光刻膠測(cè)量的“安全”專家

 非曝光波段光源｜避開敏感波段，杜絕膠層變性

 原位無損檢測(cè)法｜無需破壞樣品，實(shí)時(shí)監(jiān)控工藝

 納米級(jí)超高精度｜消除基底干擾，精準(zhǔn)把控厚度

傳統(tǒng)光刻膠測(cè)量的挑戰(zhàn)

?樣品損傷｜強(qiáng)光照射致膠層曝光變性

? 測(cè)量誤差｜復(fù)雜基底與多層結(jié)構(gòu)干擾

?效率低下｜手動(dòng)對(duì)焦耗時(shí)，重復(fù)性差

?工藝隱患｜接觸式測(cè)量引入顆粒污染

悉識(shí)科技膜厚儀：專業(yè)無損測(cè)量光刻膠

物理級(jí)安全防線

剔除紫外波段，確保光刻膠“零曝光、零變性”

 穿透厚膜的“火眼金睛”

針對(duì)百微米超厚光刻膠，實(shí)現(xiàn)高信噪比測(cè)量

?厚度(d)與光學(xué)常數(shù)(n, k)智能解算

自動(dòng)解析厚度峰值，無需人工擬合，秒級(jí)出數(shù)

產(chǎn)品特色

極致性能

?15nm – 1.5mm (量程覆蓋薄膜至厚膜)

?< 0.02 nm (靜態(tài)測(cè)量穩(wěn)定性)

?多層全參解析 (含厚度及 n、k)

靈活定制

?0.2mm-2mm光斑 (可選配微小光斑)

?便攜/在線 (支持手提箱及產(chǎn)線集成)

?100% 國(guó)產(chǎn) (軟硬件自主可控)

智能算法

?PolarX (自研核心算法引擎)

?1秒出數(shù) (一鍵全自動(dòng)擬合)

?無門檻 (流程極簡(jiǎn)，快速上手)