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金涂布石英晶片校正

本文由 美國Gamry電化學(xué) 整理匯編

2024-09-14 07:38 1496閱讀次數(shù)

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引言
本應(yīng)用報(bào)告涉及eQCM 10MTM,并假設(shè)您已經(jīng)閱讀且理解了《石英晶體微天平》應(yīng)用報(bào)告中講述的內(nèi)容。

本文闡述一個(gè)在金電極上實(shí)現(xiàn)的Cu2+/Cu間氧化還原的簡單實(shí)驗(yàn)。我們用測試結(jié)果計(jì)算晶體的校正因子。反過來,我們還展示了如何采用校正因子計(jì)算沉積物的摩爾質(zhì)量。

每一個(gè)晶體都有理論校正因子。然而,在典型實(shí)驗(yàn)條件下,這些校正因子略有差異。我們采用Cu2+計(jì)算校正因子,然后可以用到相同晶體的后續(xù)實(shí)驗(yàn)中。

Cu2+還原是兩電子反應(yīng):

CuSO 4 (aq) + 2 e-   qcm pic1Cu (s) + SO 4 2- (aq)

我們的目標(biāo)是還原Cu2+到金電極上,然后用頻率的降低和通過的電荷計(jì)算校正因子。

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