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產(chǎn)品中心

儀器網(wǎng)>產(chǎn)品中心>智能工業(yè)自動(dòng)化>其它>光刻膠 更新時(shí)間:2026-04-16 07:26:35

光刻膠

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產(chǎn)品產(chǎn)地:
不限 中國大陸 大洋洲 歐洲 亞洲 美洲
廠商性質(zhì):
不限 自營 代理 經(jīng)銷
銷售地區(qū):
不限 售全國 售本省 售本市
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    電子束曝光(EBL)阻劑/光刻膠

    EM阻劑/EM Resist PMMA/SML50/100/300/600etc
    南京覃思科技有限公司
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    光刻膠

    Allresist AR 歐洲 德國
    北京匯德信科技有限公司
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    東莞昊昕光刻膠低溫保存箱冷存箱冷凍冰箱

    東莞昊昕 HX系列 廣東 東莞
    東莞市昊昕?jī)x器設(shè)備有限公司
    HX系列光刻膠低溫保存箱冷存箱冷凍冰箱采用微電腦智能電子溫控器數(shù)字調(diào)溫?cái)?shù)顯調(diào)控溫,溫度數(shù)字調(diào)節(jié)數(shù)字設(shè)定、數(shù)字顯示,有高低溫上下限設(shè)定及超溫報(bào)警功能以確保物品安全,控制參數(shù)鎖定功能防誤調(diào)以確保物品安全,箱門帶鎖可鎖門以確保物品安全。風(fēng)冷系列蒸發(fā)器自動(dòng)防霜自動(dòng)化霜自動(dòng)除霜,長期不間斷連續(xù)使用內(nèi)膽內(nèi)壁無水無霜不結(jié)冰。 HX系列光刻膠低溫保存箱冷存箱冷凍冰箱大多采用歐洲品牌壓縮機(jī)和散熱風(fēng)機(jī),無氟環(huán)保致冷劑,全銅管路嚴(yán)密防漏,性能優(yōu)良,可靠耐用。配備移動(dòng)腳輪,使用方便。
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    柯達(dá)光刻膠PKP II

    柯達(dá) PKP II
    陜西思的信息資訊有限公司
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    光刻膠液體顆粒計(jì)數(shù)器 微納米粒子計(jì)數(shù)儀

    普洛帝 PMT-2 陜西 西安
    西安普研檢測(cè)工程有限公司
    PMT-2液體顆粒計(jì)數(shù)儀采用英國普洛帝核心技術(shù)創(chuàng)新型的第八代雙激光窄光顆粒檢測(cè)傳感器,雙JZ流量控制-精密計(jì)量柱塞泵和超精密流量電磁控制系統(tǒng),可以對(duì)清洗劑、半導(dǎo)體、超純水、電子產(chǎn)品、平板玻璃、硅晶片等產(chǎn)品的在線或離線顆粒監(jiān)測(cè)和分析,目前是英國普洛帝分析測(cè)試集團(tuán)向水質(zhì)領(lǐng)域及微納米檢測(cè)領(lǐng)域的重要產(chǎn)品。
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    日本雅馬拓 YAMATO光刻膠固化爐DTPN-612GCT01

    日本雅馬拓 DTPN-612GCT01 亞洲 日本
    浚和(上海)儀器科技有限公司
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    SU-8 2005 光刻膠

    美國MicroChem 2005/2010/2025 美洲 其它
    武漢邁可諾科技有限公司
    SU-8 2000有十二種標(biāo)準(zhǔn)粘度。通過單道涂覆工藝可以實(shí)現(xiàn)0.5至> 200微米的膜厚。使膜的暴露的和隨后熱交聯(lián)的部分不溶于液體顯影劑。
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    光刻膠SU-8 2000

