NanoSystem NV-F2700 非接觸式3D光學(xué)表面輪廓儀
NanoSystem NV-3200 非接觸式3D光學(xué)輪廓儀
NanoSystem NV-3200 非接觸式3D光學(xué)輪廓儀
NanoSystem CI-1000氣缸內(nèi)壁檢測(cè)儀
NanoSystem CylinderScan2000
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Patented算法和白光干涉技術(shù)創(chuàng)造S/W。獲得WSI/PSI技術(shù)測(cè)量各種表面材料和參數(shù),包括表面紋理、形狀、臺(tái)階高度和更高0.2 um-橫向分辨率?
白光掃描干涉技術(shù)(0.1nm)、高速測(cè)量表面積、高度和體積的技術(shù)。在不破壞任何破壞的情況下,納米系統(tǒng)的(白光掃描干涉法0.1nm到m范圍內(nèi)測(cè)量樣品,并提供真實(shí)的樣品三維形狀。此外,重復(fù)性小于),無(wú)論放大,0.1nm?;诩{米系統(tǒng)技術(shù)的精度),該產(chǎn)品可***應(yīng)用于半導(dǎo)體、印刷電路板、顯示、工程部件、化工材料、光學(xué)部件、生物、
(0.1nm)、(10 Mm)和高清晰度圖像,在10000 μ2秒內(nèi)測(cè)量樣品,提供真實(shí)的(只需將樣品直接放在樣品臺(tái)上)反射率為 2D和?3D 測(cè)量

產(chǎn)品規(guī)格:
干涉物鏡:?jiǎn)瓮哥R可選
掃描范圍:270um可選)
垂直分辨率:0.5nm?,0.1nm
傾斜臺(tái):±Z軸
行程:50X50mm(手動(dòng))

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應(yīng)用領(lǐng)域:
Nano View系列為L(zhǎng)CD(液晶顯示器)、IC Package(芯片封裝)、Substrate(基板)、Build-up PCB(積層板)、MEMS(微機(jī)電系統(tǒng)),Engineering Surfaces(工程表面)等等領(lǐng)域提供納米級(jí)別精度的量測(cè)。
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Zeta-300支持3D量測(cè)和成像的功能,并提供整合隔離工作臺(tái)和靈活的配置,可用于處理更大的樣品。該系統(tǒng)采用ZDot?技術(shù),可同時(shí)采集高分辨率3D數(shù)據(jù)和True Color(真彩)無(wú)限遠(yuǎn)焦點(diǎn)圖像。Zeta-300具備Multi-Mode(多模式)光學(xué)系統(tǒng)、簡(jiǎn)單易用的軟件、以及低擁有成本,適用于研發(fā)及生產(chǎn)環(huán)境。
P-17支持從幾納米到一毫米的臺(tái)階高度測(cè)量,適用于生產(chǎn)和研發(fā)環(huán)境。該系統(tǒng)可以對(duì)臺(tái)階高度、粗糙度、翹曲度和應(yīng)力進(jìn)行2D和3D測(cè)量,其掃描可達(dá)200mm而無(wú)需圖像拼接。
P-7支持從幾納米到一毫米的臺(tái)階高度測(cè)量,適用于生產(chǎn)和研發(fā)環(huán)境。該系統(tǒng)可以對(duì)臺(tái)階高度、粗糙度、翹曲度和應(yīng)力進(jìn)行2D和3D測(cè)量,其掃描可達(dá)150mm而無(wú)需圖像拼接。
Alpha-Step D-600探針式輪廓儀能夠測(cè)量從幾納米到1200微米的2D和3D臺(tái)階高度。 D-600還可以在研發(fā)和生產(chǎn)環(huán)境中支持粗糙度、翹曲度和應(yīng)力的2D和3D測(cè)量。 D-600包括一個(gè)電動(dòng)200毫米樣品卡盤和先進(jìn)的光學(xué)系統(tǒng)以及加強(qiáng)視頻控制。
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晶圓幾何形貌測(cè)量及參數(shù)自動(dòng)檢測(cè)機(jī)使用高精度高速光譜共焦雙探頭對(duì)射傳感器實(shí)現(xiàn)晶圓的非接觸式測(cè)量,結(jié)合高精度運(yùn)動(dòng)模組及晶圓機(jī)械手可實(shí)現(xiàn)晶圓形貌的亞微米級(jí)精度的測(cè)量,該系統(tǒng)適用于晶圓多種材質(zhì)的晶圓,包括藍(lán)寶石、GaAs、GaN、SiC 以及 Si 等;
晶圓幾何形貌及參數(shù)自動(dòng)檢測(cè)機(jī)PLS- F1000/ F1002 是一款專門測(cè)量晶圓厚度、TTV, Bow, Warp, TIR, Sori, Sag, LTV等參數(shù)的自動(dòng)晶圓形貌檢測(cè)及分選機(jī)。