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光電化學(xué)——第二部分_實(shí)驗(yàn)與數(shù)據(jù)分析
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本文由 美國Gamry電化學(xué) 整理匯編
2020-03-24 17:35 737閱讀次數(shù)
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本應(yīng)用報(bào)告是Gamry光電化學(xué)系列報(bào)告中的第二部分。
**部分主要介紹光譜方面的重要術(shù)語和參數(shù)等基本概念。描述光電化學(xué)實(shí)驗(yàn)裝置，介紹Gamry光譜設(shè)備。
第二部分討論在Gamry Framework軟件中進(jìn)行光譜實(shí)驗(yàn)，介紹各參數(shù)的含義，如何用Echem Analyst進(jìn)行數(shù)據(jù)分析，以具體實(shí)驗(yàn)為例來闡述新的光譜分析工具。
前言
Gamry提供專門的光譜電化學(xué)軟件包，用戶可以同步進(jìn)行電化學(xué)掃描和光譜實(shí)驗(yàn)。
下面的章節(jié)詳細(xì)介紹了Gamry Framework中各光譜實(shí)驗(yàn)參數(shù)，以及在Echem Analyst中如何進(jìn)行數(shù)據(jù)分析。
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光電化學(xué)——第二部分_實(shí)驗(yàn)與數(shù)據(jù)分析- 本應(yīng)用報(bào)告是Gamry光電化學(xué)系列報(bào)告中的第二部分。
**部分主要介紹光譜方面的重要術(shù)語和參數(shù)等基本概念。描述光電化學(xué)實(shí)驗(yàn)裝置，介紹Gamry光譜設(shè)備。
第二部分討論在Gamry Framework軟件中進(jìn)行光譜實(shí)驗(yàn)，介紹各參數(shù)的含義，如何用Echem Analyst進(jìn)行數(shù)據(jù)分析，以具體實(shí)驗(yàn)為例來闡述新的光譜分析工具。
前言
Gamry提供專門的光譜電化學(xué)軟件包，用戶可以同步進(jìn)行電化學(xué)掃描和光譜實(shí)驗(yàn)。
下面的章節(jié)詳細(xì)介紹了Gamry Framework中各光譜實(shí)驗(yàn)參數(shù)，以及在Echem Analyst中如何進(jìn)行數(shù)據(jù)分析。[詳細(xì)]
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2020-03-24 17:35
應(yīng)用文章
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- 光譜電化學(xué) 第二部分實(shí)驗(yàn)和數(shù)據(jù)分析
- Thisapplicationnoteispart2ofaseriesofnotesintroducingGamry'sspectroelectrochemistrysystem.SpectroElectrochemsitryPart1discussesthebasicsoflightspectroscopyandexplainsimportanttermsandparameters.ItdescribesthesetupforspectroelectrochemicalexperimentsandshowsGamry’sspectroscopicequipment.Part2discussesthespectroscopicexperimentsinGamry’sFrameworkandexplainstheirsetupparameters.DataevaluationisshownbyusingtheEchemAnalyst.Itsnewspectroscopycommandsaredescribedonthebasisofexamples.[詳細(xì)]
