勻膠轉(zhuǎn)速是勻膠過(guò)程中Z重要的因素。基片的轉(zhuǎn)速（rpm）不僅影響到作用于光刻膠的離心力，而且還關(guān)系到緊挨著基片表面空氣的特有湍動(dòng)和基片與空氣的相對(duì)運(yùn)動(dòng)速度。光刻膠的Z終膜厚通常都由勻膠轉(zhuǎn)速所決定。尤其在高速旋轉(zhuǎn)這個(gè)階段，轉(zhuǎn)速±50rpm這樣微小變化就能造成Z終膜厚產(chǎn)生10%的偏差。

        膜厚在很大程度上是作用于液體光刻膠上﹑方向朝基片邊緣的剪刀力與影響光刻膠粘度的干燥（溶劑揮發(fā)）速率之間平衡的結(jié)果。隨著光刻膠中溶劑不斷揮發(fā)，粘度越來(lái)越大，直到基片旋轉(zhuǎn)作用于光刻膠的離心力不再能使光刻膠在基片表面移動(dòng)。到這個(gè)點(diǎn)上，膠膜厚度不會(huì)隨勻膠時(shí)間延長(zhǎng)而變薄。所有MYCRO WS-650Mz-23NPPB勻膠機(jī)規(guī)格要求在量程范圍內(nèi)無(wú)論選擇哪個(gè)速度勻膠轉(zhuǎn)速偏差不大于±1rpm。而通常實(shí)際偏差是±0.2rpm。而且，所有的控制程序和轉(zhuǎn)速顯示的分辨能力都是1rpm。