3. 結(jié)果與討論 3.1 不同研磨盤對金剛石自支撐膜磨拋速率的影響 選用粒度為100/120 的金剛石粉分別在帶槽盤和平面盤上以50r/min 的轉(zhuǎn)速研磨1 小 時(shí)，對金剛石自支撐膜進(jìn)行粗拋，測量多點(diǎn)相對高度，取平均值評價(jià)磨拋速率，不同磨盤 對金剛石自支撐膜磨拋速率的影響如圖1 所示 26 27 28 29 30 31 32 33 50r/min 帶槽盤 平盤 圖1 不同研磨盤對磨拋速率的影響 Fig. 1 the effect of the different lapping plates on the polishing speed 從圖1 可以看出，帶槽盤對金剛石自支撐膜的磨拋速率快，有利于金剛石自支撐膜的 粗拋過程因?yàn)閹Р郾P的工作原理增大金剛石粉與金剛石自支撐膜的切削力，并且提高金 剛石粉的滾動幾率，使得金剛石粉盡可能多地利用尖角磨削，從而提高磨拋速率但是帶 槽盤容易產(chǎn)生較多且深的劃痕，故而不利于金剛石自支撐膜的細(xì)拋平盤對金剛石自支撐 膜的磨拋屬于溫和型的，采用鑄鐵盤鑲嵌金剛石粉的方式磨削金剛石自支撐膜，對金剛 石膜的切削力主要靠鑲嵌力來提供，故而相對恒定，可以促進(jìn)金剛石膜表面粗糙度的降低， 但磨削速率沒有帶槽盤大 UNIPOL-1260無級變速調(diào)壓高精度研磨拋光機(jī)