電子增材打印設(shè)備是一種先進(jìn)的增材制造設(shè)備，主要應(yīng)用于顯示、半導(dǎo)體封裝、新能源鋰電等行業(yè)，可打印具有電子功能的微納米級(jí)特征結(jié)構(gòu)，被視為增材制造領(lǐng)域的下一個(gè)前沿。「西湖未來智造」通用型電子增材打印平臺(tái)，采...

提供了一種方便的方法來創(chuàng)建納米模式，而無需使用緩慢且昂貴的光掩膜。這對(duì)于研究和快速原型設(shè)計(jì)特別有用。

紫外臭氧清洗機(jī)（UVOzone Cleaner, UVO），是一種簡(jiǎn)單，經(jīng)濟(jì)，快速高效的材料表面清洗設(shè)備，能快速去除大多數(shù)無機(jī)基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）表面上的有機(jī)污染物。

CIF專為處理粉體如粉狀、顆粒狀材料樣品而設(shè)計(jì)的粉體專用等離子清洗機(jī)，可以高效率地處理微細(xì)的甚至分子級(jí)別的超細(xì)粉體材料，改變傳統(tǒng)真空等離子清洗機(jī)無法處理粉體樣品的問題。

CIF 掃描電鏡（SEM）等離子清洗機(jī)采用遠(yuǎn)程等離子清洗源 設(shè)計(jì)，清洗快速、高效、低轟擊損傷，主要用于 SEM 或 FIB 等腔 體內(nèi)碳?xì)浠衔锏那逑础?/p>

CIF 透射電鏡（TEM）樣品桿清洗機(jī)采用遠(yuǎn)程離子清洗源 設(shè)計(jì)，清洗快速高效， 低轟擊損傷， 同時(shí)可實(shí)現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。 主要用于 TEM透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。

CIF 推出的旋涂機(jī)系列產(chǎn)品轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動(dòng)迅速，旋涂均勻，操作簡(jiǎn)單，結(jié)構(gòu)緊湊實(shí)用，為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案。

CIF烤膠機(jī)是一種控溫加熱 設(shè)備。主要用于半導(dǎo)體硅片， 載玻片，晶片，基片，ITO 導(dǎo) 電玻璃等工藝的制版的表面涂 覆后薄膜烘干、固化。

CIF推出全新一代 CPC-G系列實(shí)驗(yàn)室型等離子體清洗設(shè)備， 改變傳統(tǒng)等離子體清洗設(shè)備設(shè)計(jì)理念。CIF實(shí)驗(yàn)室型等離子清洗機(jī)具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積， 使用成本低， 性價(jià)比高， 處理快速高

CIF 推出的中試生產(chǎn)型等離子清洗機(jī)是為研發(fā)型客戶和工業(yè)級(jí)客 戶而設(shè)計(jì)的等離子體表面處理設(shè)備。配置豐富， 且真空腔體里可分層， 適合大多數(shù)生產(chǎn)場(chǎng)景清洗，活化、刻蝕等應(yīng)用。設(shè)備可在嚴(yán)苛環(huán)境下 穩(wěn)定運(yùn)行，

CIF 推出的新一代科研型等離子清洗設(shè)備，合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，優(yōu)化的腔體尺寸，使得處理樣品更大，適用范圍更廣。CIF等離子清洗機(jī)F系列性能穩(wěn)定，操作簡(jiǎn)單方便，易維護(hù)。

光掩模光刻可以隨意進(jìn)行納米圖案化，而不需要 緩慢且昂貴的光掩模。 這種便利對(duì)于研究和快速 原型制作特別有用。 POLOS? Beam 在不影響 性能的情況下將其帶到桌面上，從而補(bǔ)充了現(xiàn)有 的優(yōu)勢(shì)。

表面涂層：等離子體聚合

完全可編程，可控制薄膜涂層的所有功能。

臺(tái)式超聲霧化器噴嘴發(fā)生器，內(nèi)置VMD液滴模擬器和菜單，用于選擇Z多八個(gè)噴嘴和操作功能。