在《光刻膠研發(fā)相關(guān)解決方案推薦（上集）》 中推薦了兩個(gè)光刻膠研發(fā)相關(guān)解決方案，這次我們來介紹一下光刻膠曝光動(dòng)力學(xué)原位測試與光刻膠DILL模型建立的相關(guān)解決方案。

光刻膠曝光動(dòng)力學(xué)原位測試

紫外光-功率補(bǔ)償型差示掃描量熱分析儀

（用于光刻膠在不同紫外波段下的曝光動(dòng)力學(xué)研究）

曝光動(dòng)力學(xué)研究對于光刻膠的研發(fā)異常關(guān)鍵，因?yàn)槠湫苤苯記Q定了制程良品率和生產(chǎn)效率。為了更加準(zhǔn)確原位模擬光刻膠在不同紫外-可見波段下的曝光歷程，建議增加功率補(bǔ)償型差示掃描量熱分析儀（DSC）和紫外光源聯(lián)用設(shè)備，光源可選汞燈或者LED光源分別模擬不同波段范圍的實(shí)際需求，比如：模擬i線-365 nm，g線-436 nm或者h(yuǎn)線-405nm采用汞燈，DUV區(qū)間則選擇LED光源等等。

目前市面上的DSC分為熱流型和功率補(bǔ)償型兩種原理。前者僅適合常規(guī)的熔點(diǎn)或結(jié)晶過程的測定，而功率補(bǔ)償型DSC 8500具備更高的量熱靈敏度，極短的瞬態(tài)背景干擾，且可主動(dòng)補(bǔ)償由于紫外光源照射或固化過程產(chǎn)生的額外背景溫度/熱量擾動(dòng)，非常適合用于研究光刻膠的固化動(dòng)力學(xué)過程，為研發(fā)更加穩(wěn)定可靠的新一代無機(jī)金屬氧化物復(fù)合光刻膠提供準(zhǔn)確熱力學(xué)數(shù)據(jù)支撐。

光刻膠DILL模型建立

——為理論計(jì)算提供支撐

高性能紫外-可見-近紅外分光光度計(jì) [1]

（輔助建立DILL透光模型）

標(biāo)量衍射原理計(jì)算模擬光刻膠的曝光過程一般采用Dill方程，以Dill模型或者M(jìn)ack模型計(jì)算光刻膠的顯影過程，獲得其在單位體積分布范圍所吸收的光能大小，該大小最 終決定了光刻膠曝光過程中各個(gè)組分自身化學(xué)結(jié)構(gòu)的變化速率（反應(yīng)速率）[2]。簡言之，我們必須保證所研發(fā)的光刻膠在固定的曝光時(shí)效內(nèi)實(shí)現(xiàn)自上而下的均勻透光、反應(yīng)。

DILL模型具備A，B和C三個(gè)參數(shù)。A代表與曝光相關(guān)的吸收參數(shù)，B代表與曝光非相關(guān)的吸收參數(shù)，C則代表光刻膠的漂白速率（化學(xué)物質(zhì)的光化學(xué)反應(yīng)速率）。利用高性能Lambda 1050+ UV-Vis光譜儀可以測定光刻膠在曝光前后的吸光度信號，輔助計(jì)算DILL模型所需的各個(gè)關(guān)鍵參數(shù)，為研究新型光刻膠的曝光顯影模擬提供基礎(chǔ)數(shù)據(jù)支撐。

PerkinElmer光刻膠解決方案

PerkinElmer的科學(xué)家們將會(huì)持續(xù)不斷的用更加全面的解決方案助力半導(dǎo)體行業(yè)蓬勃發(fā)展。

參考文獻(xiàn)：

[1] Andrew Estroff, Photoresist Absorbance and Bleaching.

[2] Chris Mack, Fundamental principles of optical lithography: the science of microfabrication, John Wiley & Sons, 2007.