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2018-08-30 10:00
產(chǎn)品樣冊(cè)
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- 光電化學(xué) **部分：基礎(chǔ)部分
- 本應(yīng)用報(bào)告介紹Gamry光電化學(xué)系統(tǒng)系列報(bào)告中的**部分。**部分主要介紹光譜方面的重要術(shù)語和參數(shù)等基本概念。描述了光電化學(xué)實(shí)驗(yàn)裝置，介紹Gamry光譜設(shè)備。第二部分討論在GamryFramework軟件中進(jìn)行光譜實(shí)驗(yàn)，介紹各參數(shù)的含義，用EchemAnalyst進(jìn)行數(shù)據(jù)分析，以具體實(shí)驗(yàn)為例來闡述新的光譜分析。[詳細(xì)]
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2018-08-30 10:00
產(chǎn)品樣冊(cè)
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- 光電化學(xué)—— **部分_基礎(chǔ)部分
- 本應(yīng)用報(bào)告介紹Gamry光電化學(xué)系統(tǒng)系列報(bào)告中的**部分。
**部分主要介紹光譜方面的重要術(shù)語和參數(shù)等基本概念。描述了光電化學(xué)實(shí)驗(yàn)裝置，介紹Gamry光譜設(shè)備。
第二部分討論在Gamry Framework軟件中進(jìn)行光譜實(shí)驗(yàn)，介紹各參數(shù)的含義，用Echem Analyst進(jìn)行數(shù)據(jù)分析，以具體實(shí)驗(yàn)為例來闡述新的光譜分析。
前言
光譜學(xué)在分析化學(xué)中應(yīng)用廣泛，各種類型的材料可以通過電磁輻射研究他們的相互作用，進(jìn)行研究和表征。
光譜電化學(xué)結(jié)合了兩個(gè)主要領(lǐng)域的應(yīng)用，材料表面或者溶液的光學(xué)過程和電化學(xué)過程可以同時(shí)被研究。結(jié)合兩方面的同步結(jié)果進(jìn)行分析，可以深入研究反應(yīng)的潛在機(jī)理，及進(jìn)行更多極ng確的分析。
為便于理解，本應(yīng)用報(bào)告介紹了光譜學(xué)術(shù)語，解釋了基本的概念以及更多實(shí)際的應(yīng)用。[詳細(xì)]
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2020-03-24 17:33
應(yīng)用文章
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- PCB整體解決方案（第二部分）
- 手持式XRF分析儀S1TITAN近年來，越來越多的制造商要求遵循一系列對(duì)于材料成分含量的準(zhǔn)入限制條款，典型的如歐盟對(duì)有害物質(zhì)(RoHS-II)，以及2008年美國CPSIA對(duì)玩具中鉛的Z高含量限制，這些法規(guī)使得越來越多的生產(chǎn)商選擇使用XRF進(jìn)行嚴(yán)格的質(zhì)量控制。手持式XRF已然成為業(yè)界廣為接受的成品及原料篩選工具，其對(duì)于重金屬和其它限制物質(zhì)的檢測(cè)頗為有效。美國消費(fèi)產(chǎn)品安全委員會(huì)已認(rèn)可手持式X射線熒光光譜儀為有效工具。S1TITAN600與800號(hào)可對(duì)無鉛產(chǎn)品進(jìn)行完全無損檢測(cè)，也可檢測(cè)RoHS合規(guī)性，以及玩具和消費(fèi)產(chǎn)品中的重金屬。且對(duì)鉛（Pb）、汞（Hg）、鉻（Cr）、砷（As）、銻（Sb）和鋇（Ba）檢測(cè)性能可達(dá)到ppm級(jí)別。