本文由 美國Gamry電化學(xué) 整理匯編

2024-09-11 17:47 1691閱讀次數(shù)

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更多資料

• 理解聚合物多層膜沉積過程

  應(yīng)用光波導(dǎo)光模光譜（OWLS）和帶阻抗石英晶體微天平（QCM-I），結(jié)合QCM-I和OWLS測量結(jié)果理解聚合物多層膜沉積過程。 引言 對表面活性膜吸附的理解是比較復(fù)雜的。Z有用的實(shí)時(shí)技術(shù)能提供多個(gè)片段信息。然而，通過結(jié)合不同技術(shù)才能獲得更為清晰的認(rèn)知。1 QCM-I測量有關(guān)表面膜水合質(zhì)量和剛性的變化。將這一結(jié)果與光學(xué)技術(shù)如OWLS相結(jié)合，則聚合物和相關(guān)離子的“干質(zhì)量”可以從水合質(zhì)量中區(qū)分出來。如此便實(shí)現(xiàn)了對正在發(fā)生的過程的更為深入的了解，明顯減少了歧義。[詳細(xì)]

  2024-09-11 17:47

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• 應(yīng)用QCM-I監(jiān)測聚合物多層膜的沉積過程

  引言 聚合物和納米顆粒多層膜的靜電驅(qū)動(dòng)吸附是通過表面物理和化學(xué)轉(zhuǎn)變以生成高度定制且 “智能”、環(huán)境敏感界面的一種廣泛接受的方法。沉積過程可由QCM-I靈敏地進(jìn)行監(jiān)測，來提供多層體系水合質(zhì)量以及物理結(jié)構(gòu)和剛度的信息1。沉積參數(shù)的差異能極大地影響多層結(jié)構(gòu)及其Z終性能。[詳細(xì)]

  2024-09-28 00:05

  其它

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• 多層膜體系

  目前，在未來能量轉(zhuǎn)換和存儲(chǔ)體系中，對介孔材料薄膜進(jìn)行了廣泛的研究。由于這些薄膜具有多孔的材料特性，可以獲得用于電子傳遞的高界面表面積?？刂七@些界面結(jié)構(gòu)對這類體系性能是至關(guān)重要的。[詳細(xì)]

  2021-02-18 14:48

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• 納米多層沉積自動(dòng)機(jī)產(chǎn)品樣冊

  納米多層沉積自動(dòng)機(jī)產(chǎn)品樣冊[詳細(xì)]

  2016-10-19 17:21

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• 納米多層沉積自動(dòng)機(jī)彩頁

  納米多層沉積自動(dòng)機(jī)彩頁[詳細(xì)]

  2013-11-07 00:00

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• 真空烘箱應(yīng)用-聚合物膜的開發(fā)

  真空烘箱應(yīng)用-聚合物膜的開發(fā)[詳細(xì)]

  2010-11-22 00:00

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• TiO2薄膜和多層減反膜的表征

  TiO2薄膜和多層減反膜的表征[詳細(xì)]

  2016-09-21 00:00

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• 流動(dòng)電勢法監(jiān)控聚合物表面修飾過程

  流動(dòng)電勢法監(jiān)控聚合物表面修飾過程[詳細(xì)]

  2024-09-28 12:20

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• 高分子聚合物氣體分離膜質(zhì)量安全控制方案

  高分子聚合物氣體分離膜質(zhì)量安全控制方案[詳細(xì)]

  2011-06-03 00:00

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• 理解IR補(bǔ)償

  IntroductionSomeofthemostcommontechnicalquestionswehearatGamryhavetodowithiRcompensation--?WheredoesuncompensatediRcomefrom??DoIneedtouseiRcompensationwithmyexperiment??How首ldIsetuptheiRcompensationparameters??Whydoesn'tiRcompensationworkonmysystem?InthisTechTipwe'llattempttoanswerthesequestionsandtogiveyouabasicunderstandingofiRcompensation.[詳細(xì)]

