脈沖激光沉積系統(tǒng)為一種在化學(xué)領(lǐng)域進(jìn)行應(yīng)用的工藝試驗(yàn)儀器。脈沖激光沉積，又被叫做脈沖激光燒蝕，為一種通過激光轟擊物體，之后在不同的襯底上沉淀轟擊出來的物質(zhì)，使沉淀或者薄膜獲得的一種手段。

脈沖激光沉積系統(tǒng)優(yōu)點(diǎn)

1、能夠任意調(diào)節(jié)工藝參數(shù)，不會限制靶材的種類。

2、不僅有著巨大的發(fā)展?jié)摿?，而且所具有的兼容性也很大?/span>

3、清潔處理十分方便，能夠?qū)Χ喾N薄膜材料進(jìn)行制備。

4、產(chǎn)生等離子體的能源采用高光子能量和高能量密度的紫外脈沖激光，所以不僅沒有污染，而且控制起來也相對比較容易。

5、燒蝕物粒子有著非常高的能量，能夠?qū)瘜W(xué)計(jì)量進(jìn)行精確地控制，使得靶膜成分幾乎相同得以實(shí)現(xiàn)，使控制膜組分的工作簡化了，對于制備具有復(fù)雜成分和高熔點(diǎn)的薄膜尤為合適。

6、獲得期望化學(xué)計(jì)量比的多組分薄膜較為容易，并且所具有的保成分性良好。

7、有著較高的沉積速率，有著較短的試驗(yàn)周期，有著較低的襯底溫度，能夠均勻地制備薄膜。

8、在生長過程中能夠?qū)⒍喾N氣體原位引入，能夠在反應(yīng)氣氛中制膜，此將另一條途徑提供給了薄膜組分的控制。

9、多靶材組件能夠靈便地進(jìn)行變換，對于多層膜及異質(zhì)結(jié)的制備相對比較容易，有著較為簡單的工藝，有著較大的靈活性，能夠制備種類較多的薄膜。

10、能夠使用激光對薄膜進(jìn)行多種處理等