優(yōu)點(diǎn)：分析快速而準(zhǔn)確無損檢測(cè)現(xiàn)場(chǎng)測(cè)量微區(qū)準(zhǔn)直器攝像頭選配件報(bào)告生成快速簡(jiǎn)單安全加密數(shù)據(jù)儲(chǔ)存輕質(zhì)，僅1.5公斤防護(hù)臺(tái)面支架X-RAY鍍層測(cè)厚儀M1MISTRAL測(cè)量RoHS指令元素高性能的M1MISTRAL也可以測(cè)量RoHS指令規(guī)定的輕基體中的痕量元素。直接控制電子電氣產(chǎn)品中有害元素的濃度。RoHS檢測(cè)要求>Cr,Br,Pb,Hg的濃度必須<1,000ppm>Cd的濃度必須<100ppm測(cè)量鍍層樣品采用X射線熒光技術(shù)的M1MISTRAL可以分析薄鍍層樣品，如印刷電路板、金屬或塑料件，包括單層鍍層和多層鍍層。XSpect軟件采用無標(biāo)樣基本參數(shù)法，可以同時(shí)計(jì)算鍍層厚度和鍍層組成。使用標(biāo)準(zhǔn)樣品可以進(jìn)一步提高定量分析的準(zhǔn)確性?？煞治龅亩鄬渝兡悠房梢詼y(cè)定鍍層樣品的鍍層厚度及成分，例如：>Zn-Fe>Au-Ni-Cu>Au-Pd-Ni-Cu>CuSn-Ni-Cu>Au-Pd-Ni-CuX-RAY鍍層測(cè)厚儀M2BLIZZARDM2BLIZZARD是布魯克公司Zxin推出的一款微區(qū)X射線熒光光譜儀，依據(jù)ASTMB568和DIN/ISO3497，對(duì)材料成分和多層涂層厚度進(jìn)行無損分析。采用開槽設(shè)計(jì)，非常適用于扁平形狀和尺寸過大的樣品，例如大型印刷電路板。該儀器采用全新的、世界領(lǐng)xian的XSpectPro軟件進(jìn)行控制。主要特性：開槽構(gòu)型，帶可伸長(zhǎng)的“超大尺寸"樣品臺(tái)可以調(diào)節(jié)槽縫間隙（10或20毫米）設(shè)有大型、耐用的樣品托盤，用于樣品定位全新優(yōu)化XSpectPro操作軟件Zxian極n的XData軟件用于應(yīng)用程序，標(biāo)準(zhǔn)樣品與數(shù)據(jù)庫管理可自定義設(shè)置用戶界面和測(cè)試結(jié)果界面具備波譜自動(dòng)保存功能，用于測(cè)量后結(jié)果的再處理以及存檔用戶設(shè)定公差，可以方便地判定“合格/不合格"“峰值查找器"，用于定性分析未知樣品軟件含有測(cè)試報(bào)告模板以供客戶編輯使用配置工業(yè)強(qiáng)度的腳踏開關(guān)，用于“開始/停止"測(cè)量（可選項(xiàng)）可完全設(shè)置SPC軟件，配合客戶工藝需求（可選項(xiàng)）儀器設(shè)計(jì)簡(jiǎn)潔堅(jiān)固，只需一條USB電纜與PC連接高性能微區(qū)X射線熒光光譜儀M4TORNADO-樹立了微區(qū)x射線熒光光譜儀的典范應(yīng)用領(lǐng)域：質(zhì)量控制與故障分析電子與電子部件的元素分布分析>鑲嵌圖像可顯示PCB里面各個(gè)細(xì)小電子部件>通過選擇性目標(biāo)量化實(shí)現(xiàn)超級(jí)分布圖RoHS符合性>有害元素與限制性元素，如：Pb,Cd,Cr,Hg,Br,As,Sb,等.>量化觸點(diǎn)與焊接點(diǎn)的元素成分，如：Sn,Pb,Ag及Cu,等.>對(duì)IC芯片等單個(gè)電子部件進(jìn)行無損元素分布檢查.>電子行業(yè)>研發(fā)部門>FA,QA/QC實(shí)驗(yàn)室>教育研發(fā)機(jī)構(gòu)>電子與電子工程學(xué)>材料科學(xué)>獨(dú)立科研實(shí)驗(yàn)室如SGS,Intertek,等等.RoHS檢測(cè)測(cè)量一個(gè)PCB樣品。元素的面分布圖顯示了下列元素的分布情況：Br（綠色）、Cu（紅色）、Au（黃色）、Pb（白色）和Sn（粉紅色）。圖像的原始大?。?50x75像素測(cè)量時(shí)間：015s/像素。光學(xué)輪廓儀ContourGT集合領(lǐng)xian的64位，多核操作和分析軟件，ZL的白光干涉（WLI）硬件以及的簡(jiǎn)易操作性于一身，是目前Zxian極n的三維光學(xué)輪廓儀。這款第十代的光學(xué)輪廓儀在大視場(chǎng)上提供快速。埃級(jí)到毫米級(jí)的垂直測(cè)量范圍，并有靈活的樣品設(shè)置和行業(yè)領(lǐng)xian的重現(xiàn)性。