  2018-08-30 10:00

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• 儀器慣性理解

  討論了應(yīng)力控制型旋轉(zhuǎn)流變儀的儀器慣量對幾種測試結(jié)果的影響，旨在提醒使用者重視這一影響因素，從而得到正確的測量結(jié)果[詳細(xì)]

  2018-12-28 10:00

  產(chǎn)品樣冊

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• 理解iR補(bǔ)償

  在Gamry聽到的一些Z常見的技術(shù)問題都與iR補(bǔ)償有關(guān)– 未補(bǔ)償?shù)膇R是哪來的？ 我需要在我的實(shí)驗(yàn)中用iR補(bǔ)償嗎？ 我應(yīng)該如何設(shè)置iR補(bǔ)償參數(shù)？ 為什么iR補(bǔ)償在我的系統(tǒng)中不能運(yùn)行呢？ 在這個(gè)技術(shù)報(bào)告中，我們將嘗試回答這些問題，讓您對iR補(bǔ)償有一個(gè)基本的了解。 背景 一些初級背景信息描述了iR誤差大體的情況。后面的內(nèi)容主要集中于介紹用于測量和修正iR誤差的“電流截?cái)唷眎R補(bǔ)償方法。正反饋iR補(bǔ)償有提到，但是沒有具體討論。 該技術(shù)報(bào)告假定您對電化學(xué)工作站操作有一定了解。如果沒有，您可以瀏覽我們的Primer on Potentiostats。有經(jīng)驗(yàn)的電化學(xué)工作站使用者應(yīng)該跳過初級教程，繼續(xù)閱讀本文。 如果您對電化學(xué)阻抗的基本原理有一些了解的話，也有幫助。在我們的網(wǎng)頁上有Primer on Electrochemical Impedance可以查閱。請?zhí)貏e注意一下，典型化學(xué)過程是如何被映射到電路元件中的。[詳細(xì)]

  2020-03-24 18:16

  課件

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• 真空干燥箱在聚合物膜開發(fā)中的應(yīng)用

  真空干燥箱在聚合物膜開發(fā)中的應(yīng)用[詳細(xì)]

  2024-09-28 14:01

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• 使用MM-16橢圓偏振光譜儀表征TiO2薄膜和多層減反膜

  使用MM-16橢圓偏振光譜儀表征TiO2薄膜和多層減反膜[詳細(xì)]

  2016-09-21 00:00

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• 多層鎳標(biāo)準(zhǔn)

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  2018-10-30 08:47

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  本文重點(diǎn)討論階躍折射率光纖。纖芯和包層都具有恒定的折射率，纖芯高于包層，兩個(gè)折射率呈階躍變化。有些光纖采用漸變折射率或其它更復(fù)雜的折射率輪廓，比如圍繞纖芯生成一個(gè)低折射率凹陷區(qū)。漸變折射率光纖一般是多模光纖，而后者能實(shí)現(xiàn)色散管理的目的。[詳細(xì)]

  2022-04-22 14:58

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  采用近紅外技術(shù)監(jiān)控艱苦環(huán)境下聚合物合成及成型過程[詳細(xì)]

  2024-09-23 21:15

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  多層介質(zhì)膜光柵參考資料[詳細(xì)]

  2013-02-05 00:00

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• 在水氣界面和固體基材上沉積酞菁染料-脂肪酸膜的研究

  在水氣界面和固體基材上沉積酞菁染料-脂肪酸膜的研究[詳細(xì)]

  2012-05-03 00:00

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• ALD 原子層沉積

  ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會(huì)帶來影響，所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應(yīng)將會(huì)帶來非統(tǒng)計(jì)的沉積。這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無孔的特性，可以提供優(yōu)異的薄膜性能。ALD原子層工藝也可以實(shí)現(xiàn)到大基片上。[詳細(xì)]

  2022-07-28 11:42

  產(chǎn)品樣冊

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