      第33 屆全國化學(xué)與物理電源學(xué)術(shù)年會(huì)定于2019 年8 月16-17 日在蘇州舉行。本次會(huì)議將深入探討動(dòng)力電池、儲(chǔ)能電池、太陽電池、燃料電池和新體系電池等化學(xué)與物理電源技術(shù)的發(fā)展，特別是面向未來發(fā)展新增了能源互聯(lián)網(wǎng)和微納可穿戴電源技術(shù)等內(nèi)容，交流基礎(chǔ)研究和應(yīng)用研究的新成果。

       珀金埃爾默的產(chǎn)品在電池行業(yè)的應(yīng)用已經(jīng)有數(shù)十年的歷史。多年來，珀金埃爾默積累了豐富的檢測經(jīng)驗(yàn)和實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)，已經(jīng)形成了一套完善的電池行業(yè)解決方案。本次會(huì)議上，我們也將攜相關(guān)方案與各位參會(huì)代表見面。在為用戶提供簡便、GX的檢測方案的同時(shí)，珀金埃爾默也在不停更新自己的解決方案，與電池行業(yè)的用戶共同面對日新月異的行業(yè)發(fā)展。

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關(guān)于珀金埃爾默：

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我們精選出11篇ZX相關(guān)技術(shù)文獻(xiàn)，匯集成《珀金埃爾默應(yīng)用軟件文集》，幫助您更好地了解和使用這些軟件，在日常質(zhì)控檢測工作中做到合法合規(guī)。文集主要內(nèi)容如下：

1 棄簡就繁的跨平臺(tái)多類型儀器用Syngistix Enhanced Security軟件

2 軟件加速并簡化監(jiān)管過程的Syngistix Enhanced Security軟件

3 符合21CFR Part 11法規(guī)要求的Syngistix for AAS ES軟件

4 常見問題回答 —— Syngistix for AAS ES軟件

5 符合21CFR Part 11法規(guī)要求的Syngistix for ICP ES軟件

6 常見問題回答 —— Syngistix for ICP ES軟件

7 符合21CFR Part 11法規(guī)要求的Syngistix for ICP-MS ES軟件

8 常見問題回答 —— Syngistix for ICP-MS ES軟件

9 數(shù)據(jù)完整性 —— Spectrum 10 ES紅外光譜軟件

10 數(shù)據(jù)完整性 —— Spectrum FL ES 熒光分光光度計(jì)軟件

11 數(shù)據(jù)完整性 —— UV WinLab ES 紫外-可見光譜軟件

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作為全 球最 大的分析儀器提供商之一，珀金埃爾默始終致力于以創(chuàng)新的技術(shù)服務(wù)于全 球各地的實(shí)驗(yàn)室，助力其開展對前沿科技的探索。

珀金埃爾默的產(chǎn)品涵蓋了光譜、色譜、質(zhì)譜、材料表征等全面的實(shí)驗(yàn)室分析解決方案，為制藥、化工、食品及環(huán)境檢測實(shí)驗(yàn)室提供完整的工作流解決方案，助力效率提升。

珀金埃爾默2021年收購位于美國新澤西州的ES Industries公司之后，持續(xù)擴(kuò)大珀金埃爾默液相色譜耗材產(chǎn)品組合，將先進(jìn)的色譜柱加入其中，并誠邀合作伙伴加盟共贏。

ES液相色譜柱以其創(chuàng)新高效的液相色譜和超臨界流體色譜（SFC）柱、手性柱而聞 名，在提供具有出色可靠性、可擴(kuò)展性和可重復(fù)性的色譜柱領(lǐng)域，擁有超過40年的經(jīng)驗(yàn)。廣泛應(yīng)用于方法開發(fā)過程、液質(zhì)聯(lián)用分析、質(zhì)量控制和制備純化等領(lǐng)域。

并整合2020年推出的LC 300液相色譜系統(tǒng)和Simplicity Chrom CDS軟件方案，提供更加完整、便利的液相色譜整體解決方案，用戶可以通過單一渠道，滿足全部液相色譜工作流程的需求，并獲得更好更快的分析體驗(yàn)。

在珀金埃爾默發(fā)展歷程中，我們已經(jīng)與多個(gè)領(lǐng)域的眾多合作伙伴建立了多產(chǎn)品、多層次的深度合作關(guān)系，為客戶提供了多維度整體性解決方案，實(shí)現(xiàn)共贏。

2023年將繼續(xù)大力支持色譜版塊，尋求與更多有意向的代理商朋友達(dá)成深入合作，接受多樣化合作方式，廣開言路，集思廣益，一起將珀金埃爾默的服務(wù)與品質(zhì)帶給更多的用戶。