ContourGT是現(xiàn)今生產(chǎn)、研究和質(zhì)量控制領(lǐng)域中Z具綜合性及直觀性的三維輪廓測(cè)量系統(tǒng)。大工件-光學(xué)輪廓儀NPFLEX布魯克的NPFlex三維表面測(cè)量系統(tǒng)為大樣品的表面表征測(cè)量提供了Z靈活的非接觸式的方案，可廣泛用于YL植入，航空航天、汽車或精密加工上的大型、異型工件的測(cè)量?；诎坠飧缮嬖?，NPFlex為用戶提供超過接觸式方法所能達(dá)到的更大數(shù)據(jù)量、更高分辨率和更好的重復(fù)性，使它成為獨(dú)立或者互補(bǔ)型的測(cè)量方案。開放式的龍門設(shè)計(jì)克服了以往某些零件由于角度或取向造成的測(cè)量困難，現(xiàn)在NPFlex可實(shí)現(xiàn)超過300度的測(cè)量空間。NPFlex的超級(jí)靈活性、數(shù)據(jù)準(zhǔn)確性和測(cè)試效率為精密加工行業(yè)提供了一種簡(jiǎn)單的方法，來實(shí)現(xiàn)其更苛刻的加工要求、更GX的加工工藝和更好的終端產(chǎn)品。原子力顯微鏡涵蓋了聚合物材料表征，集成光路測(cè)量，材料力字性能表征，MEMS制造，細(xì)胞表面形態(tài)觀察，生物大分子的結(jié)構(gòu)及性質(zhì)，數(shù)據(jù)存儲(chǔ)，金屬/合金/金屬蒸鍍的性質(zhì)研究，食品、化字品、護(hù)膚品的加工/包裝，液晶材料性能表征，分子器件，生物傳感器，分子自組裝結(jié)構(gòu)，光盤存儲(chǔ)，陶瓷工藝，薄膜性能表征，地質(zhì)、能源、環(huán)境等領(lǐng)域的監(jiān)測(cè)等各類科研和生產(chǎn)工作。掃描電鏡鎢燈絲掃描電子顯微鏡是一款緊湊型鎢燈絲掃描電子顯微鏡，用于各種材料的綜合檢查和高分辨質(zhì)量控制，其具有超大的樣品室、強(qiáng)大的輪式底盤和設(shè)計(jì)緊湊等特點(diǎn)，使其成為現(xiàn)場(chǎng)檢查的移動(dòng)實(shí)驗(yàn)室。采用眾多自動(dòng)化功能和自我診斷的直觀觸摸屏控制界面，即使對(duì)于沒有經(jīng)驗(yàn)的用戶，也能保證得到高質(zhì)量的結(jié)果。SEM應(yīng)用⑴生物：種子、花粉、細(xì)菌⑵醫(yī)學(xué)：血球、病毒⑶動(dòng)物：大腸、絨毛、細(xì)胞、纖維⑷材料：陶瓷、高分子、粉末、環(huán)氧樹脂⑸化學(xué)、物理、地質(zhì)、冶金、礦物、污泥（桿菌）、機(jī)械、電機(jī)及導(dǎo)電性樣品，如半導(dǎo)體(IC、線寬量測(cè)、斷面、結(jié)構(gòu)觀察）電子材料等。電鏡用EDS,WDS,EBSD.Micro-XRF及CT布魯克公司提供范圍多樣的系統(tǒng)，適用于掃描和透射式電子顯微鏡的X射線能譜(EDS)，波譜（WDS），電子背散射衍射（EBSD），以及X射線微區(qū)熒光（Micro-XRF）和Micro-CT。QUANTAXEDSForSEM是搭配在掃描電鏡上的快速、多功能能譜系統(tǒng)。QUANTAXEDSForS/TEM是搭配在透射或者掃描透射電鏡上的高性能能譜儀，對(duì)電鏡本身性能沒有任何影響。QUANTAXWDS是搭配在掃描電鏡上的高精度波長(zhǎng)色散X射線譜儀。QUANTAXEBSD是搭配在掃描電鏡上兼?zhèn)涓咝阅芗耙子眯缘谋成⑸潆娮友苌湎到y(tǒng)。QUANTAXMicro-XRF把完整的XRF系統(tǒng)整合到了掃描電鏡上。Micro-CTforSEM通過計(jì)算機(jī)三維重構(gòu)X射線形貌圖，展現(xiàn)樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)自動(dòng)研磨拋光機(jī)全新精研一體機(jī)LeicaEMTXP徠卡EMTXP標(biāo)靶面制備系統(tǒng)具有定點(diǎn)修塊拋光功能，是用鋸、磨、銑削、拋光樣品后，供掃描電鏡、透射電鏡，和LM技術(shù)檢測(cè)。帶有一體化視鏡，用于極ng確定位及對(duì)較細(xì)微難以觀察的目標(biāo)位置進(jìn)行樣品處理時(shí)觀察；使用樣品旋轉(zhuǎn)手柄，可以改變樣品觀察角度，0°-60°可調(diào)，或者垂直于樣品前表面90°觀察，可利用目鏡刻度標(biāo)尺測(cè)量距離。