脈沖激光沉積系統(tǒng)為一種在化學(xué)領(lǐng)域進行應(yīng)用的工藝試驗儀器。脈沖激光沉積，又被叫做脈沖激光燒蝕，為一種通過激光轟擊物體，之后在不同的襯底上沉淀轟擊出來的物質(zhì)，使沉淀或者薄膜獲得的一種手段。

脈沖激光沉積原理

脈沖激光沉積系統(tǒng)有著簡單的設(shè)備，然而其原理卻具備十分復(fù)雜的物理現(xiàn)象。其對于高能量脈沖輻射對固體靶沖擊有所涉及時，激光與物質(zhì)之間的所有物理相互作用，等離子羽狀物的形成也包含其中，在此之后，已熔化的物質(zhì)從等離子羽狀物通過轉(zhuǎn)移到基片表面以及zui后的膜生成過程。因此脈沖激光沉積能夠包括以下四個階段：

1. 激光輻射與靶的相互作用

2. 熔化物質(zhì)的動態(tài)

3. 在基片熔化物質(zhì)的沉積

4. 在基片表面薄膜的成核與生成

脈沖激光沉積存在問題

作為一種新生的沉積技術(shù)，一些有待解決的問題脈沖激光沉積也是有所存在的。

1、有著比較慢的平均沉積速率，隨著淀積材料的差異，對于大約1000方毫米沉積面積，幾百納米到1微米為每小時的沉積厚度的大致范圍。

2、由于激光薄膜制備設(shè)備的成本和沉積規(guī)模的限制，到目前為止，其僅在微電子技術(shù)、傳感器技術(shù)、光學(xué)技術(shù)等高技術(shù)領(lǐng)域及新材料薄膜開發(fā)研制方面適用。

3、對相當(dāng)多材料，熔融小顆?；虬胁乃槠诔练e的薄膜中。此為在激光引起的爆炸過程中噴濺出來的。這些顆粒的存在使得薄膜的質(zhì)量大大地降低了，實際上，此才是脈沖激光沉積系統(tǒng)迫切需要解決的關(guān)鍵問題。