大尺寸脈沖激光沉積系統(tǒng) Large-Area PLD Systems
產(chǎn)品簡介
Neocera大尺寸PLD系統(tǒng)用于在各種襯底上沉積各種高質(zhì)量的薄膜，晶圓（wafer）直徑可達(dá)8 "(200毫米)?；D(zhuǎn)結(jié)合激光掃描提供整個晶圓區(qū)域的厚度均勻性。激光束掃描附件采用了獨特的Neocera設(shè)計，當(dāng)激光束掃描時，可以在目標(biāo)上產(chǎn)生固定的激光通量(J/cm2)。當(dāng)激光束通過目標(biāo)表面掃描時，激光束掃描使用獨特的掃描程序。激光位置在目標(biāo)上的停留時間遵循逆速度程序，促進(jìn)了薄膜厚度的良好控制。用戶可以完全控制掃描參數(shù)的必要改變，厚度輪廓取決于沉積壓力。
產(chǎn)品特點
?全自動大尺寸PLD系統(tǒng)
?晶圓尺寸:4 "(100毫米)，6 "(150毫米)和8 "(200毫米)直徑
?外延薄膜、多層異質(zhì)結(jié)構(gòu)和超晶格的沉積
?高溫下氧化膜沉積的氧相容性
?自動激光掃描厚度均勻性
技術(shù)參數(shù)
1.襯底尺寸:(直徑)4 " (100mm)，6 " (150mm)和8 " (200mn)
2.PLD腔室尺寸:18英寸直徑球體或圓柱體。
3.襯底加熱:850 ℃(4 "wafers))，750℃(6 "wafers)，700℃(8" wafers)
4.目標(biāo)旋轉(zhuǎn): 直徑4 × 2"
5.厚度均勻性: ±5%或更好。
6.工業(yè)氣體: O2, N2, Ar， (MFC控制)
7.Loadlocks: 包括
8.自動化: Windows 7, LabView 2013
上傳人：北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司
大?。? B
2323
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1. 易獲得期望化學(xué)計量比的多組分薄膜，即具有良好的保成分性； 2. 沉積速率高，試驗周期短，襯底溫度要求低，制備的薄膜均勻； 3. 工藝參數(shù)任意調(diào)節(jié)，對靶材的種類沒有限制； 4. 發(fā)展?jié)摿薮螅哂袠O大的兼容性； 5. 便于清潔處理，可以制備多種薄膜材料。
1. 易獲得期望化學(xué)計量比的多組分薄膜，即具有良好的保成分性； 2. 沉積速率高，試驗周期短，襯底溫度要求低，制備的薄膜均勻； 3. 工藝參數(shù)任意調(diào)節(jié)，對靶材的種類沒有限制； 4. 發(fā)展?jié)摿薮?，具有極大的兼容性； 5. 便于清潔處理，可以制備多種薄膜材料。
PLD是將脈沖激光透過合成石英窗導(dǎo)入真空腔內(nèi)照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài)，然后被堆積到設(shè)在對面的基板上而成膜。
脈沖激光沉積系統(tǒng)-PLD 型號：AP-PLD230 脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)是將脈沖激光導(dǎo)入真空腔內(nèi)照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài)，然后被堆積到設(shè)在對面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學(xué)理論上準(zhǔn)穩(wěn)定狀態(tài)的組成和構(gòu)造的人工合成薄膜材料。 我們PLD系統(tǒng)擁有Z好的性能價比, 用戶用Z少的錢買到研究級高性能的純進(jìn)口PLD系統(tǒng)。
脈沖激光沉積是一種真空鍍膜技術(shù)。
基質(zhì)輔助脈沖激光蒸發(fā)(MAPLE)是PLD的一種變體。這是由NRL集團(tuán)新引入的技術(shù)，以促進(jìn)某些功能有機(jī)材料的薄膜沉積。基于UV (5-6 eV)的傳統(tǒng)PLD技術(shù)中，光化學(xué)反應(yīng)可能會惡化有機(jī)分子、聚合物等的功能。而在MAPLE中，通過將待沉積的有機(jī)物(或聚合物)與吸收激光波長的溶劑(基質(zhì))混合來制備特殊的靶。除了光學(xué)吸收外，在沉積條件下的高蒸氣壓是基質(zhì)的先決條件。
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