為您帶來的優(yōu)勢(shì)一體化自動(dòng)程序控制一體化自動(dòng)程序控制，包括自動(dòng)左右制動(dòng)機(jī)制，前進(jìn)反饋力控制，倒計(jì)書功能等，為使用者節(jié)約大量時(shí)間。適配工具多樣性可適配多種多樣工具，從而使樣品不經(jīng)轉(zhuǎn)移就可以進(jìn)行研磨，切割，鉆孔，打磨及拋光。并且整個(gè)處理過程都可以通過體視鏡進(jìn)行觀察監(jiān)控，大大節(jié)省時(shí)間和費(fèi)用。表面光潔度和標(biāo)靶檢測(cè)表面處理與目標(biāo)檢測(cè)，都通過一體化體視鏡來完成，用戶不需要專程將樣品拿出來再進(jìn)行表面觀察檢測(cè)，這可大大提高使用者的工作效率。電化學(xué)工作站Autolab系列電化學(xué)工作站素以模塊化設(shè)計(jì)、皮實(shí)穩(wěn)定、軟件yi流著稱，標(biāo)準(zhǔn)配置的功能十分強(qiáng)大，能滿足用戶的絕大多數(shù)測(cè)試需要。在這個(gè)基礎(chǔ)之上，用戶還能夠配置不同的模塊和外部設(shè)備，以滿足特殊的測(cè)試要求。電化學(xué)工作站主要應(yīng)用領(lǐng)域：電分析；腐蝕防護(hù)與控制儲(chǔ)能設(shè)備（燃料電池、電池、太陽能光伏電池、超級(jí)電容器等）；點(diǎn)催化、電鍍、電解、電點(diǎn)溶解、點(diǎn)沉積、電合成；涂層研究（有機(jī)涂層及無機(jī)涂層）、納米科學(xué)、導(dǎo)電聚合物的膜科學(xué)、化學(xué)機(jī)械拋光、借點(diǎn)材料和半導(dǎo)體材料；生物傳感器；光譜電化學(xué)相關(guān)行業(yè)：電池及電池材料工業(yè)、電鍍工業(yè)、鋼鐵工業(yè)、航天工業(yè)、國防工業(yè)、汽車、石化、化學(xué)加工、包裝、涂料、半導(dǎo)體等業(yè)等。新一代紫外一可見分光光度計(jì)SPECORD?PLUS從常規(guī)分析到特殊應(yīng)用，免費(fèi)為各個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域提供了操作GX、便捷的全套解決方案。在化學(xué)、制藥、醫(yī)學(xué)、食品、壞境、材料、生命科學(xué)等諸多領(lǐng)域，SPECORD?PLUS都為您提供了全面的實(shí)驗(yàn)方法。全息光柵單色器有效減少雜散光；Z少的機(jī)械移動(dòng)部件，提供Z穩(wěn)定的性能、極高信噪比和優(yōu)化的非球面光學(xué)系統(tǒng)有著的成像質(zhì)量；革新的CDD技術(shù)檢測(cè)器確保測(cè)定結(jié)果不受環(huán)境溫度影響。高性能全新系列總有機(jī)碳/總氮分析儀來的德國耶拿-分析技術(shù)領(lǐng)軍者廣泛應(yīng)用：半導(dǎo)體行業(yè)半導(dǎo)體行業(yè)要求生產(chǎn)過程用水中的TOC含量低至PPB級(jí)環(huán)境監(jiān)測(cè)符合國際、國內(nèi)各類環(huán)境標(biāo)準(zhǔn)要求電廠和蒸汽廠滿足電廠和蒸汽廠的TOC分析要求垃圾和土壤土壤、沉積物和垃圾樣品中的TOC/TN的分析水質(zhì)監(jiān)測(cè)應(yīng)用水、自來水、地表水、江河水、海水、污水等制藥和YL遵循USP28、歐洲藥典、ZG藥典及其他相關(guān)國際國內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)，和清潔驗(yàn)證的要求X射線光電子能譜儀專為生產(chǎn)率而設(shè)計(jì)，從研究分析到日常測(cè)試ThermoScientificK-Alpha是一款完全集成的X射線光電子能譜。獲獎(jiǎng)的Zxin版K-Alpha平臺(tái)特征光譜性能顯著提高，提供更高計(jì)數(shù)率和更快分析時(shí)間，改善化學(xué)探測(cè)能力。分析選配件包括一個(gè)角分辨XPS傾斜模塊和一個(gè)循環(huán)惰性氣體手套箱，用于轉(zhuǎn)移空氣敏感樣品。