SEMITOOL產(chǎn)品中的SRD旋轉(zhuǎn)沖洗甩干機是根據(jù)國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展和市場需求，研究開發(fā)的旋轉(zhuǎn)沖洗甩干設(shè)備。該機型具有高潔凈度旋轉(zhuǎn)沖洗甩干功能。本系列機型可以適應(yīng)從φ25mm 到φ200mm直徑（包括方形和其它特殊形狀）片式材料的旋轉(zhuǎn)沖洗甩干工藝。可用于半導(dǎo)體晶片、砷化鎵材料、掩膜版、太陽能電池基片、藍寶石、鈮酸鋰、光學(xué)鏡片、磁盤、光盤、醫(yī)用玻璃基片等類似材料的高潔凈度沖洗甩干。是半導(dǎo)體濕法清洗工藝中必不可少的主流設(shè)備之一。

SEMITOOL psc-101旋轉(zhuǎn)清洗干燥機

描述：

SEMITOOL psc-101旋轉(zhuǎn)清洗干燥機采用去離子水沖洗和加熱的氮氣干燥全自動晶片襯底后的濕化學(xué)方法。有兩個雙層干衣機和潔凈室中一堆烘干機。該系統(tǒng)使用一個可編程的方法來自動處理晶圓。

規(guī)格/性能：

一種電阻率探針可監(jiān)測浴中的化學(xué)濃度，以確保去除化學(xué)品。

無點式干燥氮氣加熱器。

可編程的程序包括漂洗，質(zhì)量沖洗，清洗，和干燥周期。

支持樣本量：

大晶片直徑：200毫米（8英寸）

晶圓直徑：75毫米（3英寸），100毫米（4英寸），150毫米（6英寸），和200毫米（8英寸）。

掩模尺寸：125毫米（5英寸），150毫米（6英寸）。

典型應(yīng)用：

晶圓和掩模板的清洗和干燥。

一、主要達到的技術(shù)性能指標(biāo)

1．電源及電氣控制安全性技術(shù)要求

1.1 電壓：AC220V/110V

1.2 頻率：50Hz±1Hz

1.3 功率：3kW

1.4 整機絕緣電阻大于2MΩ（用1000V兆歐表測）

1.5 各功能開關(guān)、按鍵、安全互鎖功能、緊急開關(guān)應(yīng)使用靈活、動作可靠。

1.6 設(shè)備表面平整、光滑、色調(diào)一致。設(shè)備內(nèi)、外各種安全、警告標(biāo)志齊全。

1.7 在設(shè)備接**志處可靠接地。

2．使用氮氣的相關(guān)安全性技術(shù)要求

2.1 使用氮氣壓力：         0.23～0.28MPa（Max）

2.2 使用氮氣耗量：         200～280L/min  (單腔)

2.3 氮氣接口管徑：         OD  3/8 英寸(紅色標(biāo)記)

2.4 氮氣過濾精度：         ≤0.1μm(或按用戶要求配置)

2.5 設(shè)備用氮氣接入處減壓閥位置應(yīng)有明顯禁調(diào)標(biāo)志，嚴(yán)禁設(shè)備在高于氮氣設(shè)定壓力時操作運行。（提示用戶按要求配置）

2.6 未經(jīng)過潔凈化處理的氮氣管路嚴(yán)禁直接接入設(shè)備使用，避免對設(shè)備造成污染

3．去離子水的相關(guān)安全性技術(shù)要求

3.1 使用去離子水壓力：      0.25～0.3MPa（**）

3.2 使用去離子水耗量：       8～12L/min  (單腔)

3.3 去離子水接口管徑：       OD  3/8 英寸(藍色標(biāo)記)

3.4 設(shè)備排水口管徑：         OD  32mm(UPVC管)

3.5  未安裝過濾器或未經(jīng)過潔凈化處理的去離子水管路嚴(yán)禁直接接入設(shè)備使用，避免對設(shè)備造成污染。