4. 結(jié) 論 長期以來本實驗室在進行金剛石自支撐膜后續(xù)加工的領(lǐng)域里碰到的難題是磨削速率太 低，安全性也低，容易損壞樣品，從而大大增加了研究成本，實際應(yīng)用方面也受到阻礙 這次選用新的設(shè)備使用Z簡單的方法，磨削速率有了很大的提高又加上金剛石粉可以回 收再利用，從而降低了后續(xù)加工的成本通過本次新工藝的探索，得出以下結(jié)論： 1) 帶槽盤的粗拋效果好，磨削速率大，平面盤的細(xì)拋效果好，有利于表面粗糙度的 降低在金剛石自支撐膜研磨初期，使用帶槽盤進行粗磨，到達一定粗糙度之后 選用平面盤進行細(xì)磨 2) 不同的金剛石粉顆粒尺寸都對應(yīng)有一個磨削效果**的轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速，一般是使得金剛石粉能夠在研磨帶上均勻分布的轉(zhuǎn)速范圍，充分利用金剛石粉的磨削能力如本試驗的200/230 粒度對應(yīng)的35r/min，140/170 粒度對應(yīng)的20～25r/min，100/120 粒度對應(yīng)的20～25r/min 本次試驗所進行的磨拋工序是粗拋和細(xì)拋，精拋工藝需后續(xù)工作進一步探索同時，本試驗過程中發(fā)現(xiàn)，新的設(shè)備和工藝雖然能提高磨削速率，降低表面粗糙度，但是不能改變金剛石自支撐膜的初始平面度，只會在原有平面度的基礎(chǔ)上進行拋光處理然而平面度 對金剛石自支撐膜的應(yīng)用也有著較大的影響，所以有待進一步探索研究金剛石自支撐膜的平整技術(shù) UNIPOL-1502自動精密研磨拋光機