K-Alpha帶來一系列激動(dòng)人心的新軟件特征，旨在進(jìn)一步增強(qiáng)用戶體驗(yàn)。K-Alpha是專為多用戶環(huán)境而設(shè)計(jì)，先進(jìn)的單色X射線光電子能譜性能與智能自動(dòng)化及直觀控制相結(jié)合，同時(shí)滿足有經(jīng)驗(yàn)XPS分析人員及新人對(duì)此項(xiàng)技術(shù)的需求。鉑悅儀器自2004年成立以來，憑借與世界各大儀器知名品牌的戰(zhàn)略合作關(guān)系，以及不斷優(yōu)化公司自身經(jīng)營管理，提高服務(wù)質(zhì)量，成為ZG國內(nèi)知名的儀器供應(yīng)商。鉑悅儀器所提供的產(chǎn)品均屬于高科技行業(yè)，產(chǎn)品包括高精度的分析儀器、檢測(cè)儀器和生產(chǎn)設(shè)備，以及配套的耗材和配件，這些產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于工業(yè)、半導(dǎo)體、太陽能、醫(yī)藥、YL器械、生物、能源、電子、石化等各個(gè)領(lǐng)域并服務(wù)于各大院校、研究所、檢測(cè)機(jī)構(gòu)、及政府部門等。鉑悅儀器不僅擁有高品質(zhì)的產(chǎn)品，更培養(yǎng)了專業(yè)的銷售、技術(shù)和售后服務(wù)團(tuán)隊(duì)，本著客戶至上的原則，從客戶的實(shí)際需求出發(fā)，鉑悅儀器為每一位客戶量身訂制Z適合的綜合解決方案，并提供持續(xù)而良好的售后服務(wù)，由此也獲得了廣大客戶的信任與認(rèn)可。鉑悅儀器的總公司設(shè)立在上海，并在北京、廣州、成都等共設(shè)立了七個(gè)辦事處，在能及時(shí)引進(jìn)國外先進(jìn)技術(shù)的同時(shí)，保證了鉑悅儀器能快速、有效的為全國各地的客戶提供良好的服務(wù)。馬上聯(lián)系我們：021-37018108,info@boyuesh.com[詳細(xì)]
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2018-08-15 10:57
產(chǎn)品樣冊(cè)
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- 電化學(xué)阻抗譜 第二部分：物理電化學(xué)與等效電路元件
- 什么是電化學(xué)阻抗譜？電化學(xué)阻抗譜是一個(gè)強(qiáng)大的分析工具，使用可自動(dòng)化的多個(gè)參數(shù)模擬真實(shí)世界的電化學(xué)行為，提供一個(gè)測(cè)量和驗(yàn)證體系。GamryZxin設(shè)計(jì)的應(yīng)用參考指南，包含電化學(xué)阻抗譜的基礎(chǔ)知識(shí)，涉及概念，公式和數(shù)據(jù)演示，物理電化學(xué)原理及等效電路元件分析，您將了解到更多關(guān)于電阻、電容和擴(kuò)散的核心概念，加深對(duì)于EIS的了解。[詳細(xì)]
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2018-08-30 10:00
產(chǎn)品樣冊(cè)
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- GB/T 231.2-2012 金屬材料 布氏硬度第二部分
- GB/T231.2-2012金屬材料布氏硬度第二部分：硬度計(jì)的校驗(yàn)與校準(zhǔn)[詳細(xì)]
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2018-10-15 10:00
產(chǎn)品樣冊(cè)
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- ED XRF應(yīng)用報(bào)告文集第二部分
- ED XRF應(yīng)用報(bào)告文集第二部分[詳細(xì)]
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2024-09-28 00:35
