FEMTO SMART 定制化多光子顯微鏡參數(shù),面向實驗室、科研與工業(yè)現(xiàn)場提供可落地的專業(yè)成像解決方案。該系列以靈活波長覆蓋、深層成像能力和可擴展探測通道為核心,支持按樣品需求定制激發(fā)光譜、掃描模式、檢測通道與環(huán)境控件等關鍵參數(shù)。下面以參數(shù)、型號與特征為主線,結合典型應用場景,幫助現(xiàn)場選型與部署。
核心參數(shù)與典型型號對比
- FS-MP-STD 標準2P配置
- 波長覆蓋:680-1040 nm,可覆蓋大多數(shù)熒光探針的激發(fā)需求
- 重頻:80 MHz
- 脈寬:約120 fs
- 平均在樣本功率:最高約60 mW,確保高信噪比的同時盡量降低樣品光損
- 探測通道:2 通道 GaAsP PMT,靈敏度高、量子效率優(yōu)
- 掃描與FOV:共聚焦、共焦/偏置激發(fā)模式,F(xiàn)OV 約0.8 mm,線掃與面掃可切換
- 分辨率與深度:橫向約0.35 μm,軸向約0.9 μm,成像深度在固定組織中通??蛇_1.2 mm級別
- 典型應用:細胞免疫與神經(jīng)元網(wǎng)絡成像、組織切片活體外成像
- FS-MP-ELITE 高端2P/多模態(tài)
- 波長覆蓋:680-1250 nm,配備可選的光聲或OPO支撐
- 重頻:80 MHz
- 脈寬:60-90 fs,脈寬更短帶來更高峰值場強
- 平均在樣本功率:可達250-300 mW,適合深層成像與弱信號探針
- 探測通道:4 通道 GaAsP PMT + 1 通道輔助探測(如Si PMT或APD),多通道并行獲得更豐富的光譜信號
- 深度與分辨率:深度提升至1.8-2.5 mm(在透明或經(jīng)過清晰化處理的樣品中),橫向約0.32 μm,軸向約0.8-0.95 μm
- 掃描與FOV:高性能共振掃描與Galvo組合,F(xiàn)OV 約1.0 mm,支持快速3D棧成像
- 典型應用:活體深層成像、3P 成像、神經(jīng)環(huán)路及血管網(wǎng)絡的高分辨率3D重建
- FS-MP-EDGE 定制擴展版
- 波長與激光源:支持多種激光組態(tài)(Ti:Sapphire、光參量振蕩器 OPO、可見/近紅外Dye等),以適配特定探針和材料
- 探測與通道:可根據(jù)需求增設更多探測通道、分光分路與時間分辨選項
- 環(huán)境與樣品適配:可集成溫控腔室、濕度控制、惰性氣氛保護、振動隔離等場景化環(huán)境
- 深度與分辨率:根據(jù)鏡頭組與樣品介質定制,常規(guī)可達1.5-3 mm的清晰成像深度(需樣品處理),分辨率參數(shù)隨鏡頭而定
- 典型應用:工業(yè)材料3D 表層與內部微結構分析、電子材料界面成像、溫控生物樣本與敏感材料成像
關鍵技術要點與定制選項
- 波長與激光源組合
- 標準配置以 Ti:Sapphire 為主,680-1040 nm 覆蓋常用綠色/紅色熒光探針
- 場景化需求可選 OPO 提供 1040-1250 nm 甚至更長波段,支持2P/3P共存
- 對于深層成像,優(yōu)先考慮更短脈寬與高峰值功率的組合,并結合樣品的折射與散射特性進行優(yōu)化
- 探測與信號通道
- GaAsP PMT 提供高靈敏度和低本底,適合熒光強信號的定量分析
- 支持多通道信號分路、時間積分與瞬時光譜信息采集,方便后續(xù)定量和分子成像
- 配套軟件可實現(xiàn)實時去卷積、去背景、自動曝光調控等功能,提升信噪比和數(shù)據(jù)可重復性
- 掃描與空間分辨
- 組合型掃描系統(tǒng)(Galvo + 共振)兼顧慢速高分辨和快速體積成像需求
- FOV 與像元尺寸可按鏡頭數(shù)值孔徑與像素密度定制
- Z 軸步進與對焦策略支持自由對焦、遠程對焦與自適應對焦,以應對厚樣品和非均質介質
- 定制化環(huán)境與場景化應用
- 提供溫控腔室、濕度控制、惰性氣氛保護、振動隔離等附件,確保在化學、生物以及材料領域的特定場景穩(wěn)定成像
- 針對工業(yè)樣品的非接觸式測量、熱效應控制和材料退火過程中的實時成像提供專用方案
- 數(shù)據(jù)管理與軟件生態(tài)
- 支持主流數(shù)據(jù)格式導出(TIFF/RAW/BDF等),與分析軟件的二次開發(fā)對接
- 軟件可編排多通道同步采集、ROI 觸發(fā)、時間序列分析、3D 重建與定量指標輸出,便于成果產(chǎn)出與數(shù)據(jù)留存
應用場景簡述
- 生物與生命科學:神經(jīng)網(wǎng)絡與免疫細胞的三維可視化、活體組織深層成像、解析分子互作與時序動態(tài)
- 醫(yī)學研究與藥物開發(fā):腫瘤微環(huán)境、藥物穿透與藥代動力學的三維成像
- 工業(yè)與材料科學:材料微結構、界面清晰度、微納結構的三維表征、光學材料與半導體薄膜的深度成像
- 現(xiàn)場成像與現(xiàn)場工藝監(jiān)控:在設備端口靠近生產(chǎn)線的緊湊化系統(tǒng),提供快速診斷與過程監(jiān)測
場景化FAQ
- 問:定制化方案的交付周期通常多長?
答:標準配置通常在4-6周完成初步集成與調試;復雜定制(如3P能力、環(huán)境腔體、更多探測通道)通常在8-12周,具體以最終方案確認單為準。
- 問:波長選擇如何影響成像深度與信號?
答:較長波長在散射介質中的穿透性更好,配合3P成像可顯著提升深層信號的信噪比;若樣品熒光探針對較短波段響應更強,可優(yōu)先選擇680-1040 nm 區(qū)間,優(yōu)化激發(fā)效率與分辨率。
- 問:是否必須使用 OPO 才實現(xiàn)深層3P 成像?
答:若樣品對高波長需求不高且目標是2P 深層成像,可選無需 OPO 的高效率2P 模式;若需要極深的3P 成像或特定激發(fā)波長,OPO 是高效且可選的路徑之一。
- 問:與現(xiàn)有顯微鏡系統(tǒng)的兼容性如何?
答:FEMTO SMART 提供模塊化接口和標準化光路,能夠與大多數(shù)通用顯微鏡底座、攝像系統(tǒng)及樣品臺實現(xiàn)對接,并支持二次開發(fā)和數(shù)據(jù)接口對接。
- 問:售后服務與培訓覆蓋哪些內容?
答:包含現(xiàn)場安裝、系統(tǒng)調試、成像參數(shù)優(yōu)化、日常維護與故障診斷培訓,以及常態(tài)化的軟件升級與遠程診斷支持。
- 問:數(shù)據(jù)管理與合規(guī)方面有哪些保障?
答:提供合規(guī)的數(shù)據(jù)安全方案、數(shù)據(jù)備份方案和日志審計,支持多用戶權限管理,方便科研機構與企業(yè)級實驗室的合規(guī)研究需要。
參與評論
登錄后參與評論