1北京科技大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院功能材料研究所，北京（100083） 2沈陽科晶設(shè)備制造有限公司，沈陽（110168） 1. 引 言 眾所周知，金剛石是自然界目前所知Z硬的材料，同時，它具有極高的熱導(dǎo)率，高的電子和空位遷移率，并在很寬的光波段范圍內(nèi)（0.2~25m）透明[1]因此，諸多的優(yōu)異性能促使人們對金剛石材料產(chǎn)生了濃厚的興趣早期，金剛石材料在刀具磨具材料上廣泛應(yīng)用，其它電子熱學(xué)光學(xué)聲學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用都要求金剛石要經(jīng)過拋光處才能夠使用20 世紀(jì)90 年代以來，隨著化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)的發(fā)展，人造金剛石自支撐膜已具有十分接近天然金剛石的各項性能且成本也降到用戶可以接受的范圍，商業(yè)化應(yīng)用前景可觀[2]本研究所長期致力于金剛石自支撐膜的研究和開發(fā)，已經(jīng)開發(fā)出擁有我國獨立知識產(chǎn)權(quán)的高功率100KW 級直流電弧等離子體濺射化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(100KW DC Arc Plasma Jet CVD)，可以沉積出Zda直徑為120mm 的金剛石自支撐膜，厚度在1mm 左右[3]然而，金剛石自支撐膜的后加工（包括切割拋光平整化等工序）特別困難，所以在金剛石自支撐膜拋光方面本研究所亦進(jìn)行過較多的研究[4,5]，但是效果都不明顯，不是效率太低，且易損壞樣品，就是研磨設(shè)備成本過高，控制穩(wěn)定性差，不利于進(jìn)行產(chǎn)業(yè)化的應(yīng)用 如今金剛石膜的拋光方法已經(jīng)存在多種，從早期到現(xiàn)在依次有：金剛石粉研磨[6]熱化學(xué)拋光[7]離子束拋光[8]等離子拋光[9]化學(xué)機(jī)械拋光 [10]激光拋光[11]等方法這些方法當(dāng)中，各有優(yōu)缺點，萬靜[12]等綜述比較了這些方法各自的特點本文選用的方法是Z古老Z方便原理Z簡單的金剛石粉機(jī)械研磨拋光方法，研磨拋光的設(shè)備選用沈陽科晶 設(shè)備制造有限公司專門研制的UNIPOL－1502A 拋光機(jī)通過研究研磨盤面形轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速金剛石粉顆粒尺寸對金剛石自支撐膜磨拋速率的影響，找出新技術(shù)的工藝參數(shù)和工藝條件 SYJ-D2000金剛石帶鋸切割機(jī)（原KJ-3000A金剛石帶鋸切割機(jī)）