shù)，故嘗試不同的轉(zhuǎn)速，不同的金剛石粉顆粒尺寸，不同表面形狀的研磨盤，工作固定的時(shí)間段，選擇Zda磨削量的工藝參數(shù)作為結(jié)果參數(shù) UNIPOL-1502自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)