將各類膠液滴注于高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴在基片上的膠液通過離心力在基片上均勻地涂覆的設(shè)備，被叫做勻膠機。溶膠的黏度以及勻膠機的轉(zhuǎn)速對于膜的厚度起到?jīng)Q定性作用。

勻膠機試劑選取

能夠用來作為旋轉(zhuǎn)涂層的聚合物的種類有很多，在這當中PMMA為zui典型也zui簡單的聚合物，其分子量適度，能夠適度溶解于常見的溶劑。在這當中，較為典型的溶解溶劑即為溶劑三氯丙烷，然而因為其毒性問題造成了制備和質(zhì)量控制的麻煩?，F(xiàn)在常常通過環(huán)己酮試劑代替。如DMF等其他極性溶劑也較為常用。一般情況下，10-30%的聚合物在溶劑中溶解。溶液的粘度會受到溶劑的選擇和聚合物的分子量非常大的影響，從而對所制備的涂層厚度產(chǎn)生影響。

活性染料或化合物在旋涂用到的大多數(shù)溶液中都摻雜了。在非線性光學研究領(lǐng)域。分散紅和DANS為一般會摻雜的化合物。濃度為30%。

勻膠機響因素

通常而言，勻膠有著較快的轉(zhuǎn)速，較長的時間，以及膜厚較薄，對勻膠過程產(chǎn)生影響的可變因素非常多。在勻膠時，這些因素一般這些因素并趨于平衡。因此zui好給予勻膠過程以足夠的時間,使非常多的影響因素達到平衡?？芍貜托詾閯蚰z工藝中zui重要的一個因素。薄膜特性巨大的差異會因為微細的工藝參數(shù)變化而造成。

勻膠機應用

勻膠機在半導體硅片,載玻片,晶片,基片,ITO導電玻璃等工藝,制版的表面涂覆方面非常適用。勻膠機優(yōu)點為能夠較為迅速地啟動以及具有較為穩(wěn)定的轉(zhuǎn)速，并且可以使半導體材料中涂膠厚度的一致性和均勻性得到保證。一般配真空泵一起使用。