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本應(yīng)用介紹了一種使用串聯(lián)四極桿 ICP-MS (ICP-MS/MS)測量高純度銅中超痕量雜質(zhì)的新方法。針對 Agilent 8900ICP-MS/MS 開發(fā)出一種可選的離子透鏡（稱為“m 透鏡”），從而能夠在耐受基質(zhì)的高功率等離子體條件下對超低濃度的堿金屬進(jìn)行測量。m 透鏡具有優(yōu)化的幾何結(jié)構(gòu)，可z大程度減小沉積在 ICP-MS 接口組件上的 EIE 背景信號。

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