    美國MicroChem 2035/2050/2075/2100 美洲 其它
    武漢邁可諾科技有限公司
    SU-8 2000是一種高對(duì)比度,基于環(huán)氧的光致抗蝕劑,設(shè)計(jì)用于微加工和其他微電子應(yīng)用,需要厚,化學(xué)和熱穩(wěn)定的圖像。 SU-8 2000是SU-8的改進(jìn)配方,多年來已被MEMS生產(chǎn)商廣泛使用。使用更快干燥,極性更大的溶劑系統(tǒng)可改善涂層質(zhì)量并提高工藝產(chǎn)量。

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光刻膠激光顆粒計(jì)數(shù)器

PMT-2光刻膠激光顆粒計(jì)數(shù)器,采用英國普洛帝核心技術(shù)創(chuàng)新型的第八代雙激光窄光顆粒檢測(cè)傳感器,雙精準(zhǔn)流量控制-精密計(jì)量柱塞泵和超精密流量電磁控制系統(tǒng),可以對(duì)清洗劑、半導(dǎo)體、超純水、電子產(chǎn)品、平板玻璃、硅晶片等產(chǎn)品的在線或離線顆粒監(jiān)測(cè)和分析,目前是英國普洛帝分析測(cè)試集團(tuán)向水質(zhì)領(lǐng)域及微納米檢測(cè)領(lǐng)域的重要產(chǎn)品。

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SU-8 2005 光刻膠

SU-8 2000有十二種標(biāo)準(zhǔn)粘度。通過單道涂覆工藝可以實(shí)現(xiàn)0.5至> 200微米的膜厚。使膜的暴露的和隨后熱交聯(lián)的部分不溶于液體顯影劑。

光刻膠SU-8 2000

SU-8 2000是一種高對(duì)比度,基于環(huán)氧的光致抗蝕劑,設(shè)計(jì)用于微加工和其他微電子應(yīng)用,需要厚,化學(xué)和熱穩(wěn)定的圖像。 SU-8 2000是SU-8的改進(jìn)配方,多年來已被MEMS生產(chǎn)商廣泛使用。使用更快干燥,極性更大的溶劑系統(tǒng)可改善涂層質(zhì)量并提高工藝產(chǎn)量。

柯達(dá)光刻膠PKP II

光刻膠微納米粒子檢測(cè)儀

在線優(yōu)勢(shì):清洗劑、半導(dǎo)體、超純水、電子產(chǎn)品、平板玻璃、硅晶片等產(chǎn)品的在線顆粒監(jiān)測(cè)和分析,都是PMT-2微納米監(jiān)測(cè)儀的經(jīng)典應(yīng)用場(chǎng)所,并為生產(chǎn)線上的重要組成部分。在線、實(shí)時(shí)、連續(xù)取樣、報(bào)警提示,能夠即時(shí)掌握顆粒污染診斷和趨勢(shì)。 離線優(yōu)勢(shì):移動(dòng)測(cè)量和固定測(cè)量顆粒大小及多少雙模式,解決連續(xù)跟蹤監(jiān)測(cè)的生產(chǎn)過程難題,無論您是即時(shí)測(cè)量還是清潔跟蹤監(jiān)測(cè),都會(huì)為您提供完善的測(cè)試方案,讓您的測(cè)試更加快捷。

電子束曝光(EBL)阻劑/光刻膠

光刻膠

應(yīng)用方案

光刻膠無損測(cè)厚儀 半導(dǎo)體光刻膠國產(chǎn)化進(jìn)程 負(fù)型光刻膠光刻流程 液體處理 | 助力光刻膠金屬雜質(zhì)分析 應(yīng)用報(bào)告 | 光刻膠的光固化反應(yīng)熱測(cè)量 實(shí)測(cè)案例——光刻膠薄膜顯影過程的原位表征 【阿拉丁】光刻膠試劑:半導(dǎo)體精細(xì)制造的“像素基石” 實(shí)測(cè)案例——光刻膠對(duì)比度曲線的快速精準(zhǔn)測(cè)定 破解光刻膠聚合物“雜質(zhì)密碼” | APC高效分離新應(yīng)用 GPC/APC技術(shù)揭曉光刻膠樹脂的分子級(jí)奧秘

行業(yè)資料

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技術(shù)專欄:

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