紫外臭氧清洗機（UVOzone Cleaner, UVO），是一種簡單，經(jīng)濟，快速高效的材料表面清洗設(shè)備，能快速去除大多數(shù)無機基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）表面上的有機污染物。

CIF專為處理粉體如粉狀、顆粒狀材料樣品而設(shè)計的粉體專用等離子清洗機，可以高效率地處理微細的甚至分子級別的超細粉體材料，改變傳統(tǒng)真空等離子清洗機無法處理粉體樣品的問題。

CIF 掃描電鏡（SEM）等離子清洗機采用遠程等離子清洗源 設(shè)計，清洗快速、高效、低轟擊損傷，主要用于 SEM 或 FIB 等腔 體內(nèi)碳氫化合物的清洗。

CIF 透射電鏡（TEM）樣品桿清洗機采用遠程離子清洗源 設(shè)計，清洗快速高效， 低轟擊損傷， 同時可實現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。 主要用于 TEM透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。

CIF 推出的旋涂機系列產(chǎn)品轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動迅速，旋涂均勻，操作簡單，結(jié)構(gòu)緊湊實用，為實驗室提供了理想的解決方案。

CIF 推出的新一代科研型等離子清洗設(shè)備，合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計，優(yōu)化的腔體尺寸，使得處理樣品更大，適用范圍更廣。CIF等離子清洗機F系列性能穩(wěn)定，操作簡單方便，易維護。

YES–G1000是并行電容性等離子系統(tǒng)，旨在提供ZJ的等離子模式靈活性。

臺式等離子剝離/除渣系統(tǒng)利用低頻，下游和電容性等離子工藝。避免使用有毒的化學(xué)藥品，以進行溫和的“除垢”清潔以及強韌的光刻膠，聚酰亞胺和BCB的QL等離子體剝離。通過濕法工藝可獲得更高的產(chǎn)量和可重復(fù)的結(jié)...