其它
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- GB8965.2-2009防護(hù)服裝阻燃防護(hù)第二部分：焊接服GB8965.2-2009防護(hù)服裝阻燃防護(hù)第二部分：焊接服GB8965.2-2009防護(hù)服裝阻燃防護(hù)第二部分：焊接服[詳細(xì)]
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2018-08-24 10:00
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2018-10-15 10:00
產(chǎn)品樣冊(cè)
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- 測(cè)試電化學(xué)電容：第二部分—循環(huán)充放電和堆棧
- 測(cè)試電化學(xué)電容：第二部分—循環(huán)充放電和堆棧[詳細(xì)]
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2015-05-25 00:00
其它
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- 測(cè)試電化學(xué)電容：第二部分循環(huán)充放電和堆棧
- 指南目的本章為應(yīng)用指南描述能量存儲(chǔ)裝置中電化學(xué)技術(shù)的第二部分。主要解釋GamryPWR800測(cè)試軟件以及介紹電化學(xué)電容的測(cè)試技術(shù)。本應(yīng)用指南同樣將延伸至電池測(cè)試領(lǐng)域。簡(jiǎn)介在**部分中對(duì)電化學(xué)電容進(jìn)行了簡(jiǎn)單介紹。討論了一些在能量?jī)?chǔ)存應(yīng)用領(lǐng)域之外化學(xué)家們所熟悉的技術(shù)。第三部分將針對(duì)電容進(jìn)行電化學(xué)阻抗譜（EIS）測(cè)試的理論和實(shí)踐。淺色波形為施加在電容上的電流。深色波形顯示的是測(cè)試的電壓。電容在0到2.7V之間循環(huán)，保持電流為0.22。實(shí)驗(yàn)循環(huán)充放電（CCD）是用于測(cè)試EDLCs和電池性能以及循環(huán)壽命的標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)?？芍貜?fù)的充放電周期成為循環(huán)。很多時(shí)候，在一組特定的電壓達(dá)到之前充放電都是在恒流的條件下進(jìn)行的。對(duì)每次循環(huán)中的充電電容（容量）進(jìn)行測(cè)量，通過計(jì)算得到電容值C（公式1），單位為F。二者都對(duì)循環(huán)次數(shù)作圖。該圖被稱為容量曲線。在實(shí)際應(yīng)用中，電荷被普遍稱為容量。通常容量的單位是安時(shí)（Ah），1Ah=3600庫侖。如果容量下降至設(shè)定值10％或20％，實(shí)際的循環(huán)次數(shù)意味著電容的循環(huán)壽命。一般來說，商業(yè)化電容可以循環(huán)幾十萬次……[詳細(xì)]
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2018-08-30 10:00
產(chǎn)品樣冊(cè)
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- GB/T 230.1-2009金屬材料洛氏硬度試驗(yàn) 第二部分：硬度計(jì)
- GB/T230.1-2009金屬材料洛氏硬度試驗(yàn)**部分：硬度計(jì)（A,B,C,D,E,F,G,H,K,N,T標(biāo)尺）的檢驗(yàn)與校準(zhǔn)[詳細(xì)]
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2018-10-15 10:00
產(chǎn)品樣冊(cè)
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- 測(cè)試電化學(xué)電容：第二部分—循環(huán)充放電和堆棧
