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應(yīng)用方案

儀器網(wǎng)/ 應(yīng)用方案/ 電子級(jí)氫氟酸雜質(zhì)含量檢測(cè)方案(ICP-MS)

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引言

高純氫氟酸為強(qiáng)酸性清洗、腐蝕劑,可與硝酸、冰醋酸、雙氧水及氫氧化銨等配置使用,主要應(yīng)用于集成電路(IC)和超大規(guī)模集成電路(VLSI)芯片的清洗和腐蝕,是微電子行業(yè)制作過(guò)程中的關(guān)鍵性基礎(chǔ)化工材料之一,還可用作分析試劑和制備高純度的含氟化學(xué)品。目前,在國(guó)內(nèi)基本上是作為蝕刻劑和清洗劑用于微電子行業(yè),其他方面用量較少。

方案依據(jù)SJ/T 11637--2016電子化學(xué)品電感耦合等離子體質(zhì)譜法通則

方法原理

試樣溶液經(jīng)霧化系統(tǒng)霧化后形成氣溶膠,由載氣帶入等離子體內(nèi),在高溫和惰性氬氣氣氛中蒸發(fā)、汽化、解離和電離,轉(zhuǎn)化成帶正電荷的離子,經(jīng)離子采集系統(tǒng)進(jìn)入質(zhì)譜儀,按離子的質(zhì)荷比進(jìn)行分離,各離子質(zhì)譜峰的強(qiáng)度與樣品中相應(yīng)離子濃度成正比,可對(duì)各元素進(jìn)行定性或定量分析。

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