電子增材打印設備是一種先進的增材制造設備，主要應用于顯示、半導體封裝、新能源鋰電等行業(yè)，可打印具有電子功能的微納米級特征結構，被視為增材制造領域的下一個前沿?！肝骱磥碇窃臁雇ㄓ眯碗娮釉霾拇蛴∑脚_，采...

提供了一種方便的方法來創(chuàng)建納米模式，而無需使用緩慢且昂貴的光掩膜。這對于研究和快速原型設計特別有用。

紫外臭氧清洗機（UVOzone Cleaner, UVO），是一種簡單，經(jīng)濟，快速高效的材料表面清洗設備，能快速去除大多數(shù)無機基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）表面上的有機污染物。

CIF專為處理粉體如粉狀、顆粒狀材料樣品而設計的粉體專用等離子清洗機，可以高效率地處理微細的甚至分子級別的超細粉體材料，改變傳統(tǒng)真空等離子清洗機無法處理粉體樣品的問題。

CIF 掃描電鏡（SEM）等離子清洗機采用遠程等離子清洗源 設計，清洗快速、高效、低轟擊損傷，主要用于 SEM 或 FIB 等腔 體內(nèi)碳氫化合物的清洗。

CIF 透射電鏡（TEM）樣品桿清洗機采用遠程離子清洗源 設計，清洗快速高效， 低轟擊損傷， 同時可實現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。 主要用于 TEM透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。

CIF 推出的旋涂機系列產(chǎn)品轉速穩(wěn)定、啟動迅速，旋涂均勻，操作簡單，結構緊湊實用，為實驗室提供了理想的解決方案。

CIF烤膠機是一種控溫加熱 設備。主要用于半導體硅片， 載玻片，晶片，基片，ITO 導 電玻璃等工藝的制版的表面涂 覆后薄膜烘干、固化。

CIF推出全新一代 CPC-G系列實驗室型等離子體清洗設備， 改變傳統(tǒng)等離子體清洗設備設計理念。CIF實驗室型等離子清洗機具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積， 使用成本低， 性價比高， 處理快速高

CIF 推出的中試生產(chǎn)型等離子清洗機是為研發(fā)型客戶和工業(yè)級客 戶而設計的等離子體表面處理設備。配置豐富， 且真空腔體里可分層， 適合大多數(shù)生產(chǎn)場景清洗，活化、刻蝕等應用。設備可在嚴苛環(huán)境下 穩(wěn)定運行，

CIF 推出的新一代科研型等離子清洗設備，合理的結構設計，優(yōu)化的腔體尺寸，使得處理樣品更大，適用范圍更廣。CIF等離子清洗機F系列性能穩(wěn)定，操作簡單方便，易維護。