Pfeiffer 氦質(zhì)譜檢漏儀脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 檢漏
脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD
脈沖激光沉積系統(tǒng) Pulsed laser deposition 是制備高通量多晶薄膜, 外延薄膜和多層異質(zhì)結(jié)構(gòu)和超晶格結(jié)構(gòu)的物理氣相沉積設(shè)備, 通常需要保證本底真空度達(dá)到 10-8mbar, 同時(shí)高真空環(huán)境對(duì)系統(tǒng)配置的 RHEED 及溫控系統(tǒng)等關(guān)鍵設(shè)備的壽命也至關(guān)重要.

脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 需要檢漏原因
PLD 系統(tǒng)需要高真空環(huán)境, 腔室是否有泄露, 是否有內(nèi)部材料放氣等因素對(duì)實(shí)現(xiàn)高真空及超高真空很關(guān)鍵. 因此需要對(duì)整個(gè)系統(tǒng)進(jìn)行泄漏檢測(cè). 氦質(zhì)譜檢漏儀利用氦氣作為示蹤氣體可精確定位, 定量漏點(diǎn). 因此廣泛應(yīng)用于 PLD 設(shè)備檢漏.

脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 檢漏客戶案例: 上海伯東某客戶 PLD 設(shè)備用來制備各種材料, 為了保證產(chǎn)品質(zhì)量, 采購(gòu)氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340 搭配使用.

脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 檢漏方法
采用真空模式檢漏, 通過波紋管連接需要檢漏的腔體, 設(shè)定好需要的漏率值
在懷疑有漏的地方噴氦氣（一般需要檢漏的部位是焊縫或連接處）,如果有漏,檢漏儀會(huì)出現(xiàn)聲光報(bào)警同時(shí)在屏幕上顯示當(dāng)前漏率值.

上海伯東推薦 Pfeiffer 氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340 三種類型可選

結(jié)合了 Pfeiffer 與 Adixen 兩家檢漏儀的技術(shù)優(yōu)勢(shì), 上海伯東德國(guó) Pfeiffer 推出全系列新型號(hào)氦質(zhì)譜檢漏儀, 從便攜式檢漏儀到工作臺(tái)式檢漏儀滿足各種不同的應(yīng)用. 氦質(zhì)譜檢漏儀替代傳統(tǒng)泡沫檢漏和壓差檢漏, 利用氦氣作為示蹤氣體可精確定位, 定量漏點(diǎn). 氦質(zhì)譜檢漏儀滿足單機(jī)檢漏, 也可集成在檢漏系統(tǒng)或 PLC. 推薦氦質(zhì)譜檢漏儀應(yīng)用 >>

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