- 本章為應(yīng)用指南描述能量存儲(chǔ)裝置中電化學(xué)技術(shù)的第二部分。主要解釋Gamry PWR800測(cè)試軟件以及介紹電化學(xué)電容的測(cè)試技術(shù)。本應(yīng)用指南同樣將延伸至電池測(cè)試領(lǐng)域。
簡(jiǎn)介
在**部分中對(duì)電化學(xué)電容進(jìn)行了簡(jiǎn)單介紹。討論了一些在能量?jī)?chǔ)存應(yīng)用領(lǐng)域之外化學(xué)家們所熟悉的技術(shù)。第三部分將針對(duì)電容進(jìn)行電化學(xué)阻抗譜（EIS）測(cè)試的理論和實(shí)踐。[詳細(xì)]
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2024-09-11 17:53
課件
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- GB/T 2423.16-1999 電子電工產(chǎn)品環(huán)境試驗(yàn) 第二部分 長(zhǎng)霉
- GB/T2423.16-1999電子電工產(chǎn)品環(huán)境試驗(yàn)第二部分長(zhǎng)霉，該標(biāo)準(zhǔn)所作的試驗(yàn)采用經(jīng)過選擇的霉菌孢子在已經(jīng)裝配的樣品上接種，然后再促進(jìn)孢子發(fā)芽和霉菌生長(zhǎng)的條件下培養(yǎng)一段時(shí)間的方法進(jìn)行長(zhǎng)霉試驗(yàn)，采用的試驗(yàn)裝置為霉菌試驗(yàn)箱。[詳細(xì)]
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2018-10-08 10:01
產(chǎn)品樣冊(cè)
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- 紡織品的拉伸性能-第二部分：抓樣法測(cè)定ZdaQL
- 紡織品的拉伸性能-第二部分：抓樣法測(cè)定ZdaQL[詳細(xì)]
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2024-09-18 18:13
安裝說明
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應(yīng)用原子吸收與原子熒光光譜分析（第二版）介紹- 應(yīng)用原子吸收與原子熒光光譜分析（第二版）介紹[詳細(xì)]
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2015-02-07 00:00
標(biāo)準(zhǔn)
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- 應(yīng)用原子吸收與原子熒光光譜分析（第二版）介紹
- 應(yīng)用原子吸收與原子熒光光譜分析（第二版）介紹[詳細(xì)]
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2024-09-18 18:08
應(yīng)用文章
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- Zahner 光電化學(xué)測(cè)試系統(tǒng)
- Zahner 光電化學(xué)測(cè)試系統(tǒng)[詳細(xì)]
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2013-08-08 00:00
課件
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- 光電化學(xué)制氫綜述
- 光電化學(xué)制氫綜述[詳細(xì)]
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2024-09-29 23:38
專利
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